Sputtertargets werden in der Regel aus reinen Metallen, Legierungen oder Verbindungen wie Oxiden oder Nitriden hergestellt. Diese Materialien werden aufgrund ihrer Fähigkeit ausgewählt, dünne Schichten mit bestimmten Eigenschaften wie Leitfähigkeit, Härte oder optischen Merkmalen zu erzeugen.
Reine Metalle: Reinmetall-Sputtertargets werden verwendet, wenn ein einzelnes Metallelement für die Dünnschicht erforderlich ist. So können beispielsweise Kupfer- oder Aluminiumtargets zur Herstellung leitender Schichten in Halbleitern verwendet werden. Diese Targets gewährleisten eine hohe chemische Reinheit und werden häufig in Anwendungen eingesetzt, bei denen die Leitfähigkeit entscheidend ist.
Legierungen: Legierungen sind Mischungen aus zwei oder mehr Metallen und werden verwendet, wenn die Eigenschaften mehrerer Metalle in einer dünnen Schicht benötigt werden. So können beispielsweise Legierungen aus Gold und Palladium bei der Herstellung bestimmter elektronischer Bauteile verwendet werden, bei denen die Eigenschaften beider Metalle von Vorteil sind. Legierungen können maßgeschneidert werden, um bestimmte elektrische, thermische oder mechanische Eigenschaften in der Dünnschicht zu erzielen.
Verbindungen: Verbindungen wie Oxide (z. B. Titandioxid) oder Nitride (z. B. Siliziumnitrid) werden verwendet, wenn die dünne Schicht nichtmetallische Eigenschaften wie Isolierung oder Härte haben soll. Diese Materialien werden häufig bei Anwendungen eingesetzt, bei denen die dünne Schicht hohen Temperaturen standhalten oder vor Verschleiß schützen muss.
Die Wahl des Sputtertargetmaterials hängt von den gewünschten Eigenschaften der Dünnschicht und der jeweiligen Anwendung ab. So werden bei der Herstellung von Halbleitern in der Regel metallische Legierungen verwendet, um leitfähige Schichten zu erzeugen, während bei der Herstellung von dauerhaften Beschichtungen für Werkzeuge härtere Materialien wie Keramiknitride bevorzugt werden können.
Beim Sputtern werden gasförmige Ionen verwendet, um das feste Zielmaterial in kleine Partikel zu zerlegen, die einen Sprühnebel bilden, der dann das Substrat beschichtet. Diese Technik ist bekannt für ihre Reproduzierbarkeit und die Möglichkeit, den Prozess zu automatisieren, was sie zu einer beliebten Wahl für die Dünnschichtabscheidung in verschiedenen Branchen macht, darunter Elektronik und Optik.
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