Wissen Was ist Sputtern in der Materialwissenschaft?
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 3 Monaten

Was ist Sputtern in der Materialwissenschaft?

Sputtern ist ein physikalischer Prozess, bei dem Atome aus einem festen Zielmaterial durch den Beschuss mit energiereichen Ionen in die Gasphase geschleudert werden. Dieses Verfahren wird in großem Umfang für die Abscheidung von Dünnschichten und für verschiedene analytische Techniken verwendet. Der Mechanismus des Sputterns beruht auf dem Impulsaustausch zwischen den einfallenden Ionen und den Zielatomen, der zum Ausstoß von Atomen aus der Zieloberfläche führt.

Was ist Sputtern in der Materialwissenschaft?

Mechanismus des Sputterns:

Der Prozess des Sputterns kann als eine Reihe von Zusammenstößen auf atomarer Ebene dargestellt werden, ähnlich wie bei einem Billardspiel. Energetische Ionen (analog zur Billardkugel) treffen auf ein Zielmaterial (analog zu einer Ansammlung von Billardkugeln). Die Primärkollision überträgt Energie auf die Zielatome, wodurch eine Kaskade von Kollisionen innerhalb des Materials ausgelöst wird. Dadurch gewinnen einige Atome in der Nähe der Oberfläche genügend Energie, um die Bindungskräfte des Festkörpers zu überwinden, und werden herausgeschleudert.Sputter-Ausbeute:

Die Effizienz des Sputterprozesses wird durch die Sputterausbeute quantifiziert, d. h. die Anzahl der von der Oberfläche ausgestoßenen Atome pro einfallendem Ion. Zu den Faktoren, die die Sputterausbeute beeinflussen, gehören die Energie und Masse der einfallenden Ionen, die Masse der Zielatome und die Bindungsenergie des Festkörpers. Höhere Energie und Masse der einfallenden Ionen erhöhen im Allgemeinen die Sputterausbeute.

Anwendungen des Sputterns:

Sputtern wird in großem Umfang für die Abscheidung dünner Schichten eingesetzt, die in verschiedenen Branchen wie Elektronik, Optik und Nanotechnologie von entscheidender Bedeutung sind. Die Technik ermöglicht die präzise Abscheidung von Materialien bei niedrigen Temperaturen und eignet sich daher für die Beschichtung empfindlicher Substrate wie Glas, Metalle und Halbleiter. Sputtern wird auch in Analysetechniken und Ätzverfahren eingesetzt und ermöglicht die Herstellung komplizierter Muster und Strukturen.Arten von Sputtering-Techniken:

Ähnliche Produkte

Spark-Plasma-Sinterofen SPS-Ofen

Spark-Plasma-Sinterofen SPS-Ofen

Entdecken Sie die Vorteile von Spark-Plasma-Sinteröfen für die schnelle Materialvorbereitung bei niedrigen Temperaturen. Gleichmäßige Erwärmung, niedrige Kosten und umweltfreundlich.

Hochreines Iridium (Ir)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Iridium (Ir)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Iridium (Ir)-Materialien für den Laborgebrauch? Suchen Sie nicht weiter! Unsere fachmännisch hergestellten und maßgeschneiderten Materialien sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Schauen Sie sich unser Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr an. Holen Sie sich noch heute ein Angebot ein!

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach erschwinglichen Eisenmaterialien (Fe) für den Laborgebrauch? Unser Produktsortiment umfasst Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr in verschiedenen Spezifikationen und Größen, maßgeschneidert auf Ihre spezifischen Bedürfnisse. Kontaktiere uns heute!

Hochreines Zinn (Sn) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Zinn (Sn) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Zinn (Sn)-Materialien für den Laborgebrauch? Unsere Experten bieten anpassbare Zinn (Sn)-Materialien zu angemessenen Preisen. Schauen Sie sich noch heute unser Angebot an Spezifikationen und Größen an!

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi).

Entdecken Sie unsere Materialien aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi) für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Unser Fachwissen ermöglicht es uns, maßgeschneiderte Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe herzustellen. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Sputtertargets, Pulvern und mehr.

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Kupfer-Zirkonium-Legierung (CuZr).

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Kupfer-Zirkonium-Legierung (CuZr).

Entdecken Sie unser Angebot an Kupfer-Zirkonium-Legierungsmaterialien zu erschwinglichen Preisen, maßgeschneidert auf Ihre individuellen Anforderungen. Stöbern Sie in unserer Auswahl an Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr.

Zinksulfid (ZnS) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Zinksulfid (ZnS) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie erschwingliche Materialien aus Zinksulfid (ZnS) für Ihren Laborbedarf. Wir produzieren und passen ZnS-Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe an. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.

Zinnsulfid (SnS2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Zinnsulfid (SnS2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Finden Sie hochwertige Zinnsulfid-Materialien (SnS2) für Ihr Labor zu erschwinglichen Preisen. Unsere Experten produzieren und passen Materialien an Ihre spezifischen Bedürfnisse an. Schauen Sie sich unser Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr an.

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

Hochreines Platin (Pt) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Platin (Pt) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Sputtertargets, Pulver, Drähte, Blöcke und Granulate aus hochreinem Platin (Pt) zu erschwinglichen Preisen. Maßgeschneidert auf Ihre spezifischen Bedürfnisse mit verschiedenen Größen und Formen für verschiedene Anwendungen.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Kohlenstoff (C).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Kohlenstoff (C).

Suchen Sie nach erschwinglichen Kohlenstoff (C)-Materialien für Ihren Laborbedarf? Suchen Sie nicht weiter! Unsere fachmännisch hergestellten und maßgeschneiderten Materialien sind in verschiedenen Formen, Größen und Reinheiten erhältlich. Wählen Sie aus Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.

Hochreines Bor (B)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Bor (B)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie erschwingliche Bor (B)-Materialien, die auf Ihre spezifischen Laboranforderungen zugeschnitten sind. Unsere Produkte reichen von Sputtertargets bis hin zu 3D-Druckpulvern, Zylindern, Partikeln und mehr. Kontaktiere uns heute.

Hochreines Silizium (Si)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Silizium (Si)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Silizium (Si)-Materialien für Ihr Labor? Suchen Sie nicht weiter! Unsere maßgeschneiderten Silizium (Si)-Materialien sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Stöbern Sie in unserer Auswahl an Sputtertargets, Pulvern, Folien und mehr. Jetzt bestellen!

Hochreines Zink (Zn)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Zink (Zn)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Finden Sie hochwertige Zink (Zn)-Materialien für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Unsere Experten produzieren und passen Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe an Ihre Bedürfnisse an. Stöbern Sie in unserem Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien und mehr.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht