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Hochreiner Labor-Gasreiniger für Inertgasatmosphäre und ultra-saubere Prozessgase

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Hochreiner Labor-Gasreiniger für Inertgasatmosphäre und ultra-saubere Prozessgase

Artikelnummer : KT-JH

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Auslass-Verunreinigungswerte
O2 ≤ 0,05 ppm, H2O ≤ 0,1 ppm
Nenndurchflussrate
10 – 100 L/min
Betriebsgasdruck
0,3 – 0,8 MPa
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Produktübersicht

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Dieses hochreine Gasreinigungssystem wurde entwickelt, um Spurenverunreinigungen aus Inert- und Prozessgasen zu eliminieren und ultrasaubere Umgebungen zu schaffen, die für die empfindliche Laborforschung und die Fertigung im Pilotmaßstab unerlässlich sind. Durch den Einsatz fortschrittlicher mehrstufiger katalytischer Desoxidations- und Molekularsieb-Adsorptionssäulen reduziert das Gerät den Feuchtigkeits- (H2O) und Sauerstoffgehalt (O2) kontinuierlich auf unter 0,1 Teile pro Million (ppm). Sein robustes Design bietet eine kompromisslose Lösung für Einrichtungen, die eine zuverlässige, stabile und kosteneffiziente Reingaserzeugung nach Bedarf benötigen, ohne von hochreinen Spezialgasflaschen abhängig zu sein.

Die Einheit wurde speziell für anspruchsvolle Forschungs- und Produktionsumgebungen entwickelt und lässt sich nahtlos in Hochtemperatur-Rohröfen, Muffelöfen mit kontrollierter Atmosphäre, Reaktoren für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD/PECVD), Handschuhkasten-Containmentsysteme und Systeme für die additive Fertigung integrieren. Zu den Zielsektoren gehören die Halbleiterfertigung, die Lithium-Ionen-Batterieforschung, die fortschrittliche Optoelektronik, die Präzisionsmetallurgie und Laboratorien zur Katalysatorcharakterisierung. In allen diesen Bereichen ist die Verhinderung unerwünschter Oxidation, Nitrierung oder Verschlechterung durch Luftfeuchtigkeit von entscheidender Bedeutung für die experimentelle Reproduzierbarkeit und die Produktionsausbeute.

Das System wurde mit dem Schwerpunkt auf kontinuierlicher Betriebsfestigkeit entwickelt und verfügt über vollautomatische Doppel-Säulen-Regenerationskapazitäten, pneumatische Ventilblöcke in Industriequalität und hochpräzise Überwachungsinstrumente. Die robuste Edelstahl-Fluidführungsarchitektur gewährleistet Lecksicherheit auch unter erhöhten Betriebsdrücken. Durch die Aufrechterhaltung einer kontinuierlichen Filtration und Regeneration ohne Unterbrechung der nachgeschalteten Gasversorgung gibt dieses Gerät Forschern und Prozessingenieuren absolute Sicherheit bei der langfristigen Atmosphärensteuerung während längerer thermischer Behandlungen und analytischer Auswertungen.

Hauptmerkmale

  • Tiefen-Gasreinigung im Sub-PPM-Bereich: Nutzt katalytische Getter-Technologie und synthetische Molekularsiebe zur gleichzeitigen Desoxidation und Dehydratisierung und senkt sowohl Sauerstoff- als auch Feuchtigkeitswerte über kontinuierliche Betriebszyklen hinweg zuverlässig auf weniger als 0,1 ppm (<100 ppb).
  • Kontinuierlicher zyklischer Zweisäulenbetrieb: Verfügt über Zwillingsadsorptionssäulen, die für wechselnden Reinigungs- und Regenerationsbetrieb konfiguriert sind, wodurch eine unterbrechungsfreie nachgeschaltete Abgabe von hochreinem Gas bei langwierigen Hochtemperaturprozessen gewährleistet wird.
  • Automatisierte thermische Regeneration: Ausgestattet mit integrierten hocheffizienten Heizmänteln und programmierbaren Mikro-Spülsteuerungen, die gesättigte Adsorptionsmittelbetten automatisch vollständig regenerieren, ohne dass eine Demontage oder ein manueller Katalysatorwechsel erforderlich ist.
  • Ganzmetall-Ultrahochvakuum-Verrohrung (UHV): Konstruiert aus elektropoliertem 316L-Edelstahlrohr, orbital geschweißten Verbindungen und metallisch dichtenden Stirnflächendichtungsverschraubungen (VCR/Kompression), um Helium-Leckraten unter 1×10⁻⁹ mbar·L/s zu garantieren.
  • Echtzeit-Taupunkt- und Sauerstoffüberwachung: Integriert hochpräzise elektrochemische Spurensauerstoffsensoren und keramische Taupunkt-Messumformer, die eine kontinuierliche digitale Überprüfung der Gasqualität direkt auf dem zentralen Touchscreen-Display ermöglichen.
  • Intelligente SPS-Steuerung mit intuitiver HMI: Verwendet eine industrielle speicherprogrammierbare Steuerung in Kombination mit einer Vollfarb-Mensch-Maschine-Schnittstelle und bietet automatische Druckregelung, Ein-Tasten-Start/Stopp-Routinen, Fehlerdiagnose und automatische Sicherheitsverriegelungen.
  • Überdruck- und Durchflusssicherheitsverriegelungen: Entwickelt mit mehrstufigen ausfallsicheren Mechanismen wie automatischen pneumatischen Absperrventilen, mechanischen Überdruck-Sicherheitsventilen sowie akustisch-visuellen Schwellenwertalarmen zur Verhinderung von nachgeschalteter Kontamination oder Systemüberdruck.
  • Vielseitige Speisegaskompatibilität: In der Lage, ein breites Spektrum an technischen Gasen und Trägergasen zu reinigen, einschließlich reinem Argon, Stickstoff, Helium und Formiergasen, wodurch Standard-Industriegasflaschen in Versorgungsleitungen für Forschungszwecke verwandelt werden.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
Halbleiter- & Dünnschicht-Epitaxie Liefert hochreines Argon- oder Stickstoffträgergas während der Waferverarbeitung direkt in CVD-, PECVD- und ALD-Kammern. Verhindert Substratoxidation, minimiert Pinhole-Defekte und gewährleistet eine hohe Schichtgleichmäßigkeit über empfindliche atomare Schichten hinweg.
Thermische Verarbeitung unter Inertgasatmosphäre Reinigt Schutzgasströme für Rohröfen, Vakuum-Atmosphärenöfen und Dental-Sinteranlagen zur Verarbeitung reaktiver Legierungen. Eliminiert Zunderbildung und Entkohlung von Oberfläche auf Titan, Zirkonium und refraktären Superlegierungen bei Hochtemperaturprozessen.
F&E für Lithium- & Festkörperbatterien Konditioniert Schutzatmosphären in Handschuhkästen, Pouch-Zell-Montagelinien und Elektrolyt-Formulierungsstationen. Schützt feuchtigkeitsempfindliche Lithium-Metall-Anoden und Festelektrolyt-Chemien vor katastrophalem Feuchtigkeitsabbau.
Glasfaser- & Photovoltaik-Herstellung Reinigt die Prozessatmosphäre beim Ziehen von Preformen, beim Silizium-Ingot-Guss und bei der Abscheidung passivierter Wafer-Kontaktschichten. Verhindert Hydroxyl-Absorptionsbanden (OH) in Quarzglas und bewahrt die Ladungsträgerlebensdauer in Hocheffizienz-Solarzellen.
Additive Fertigung & 3D-Druck Rezirkuliert und verfeinert Inertschutzgase in Baukammern für selektives Laserschmelzen (SLM) und Elektronenstrahlschmelzen (EBM). Hält den Sauerstoffgehalt außergewöhnlich niedrig, um Spritzer, Porosität und Versprödung beim Drucken reaktiver Metalle zu verhindern.
Analytische Instrumenten-Trägergasversorgung Bietet ultrastabile, feuchtigkeitsfreie Trägergasströme für Gaschromatographie (GC-MS), optische Emissionsspektrometrie (OES) und TGA. Senkt das Grundrauschen, verhindert Säulenbluten, verlängert die Lebensdauer von Analysedetektoren und erhöht die quantitative Reproduzierbarkeit.
Katalyse & Nanomaterialsynthese Liefert saubere Reaktionsatmosphären bei der Katalysatorreduktion, Kalzinierung und Hochdrucksynthese von Kohlenstoffnanoröhren (CNT). Eliminiert die kompetitive Vergiftung aktiver Katalysatorzentren durch verbliebenen Sauerstoff und organische Feuchtigkeitsverunreinigungen.

Technische Daten

Spezifikationsparameter KT-JH-10 KT-JH-30 KT-JH-60 KT-JH-100
Artikelnummer KT-JH-10 KT-JH-30 KT-JH-60 KT-JH-100
Kompatibilität gereinigter Gase Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2
Nenn-Durchflussmenge 10 L/min (0.6 m³/h) 30 L/min (1.8 m³/h) 60 L/min (3.6 m³/h) 100 L/min (6.

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