Wenn es um das Sputtern von Metallen geht, spielt Argongas eine entscheidende Rolle.
5 Hauptgründe, warum Argongas beim Metallsputtern verwendet wird
1. Inerte Natur
Argon ist ein inertes Gas, das heißt, es reagiert nicht leicht mit anderen Elementen.
Dies ist wichtig, da beim Sputtern die Gasionen mit dem Zielmaterial rekombinieren, um die abgeschiedene Schicht zu erzeugen.
Die Verwendung eines inerten Gases wie Argon stellt sicher, dass die Schicht nicht durch Reaktionen mit anderen Gasen verunreinigt wird.
2. Hohe Atommasse
Argon hat eine hohe Atommasse, die einen effektiven Beschuss des Zielmaterials ermöglicht.
Wenn ein Magnetfeld vorhanden ist, sammeln sich die Elektronen in diesem Feld und erzeugen eine hohe Elektronendichte.
Dadurch erhöht sich die Wahrscheinlichkeit, dass Elektronen mit Argon kollidieren, wodurch die Bildung positiv geladener Argon-Ionen (Ar+) beschleunigt wird.
Diese Ionen werden von dem negativ geladenen Target angezogen, was zu einer erhöhten Sputter- und Abscheidungsrate führt.
3. Kosten-Wirksamkeit
Argon ist relativ kostengünstig und in reiner Form weithin verfügbar.
Dies macht es zu einer kostengünstigen Option für Magnetron-Sputter-Anwendungen.
4. Optimales Atomgewicht
Das Atomgewicht der beim Sputtern verwendeten Gasionen sollte dem der Sputtertargetmoleküle ähnlich sein, um den Energie- und Impulsübertrag zu optimieren.
Argon ist aufgrund seines Atomgewichts für diesen Zweck gut geeignet.
5. Vielseitigkeit
Argon ist zwar das Hauptgas, das für das Sputtern gewählt wird, doch können gelegentlich auch andere Edelgase wie Krypton und Xenon verwendet werden, je nach den spezifischen Anforderungen der abzuscheidenden Dünnschicht.
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