Zu den Probenvorbereitungsgeräten von KinTek gehören das Zerkleinern und Mahlen von Proben sowie Geräte zum Sieben. Zu den hydraulischen Pressgeräten gehören manuelle Pressen, elektrische Pressen, isostatische Pressen, Heißpressen und Pressfiltermaschinen.
Details anzeigenKinTek liefert ein breites Sortiment an Hochtemperaturöfen, darunter Labor-, Pilotproduktions- und Industrieproduktionsöfen, mit einem Temperaturbereich von bis zu 3000 °C. Einer der Vorteile von KinTek ist die Möglichkeit, maßgeschneiderte Öfen zu erstellen, die auf bestimmte Funktionen zugeschnitten sind, wie z. B. unterschiedliche Heizmethoden und -geschwindigkeiten, besonders hohe und dynamische Vakuume, kontrollierte Atmosphären und Gaskreisläufe, automatisierte mechanische Strukturen sowie Software- und Hardware-Entwicklung.
Details anzeigenKinTek bietet eine Reihe von Laborverbrauchsmaterialien und -materialien an, darunter Verdampfungsmaterialien, Targets, Metalle, elektrochemische Teile sowie Pulver, Pellets, Drähte, Streifen, Folien, Platten und mehr.
Details anzeigenDie biochemische Ausrüstung von KinTek umfasst Rotationsverdampfer, Glas- und Edelstahlreaktoren, Destillationssysteme, Umlaufheizer und -kühler sowie Vakuumausrüstung.
Details anzeigenEin ausführlicher Leitfaden über die Definition, die Messmethoden, die Einflussfaktoren und die Geräte, die zur Bewertung der Schälfestigkeit von gesputterten Folienschichten verwendet werden.
Erörtert Methoden zur Gewährleistung der Schichtdickentoleranz bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung für eine optimale Materialleistung.
Ein eingehender Blick auf die Vor- und Nachteile der Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung und ihre verschiedenen Anwendungen in der Industrie.
Erörtert die Schwierigkeiten des TiN-Schichtwachstums mit Wechselstrom und schlägt Lösungen wie Gleichstromsputtern und gepulsten Gleichstrom vor.
Ein detaillierter Einblick in die Prinzipien, Arten, Gasanwendungen und praktischen Anwendungen von PVD-Beschichtungsverfahren.
Eine eingehende Untersuchung der Konstruktionsprinzipien von Dünnschichtsystemen, technologische Überlegungen und praktische Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
Analyse der Faktoren, die dazu führen, dass trotz Glühen beim Magnetronsputtern keine Schicht abgeschieden wird.
Erörtert die Schlüsselfaktoren, die die Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung beim Magnetronsputtern beeinflussen, einschließlich Geräteparameter, Sputterleistung, Gasdruck, Magnetfeldkonfiguration, Substrateigenschaften und mehr.