Erörtert die Schwierigkeiten des TiN-Schichtwachstums mit Wechselstrom und schlägt Lösungen wie Gleichstromsputtern und gepulsten Gleichstrom vor.
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Ein detaillierter Einblick in die Prinzipien, Arten, Gasanwendungen und praktischen Anwendungen von PVD-Beschichtungsverfahren.
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Eine eingehende Untersuchung der Konstruktionsprinzipien von Dünnschichtsystemen, technologische Überlegungen und praktische Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
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Analyse der Faktoren, die dazu führen, dass trotz Glühen beim Magnetronsputtern keine Schicht abgeschieden wird.
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Erörtert die Schlüsselfaktoren, die die Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung beim Magnetronsputtern beeinflussen, einschließlich Geräteparameter, Sputterleistung, Gasdruck, Magnetfeldkonfiguration, Substrateigenschaften und mehr.
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Leitlinien zur Auswahl der richtigen Vakuumbeschichtungsmaterialien auf der Grundlage von Anwendung, Materialeigenschaften, Beschichtungsmethoden, Wirtschaftlichkeit, Substratverträglichkeit und Sicherheit.
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Untersucht die Gründe, warum Rhenium-Targets beim Magnetron-Sputtern nicht glühen, und bietet Optimierungsvorschläge.
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Schlüsselparameter, die den Sputtereffekt beim Magnetronsputtern beeinflussen, einschließlich Luftdruck, Leistung, Targetabstand, Substrattyp und mehr.
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Erforschung von Farbvariationen, Kontrollmethoden und praktischen Anwendungen von Siliziumoxid-Dünnschichten.
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Richtlinien und Vorsichtsmaßnahmen für die Herstellung von PZT-Schichten durch Magnetronsputtern.
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Schlüsselfaktoren für eine erfolgreiche Verdunstungsbeschichtung auf flexiblen Materialien, die Qualität und Leistung gewährleisten.
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Überblick über die Arten der Bias-Stromversorgung beim Magnetronsputtern und ihre Rolle bei der Verbesserung der Schichthaftung und -dichte.
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Dieser Artikel erläutert die Unterschiede und Anwendungen von DC-, MF- und RF-Sputtertechniken bei der Dünnschichtpräparation.
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Erklärt, warum das Targetmaterial beim Magnetronsputtern Funken schlägt und bietet Lösungen an, um dies zu verhindern.
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Ein eingehender Blick auf die Sputtering-Beschichtungstechnologie, ihre Mechanismen, Arten und Anwendungen.
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Überblick über die CVD-Technologie, ihre Grundsätze, Arten, Anwendungen, Verfahrensmerkmale und Vorteile.
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Ein Überblick über die Techniken der Dünnschichtabscheidung mit Schwerpunkt auf den Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) in der Halbleiterherstellung.
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Dieser Artikel beschreibt verschiedene CVD-Technologien, die in der Halbleiter- und Dünnschichtindustrie eingesetzt werden.
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Untersucht die Auswirkungen von MPCVD-gezüchteten Diamanten auf verschiedene Branchen und Strategien zur Kostensenkung und Effizienzsteigerung.
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Wichtige Überlegungen bei der Auswahl einer MPCVD-Anlage für das Diamantwachstum.
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Eine eingehende Untersuchung der MPCVD-Technologie, ihrer Komponenten, Vorteile und Faktoren, die das Filmwachstum beeinflussen.
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Erörtert verschiedene Heizmethoden im Labor und ihre Eignung für verschiedene Experimente.
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Ein eingehender Blick auf die hydraulische Heißpresse, ihre Komponenten, Merkmale, Vorteile und Anwendungen.
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Detaillierte Sicherheits- und Betriebsrichtlinien für den Einsatz einer Flachbett-Heißpresse bei Laminierungsversuchen, einschließlich Prüfungen vor dem Einsatz, Materialvorbereitung, Heizverfahren und Nachbearbeitung.
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Ein umfassender Leitfaden zur Vorbereitung von Proben für die Infrarotspektroskopie, der Gas-, Flüssigkeits- und Feststoffproben abdeckt.
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Ein Überblick über die Methoden der Infrarotspektroskopie mit Schwerpunkt auf dem Pressverfahren und der Probenvorbereitung mit Kaliumbromid.
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Detaillierte Sicherheitsvorkehrungen und Arbeitsschritte für den Einsatz einer Flachheizpresse bei Laminierungsversuchen.
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Ein Überblick über die vielfältigen Anwendungen der Technologie des isostatischen Kaltpressens in verschiedenen Branchen.
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Erläutert den Mechanismus, die Faktoren und das Verfahren des isostatischen Kaltpressens beim Pulverpressen.
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Untersucht den Einsatz der HIP-Technologie in der Spezialkeramik mit Schwerpunkt auf Zubereitung, Eigenschaften und Industrietrends.
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