Artikel
Leitlinien für die Verwendung von Bornitrid-Tiegeln
vor 2 MonatenAnweisungen für die ordnungsgemäße Verwendung, Vorsichtsmaßnahmen und Kompatibilität von Bornitridtiegeln.
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Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtungstechnologie und Materialauswahl
vor 2 MonatenEin detaillierter Einblick in die Prinzipien und Anwendungen der Elektronenstrahl-Beschichtungstechnologie, einschließlich der Materialauswahl und der verschiedenen Anwendungsbereiche.
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Elektronenstrahlverdampfung:Fortgeschrittene Dünnschichtherstellung
vor 2 MonatenErforscht die Technologie und Anwendungen der Elektronenstrahlverdampfung in der Dünnschichtproduktion.
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Elektronenstrahl-Verdampfungsbeschichtung:Grundsätze, Merkmale und Anwendungen
vor 2 MonatenEine eingehende Analyse der Elektronenstrahl-Beschichtungstechnologie, ihrer Vorteile, Nachteile und Anwendungen in der Dünnschichtherstellung.
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Elektronenstrahl-Verdampfungstechnologie in der Vakuumbeschichtung
vor 2 MonatenEin eingehender Blick auf die Elektronenstrahlverdampfung, ihre Arten, Vorteile und Nachteile bei Vakuumbeschichtungsverfahren.
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Umfassender Überblick über Vakuumverdampfungssysteme
vor 2 MonatenEin ausführlicher Überblick über Vakuumverdampfungssysteme, ihre Prinzipien, Komponenten und Anwendungen.
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Verdampfungsplattieren, Sputtering-Plattieren und Ionenplattieren verstehen
vor 2 MonatenEin detaillierter Vergleich von Aufdampf-, Sputtering- und Ionenplattierungsverfahren, deren Prinzipien, Typen und Eigenschaften.
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Herausforderungen bei der Entwicklung und Anwendung von Tantal in Vakuumbeschichtungsanlagen
vor 2 MonatenIn diesem Artikel wird die Rolle von Tantal in Vakuumbeschichtungsanlagen erörtert, wobei der Schwerpunkt auf seinen Eigenschaften, den Herausforderungen bei der Herstellung und seinen wichtigen Anwendungen in Branchen wie der OLED-Bildschirmherstellung liegt.
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Erkundung verschiedener Vakuumbeschichtungstechnologien:Verdampfung, Sputtern und Ionenbeschichtung
vor 2 MonatenDieser Artikel befasst sich mit den verschiedenen Vakuumbeschichtungstechnologien, wobei der Schwerpunkt auf dem Aufdampfen, Sputtern und Ionenplattieren liegt, und beschreibt ausführlich deren Prinzipien, Vorteile und Anwendungen.
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Oxidkeramik verstehen:Konzepte, Klassifizierung und Anwendungen
vor 2 MonatenDieser Artikel befasst sich mit dem Konzept, der Klassifizierung und den verschiedenen Anwendungen von Oxidkeramik und beleuchtet ihre Bedeutung in verschiedenen High-Tech-Bereichen.
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Hexagonales Bornitrid: Verbesserte Leistung in keramischen Verbundwerkstoffen
vor 2 MonatenUntersucht die Rolle von h-BN in verschiedenen Verbundkeramiken und beleuchtet seine Eigenschaften und Anwendungen.
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Das Verständnis von Verdampfungsbooten bei der Vakuumbeschichtung
vor 2 MonatenEin eingehender Blick auf Verdampferschiffchen, ihre Materialien, Anordnung, Temperaturkontrolle und Korrosionsprobleme bei Vakuumbeschichtungsprozessen.
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Arten von Verdunstungsquellen für die Verdunstungsbeschichtung
vor 2 MonatenUntersuchen Sie die verschiedenen Verdampfungsquellen, die bei der Dünnschichtabscheidung verwendet werden, einschließlich Fäden, Tiegel und Verdampfungsboote.
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Aufbereitungstechnologien und Anwendungen von hochreinen Metallen
vor 2 MonatenEin eingehender Blick auf die Definition, die Aufbereitungstechnologien und die Anwendungen von hochreinen Metallen.
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Vergleich von flachen und rotierenden Sputtertargets
vor 2 MonatenAnalysiert die Eigenschaften, Vor- und Nachteile von flachen und rotierenden Sputtertargets in der Materialforschung.
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Vergleich von planaren und rotierenden Siliziumtargets bei der Dünnschichtabscheidung
vor 2 MonatenEin ausführlicher Vergleich der Vor- und Nachteile von planaren und rotierenden Siliziumtargets mit Schwerpunkt auf deren Eigenschaften und Anwendungsszenarien in der Dünnschichttechnologie.
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Neue grüne Lösungsmittel für das Recycling von Photovoltaikmodulen
vor 2 MonatenErforschung des Übergangs zu umweltfreundlichen Lösungsmitteln beim Recycling von PV-Modulen mit Schwerpunkt auf tief eutektischen Lösungsmitteln und deren Vorteilen.
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Rückgewinnung und Extraktion von Indiummetall aus ITO-Target-Abfallmaterialien
vor 2 MonatenIn diesem Artikel werden die Methoden und Verfahren zur Rückgewinnung von hochreinem Indium aus ITO-Target-Abfällen erörtert, einschließlich chemischer und elektrolytischer Reinigungstechniken.
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Anwendung, Vorbereitung und Rückgewinnung von Edelmetalltargets in der Halbleiterherstellung
vor 2 MonatenErläutert die Verwendung, Aufbereitung und das Recycling von Edelmetalltargets in der Halbleiterherstellung.
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Fortschritte bei Seltenerdmaterialien und Recyclingtechnologien
vor 2 MonatenErforscht neue Seltenerdmaterialien und Recyclingtechnologien mit Schwerpunkt auf Polieren, hochreinen Metallen und verschiedenen Recyclingmethoden.
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Verständnis des heißisostatischen Pressens in PVD-Sputtertargets
vor 2 MonatenUntersucht die Rolle des heißisostatischen Pressens bei der Verbesserung der Qualität und Gleichmäßigkeit von PVD-Sputtertargets, mit Schwerpunkt auf Herstellungstechniken und Vorteilen.
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Herstellung von Sputtertargets durch Pulvermetallurgie
vor 2 MonatenDetailliertes Verfahren und Anwendungen der Pulvermetallurgie bei der Herstellung von Sputtertargets.
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KI-Chip-Fortschritt durch neue metallische Materialien
vor 2 MonatenUntersucht, wie KI-Chip-Upgrades durch neue Metallmaterialien vorangetrieben werden und sich auf die Rechenleistung und die Halbleiterherstellung auswirken.
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Sputtertargets für dekorative Beschichtungen
vor 2 MonatenÜberblick über die verschiedenen Sputtertargets, die für dekorative Beschichtungen aufgrund ihrer einzigartigen Eigenschaften und Anwendungen verwendet werden.
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Umfassende Klassifizierung und Anwendung von Magnetron-Sputter-Targets
vor 2 MonatenIn diesem Artikel werden die Klassifizierung, die Anwendungen und die Prinzipien von Magnetron-Sputter-Targets in verschiedenen Industriezweigen näher erläutert.
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Umfassende Analyse von Magnetron-Sputter-Targets
vor 2 MonatenEine eingehende Untersuchung der Magnetron-Sputter-Targets, ihrer Anforderungen, Prinzipien, Typen und Leistungsfaktoren.
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Hochreine Sputtering-Targets für die Herstellung integrierter Schaltungen
vor 2 MonatenIn diesem Artikel werden die Anforderungen an die hohe Reinheit und die Anwendungen verschiedener Sputtertargets bei der Herstellung integrierter Schaltkreise erörtert, wobei der Schwerpunkt auf Metallen und Legierungen liegt, die in verschiedenen Technologieknoten verwendet werden.
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Einführung in das Gießverfahren für Sputtertargets
vor 2 MonatenEin umfassender Leitfaden für das Gießverfahren für Sputtertargets, einschließlich geeigneter Materialien, Vorteile und detaillierter Verfahrensschritte.
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Einführung in Sputtering Targets
vor 2 MonatenEin Überblick über Sputtertargets, ihre Typen und Schlüsselparameter wie Reinheit, Dichte und Korngröße.
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Ursachen für Orangenhaut auf Polysiliziumröhren-Sputter-Targets
vor 2 MonatenUntersucht Faktoren, die zu Orangenhaut auf Sputtertargets führen, einschließlich Prozessparameter, Targetqualität und Geräteprobleme.
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Bestellung von Laborverbrauchsmaterialien
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