Argon ist aus mehreren Gründen eine beliebte Wahl für das Sputtern.
4 Hauptgründe, warum Argon beim Sputtern verwendet wird
Hohe Sputtering-Rate
Argon hat eine hohe Zerstäubungsrate.
Das liegt daran, dass es ein Edelgas mit einer hohen Atommasse ist.
Eine hohe Atommasse bedeutet, dass Argon, wenn es ionisiert und auf das Target beschleunigt wird, beim Aufprall einen erheblichen Impuls überträgt.
Dies führt zu einem effizienten Ausstoß der Zielatome.
Inertes Wesen
Argon ist chemisch inert.
Das bedeutet, dass es nicht ohne Weiteres mit anderen Elementen reagiert.
Durch seine Inertheit wird das Risiko unerwünschter chemischer Reaktionen zwischen dem Sputtergas und dem Targetmaterial oder der wachsenden Schicht minimiert.
Dadurch wird sichergestellt, dass die abgeschiedene Schicht die gewünschte chemische Zusammensetzung und Eigenschaften beibehält.
Niedriger Preis und Verfügbarkeit
Argon ist im Vergleich zu anderen Edelgasen wie Krypton und Xenon relativ preiswert.
Seine weite Verbreitung und seine niedrigen Kosten machen es zu einer praktischen Wahl für Industrie- und Laboranwendungen.
Dieser wirtschaftliche Faktor ist von großer Bedeutung, insbesondere bei groß angelegten Fertigungsprozessen, bei denen die Materialkosten einen erheblichen Einfluss auf die Gesamtproduktionskosten haben können.
Verfügbarkeit von reinem Gas
Argon ist in hoher Reinheit erhältlich.
Ein hoher Reinheitsgrad ist wichtig, um zu verhindern, dass Verunreinigungen die Qualität der abgeschiedenen Schicht beeinträchtigen.
Verunreinigungen können die Eigenschaften der Schicht, wie z. B. ihre elektrische Leitfähigkeit oder optische Transparenz, beeinträchtigen.
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