Wissen Welches Gas wird bei der Sputterbeschichtung verwendet?
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Woche

Welches Gas wird bei der Sputterbeschichtung verwendet?

Bei der Sputterabscheidung wird in erster Linie ein Inertgas, in der Regel Argon, verwendet, da es ein hohes Molekulargewicht und effiziente Impulsübertragungseigenschaften besitzt. Für leichtere Elemente wird Neon bevorzugt, während für schwerere Elemente Krypton oder Xenon verwendet wird. Reaktive Gase wie Sauerstoff oder Stickstoff können ebenfalls verwendet werden, wenn der Prozess die Bildung von Verbindungen erfordert.

Argon als primäres Sputtergas:

Argon wird in der Regel für die Sputterabscheidung verwendet, da es ein inertes Gas ist, das nicht mit dem Zielmaterial oder dem Substrat chemisch reagiert. Aufgrund seines hohen Molekulargewichts im Vergleich zu anderen Inertgasen wie Helium oder Neon ist es effektiver bei der Impulsübertragung auf das Targetmaterial, wodurch die Sputtereffizienz erhöht wird. Diese Impulsübertragung erfolgt, wenn Argon-Ionen, die durch ein elektrisches Feld beschleunigt werden, mit dem Zielmaterial zusammenstoßen, wodurch Atome oder Moleküle herausgeschleudert werden und sich auf dem Substrat ablagern.Verwendung von Neon, Krypton und Xenon:

Für leichtere Zielmaterialien wird manchmal Neon als Sputtergas verwendet, da sein Atomgewicht näher an dem der leichteren Elemente liegt, wodurch der Impulsübertragungsprozess optimiert wird. Für schwerere Targetmaterialien werden Krypton oder Xenon bevorzugt, da ihr Atomgewicht näher an dem dieser Elemente liegt, was einen effizienteren Sputterprozess gewährleistet.

Reaktive Gase bei der Sputterabscheidung:

Wenn das Ziel des Abscheidungsprozesses die Herstellung einer Verbindung und nicht eines reinen Elements ist, werden reaktive Gase wie Sauerstoff oder Stickstoff in die Kammer eingeleitet. Diese Gase reagieren chemisch mit den gesputterten Atomen, entweder auf der Oberfläche des Targets, während des Flugs oder auf dem Substrat, um die gewünschte Verbindung zu bilden. Die Auswahl und Steuerung dieser reaktiven Gase ist von entscheidender Bedeutung, da sie die chemische Zusammensetzung und die Eigenschaften der abgeschiedenen Schicht direkt beeinflussen.

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