Wissen Was ist ein ITO-Target?
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 3 Monaten

Was ist ein ITO-Target?

Ein ITO-Target, das für Indium-Zinn-Oxid-Target steht, ist eine Art von Sputtertarget, das in der Dünnschichtindustrie verwendet wird. Es besteht aus einer Mischung aus Indiumoxid (In2O3) und Zinnoxid (SnO2) mit einem Gewichtsverhältnis von 90 % In2O3 und 10 % SnO2.

ITO ist aufgrund seiner Kombination aus elektrischer Leitfähigkeit und optischer Transparenz eine beliebte Wahl für Sputtertargets. Es wird häufig in Anwendungen wie Halbleiter-, Photovoltaik- und Beschichtungsanwendungen sowie in optischen Anwendungen eingesetzt.

Es gibt verschiedene Methoden zur Herstellung von ITO-Targets. Eine Methode ist das thermische Spritzen von Rotationstargets, wozu Plasma-, Lichtbogen- und Kältespritzverfahren gehören. Andere Herstellungsverfahren sind Gießen, Strangpressen und heißisostatisches Pressen (HIP)/Sintern.

Drehbare Targets, insbesondere zylindrische Targets, werden häufig bei der Herstellung großflächiger Beschichtungen für Architekturglas und Flachbildschirme verwendet. Diese Targets haben mehrere Vorteile gegenüber planaren Targets. Sie enthalten mehr Material, was zu längeren Produktionsläufen und geringeren Ausfallzeiten führt. Die Wärmeentwicklung wird gleichmäßig über die Oberfläche verteilt, was höhere Leistungsdichten und eine höhere Abscheidegeschwindigkeit ermöglicht. Dies führt zu einer verbesserten Leistung beim reaktiven Sputtern.

KINTEK ist ein Anbieter, der sich auf die Herstellung hochreiner ITO-Targets spezialisiert hat. Sie bieten maßgeschneiderte zylindrische Rotations-Sputter-Targets in verschiedenen Größen an, die von 2" bis zu 8,625" Durchmesser und Längen von wenigen Zoll bis zu 160 Zoll reichen. Die Targets werden mit Techniken wie Röntgenfluoreszenz (XRF), Glimmentladungs-Massenspektrometrie (GDMS) und induktiv gekoppeltem Plasma (ICP) analysiert, um höchste Qualität zu gewährleisten.

Um die beste Leistung zu erzielen und Risse oder Überhitzung zu vermeiden, wird empfohlen, das ITO-Target mit einer Trägerplatte zu verbinden. Zu den von KINTEK verwendeten Verfahren zur Herstellung von Verbundtargets gehören Vakuum-Heißpressen, heißisostatisches Pressen, kaltisostatisches Pressen und Kaltpresssintern. Die Targets können in verschiedenen Formen und Größen hergestellt werden, darunter rechteckig, ringförmig oder oval, je nach den spezifischen Anforderungen.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass ein ITO-Target ein Sputtertarget ist, das aus einer Mischung aus Indiumoxid und Zinnoxid besteht. Es wird in verschiedenen Branchen für die Abscheidung dünner Schichten verwendet und bietet eine Kombination aus elektrischer Leitfähigkeit und optischer Transparenz. ITO-Targets werden mit verschiedenen Methoden hergestellt und sind oft drehbar, was gegenüber planaren Targets Vorteile bei der Materialausnutzung und der Abscheidungsleistung bietet. KINTEK ist ein Lieferant, der sich auf die Herstellung hochreiner ITO-Targets in verschiedenen Größen und Formen spezialisiert hat.

Sie suchen nach hochwertigen ITO-Targets für Ihre Bedürfnisse in der Dünnschichtindustrie? Suchen Sie nicht weiter als KINTEK! Wir bieten eine breite Palette von ITO-Targets an, die mit fortschrittlichen Methoden wie der Rotationstarget-Herstellung und der Produktion von Verbundtargets hergestellt werden. Unsere Targets sind für optimale Leistung und Haltbarkeit ausgelegt. Vergessen Sie nicht, einen Blick auf unsere Trägerplatten für eine sichere Verbindung zu werfen. Wenden Sie sich noch heute an uns, wenn Sie das Beste an Laborausrüstung und -bedarf benötigen.

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