Erforschen Sie die verschiedenen CVD-Methoden, von plasmaunterstützter bis hin zu Ultrahochvakuum, und ihre Anwendungen in der Halbleiter- und Materialwissenschaft.
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Untersucht die Vorteile, Beschränkungen und das Prozessmanagement der CVD-Technologie für Oberflächenbeschichtungen.
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Eine umfassende Untersuchung der CVD-Technologie, ihrer Grundsätze, Merkmale, Klassifizierungen, neuen Fortschritte und Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
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Ein Überblick über die CVD-Technologie und die Rolle elektronischer Spezialgase bei der Halbleiterherstellung.
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Detailed analysis of the passivation layer thin film deposition methods in TOPCon cells, including PVD and CVD technologies.
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In diesem Artikel werden verschiedene CVD- und PVD-Methoden für die Abscheidung anorganischer Dünnschichten beschrieben, einschließlich ihrer Verfahren, Anwendungen und Vergleiche.
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Untersucht die Rolle der CVD bei der Verbesserung der Leistung und Skalierbarkeit von Chalkogenid-Solarzellen, wobei der Schwerpunkt auf ihren Vorteilen und Anwendungen liegt.
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Detaillierte Anweisungen zur Vorbereitung von Proben für NMR, MS, Chromatographie, IR, UV, ICP, Thermogravimetrie, XRD, TEM, SEM und andere Instrumente.
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In diesem Artikel wird die Pulverkompressionsmethode in der RFA-Spektralanalyse erörtert, wobei der Schwerpunkt auf den Techniken und Geräten zur Probenvorbereitung liegt.
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Detaillierte Schritte und Anforderungen für die Vorbereitung von Proben für Röntgenbeugungsexperimente.
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Ausführlicher Leitfaden zur Vorbereitung und Handhabung von festen, flüssigen und gasförmigen Proben für die Infrarotspektroskopie.
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Ausführlicher Leitfaden zur TEM-Probenvorbereitung, der Reinigung, Schleifen, Polieren, Fixierung und Abdecktechniken umfasst.
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Ein Überblick über verschiedene Probenvorbereitungsmethoden für die Infrarotspektralanalyse.
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Ein Überblick über die Grundsätze, Probenanforderungen und Vorbereitungsmethoden für die In-situ-Infrarotspektroskopie.
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Dieser Artikel befasst sich mit den Präparationsmethoden und Wachstumsmechanismen von Diamant-Dünnschichten durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und zeigt die Herausforderungen und potenziellen Anwendungen auf.
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Erörtert die Verwendung von gezüchteten Diamanten in Halbleitern, bei der Wärmeableitung und in der modernen Fertigung.
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Erforscht die einzigartigen Eigenschaften von CVD-Diamanten, ihre Präparationsmethoden und ihre vielfältigen Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
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In diesem Artikel werden die Anwendungen von MPCVD-Einkristalldiamant in den Bereichen Halbleiter und optische Displays erörtert, wobei seine überlegenen Eigenschaften und seine potenziellen Auswirkungen auf verschiedene Branchen hervorgehoben werden.
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Dieser Artikel befasst sich mit den Fortschritten und Herausforderungen bei der Herstellung großformatiger einkristalliner Diamanten mit Hilfe der plasmachemischen Mikrowellen-Gasphasenabscheidung (MPCVD).
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Ein eingehender Blick auf die Methoden und Vorteile der Vakuumbeschichtung von Architekturglas mit Schwerpunkt auf Energieeffizienz, Ästhetik und Haltbarkeit.
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Eine eingehende Analyse der Schlüsselfaktoren, die die Haftung von Schichten beeinflussen, die mit der Magnetron-Sputter-Technologie hergestellt wurden.
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Erforscht die Eigenschaften und vielfältigen Anwendungen von diamantähnlichen Kohlenstoffbeschichtungen (DLC).
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Erörtert das Phänomen der Targetvergiftung beim Magnetronsputtern, seine Ursachen, Auswirkungen und Präventivmaßnahmen.
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In diesem Artikel wird erörtert, wie sich unterschiedliche Stromversorgungen auf die Morphologie gesputterter Schichten auswirken, wobei der Schwerpunkt auf DC-, PDC- und RF-Stromversorgungen liegt.
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In diesem Artikel werden die Ursachen und Lösungen für den starken Abtrag im mittleren Bereich keramischer Targets beim Magnetronsputtern erörtert.
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Ein ausführlicher Leitfaden über die Definition, die Messmethoden, die Einflussfaktoren und die Geräte, die zur Bewertung der Schälfestigkeit von gesputterten Folienschichten verwendet werden.
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Erörtert Methoden zur Gewährleistung der Schichtdickentoleranz bei der Magnetron-Sputter-Beschichtung für eine optimale Materialleistung.
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Ein eingehender Blick auf die Vor- und Nachteile der Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung und ihre verschiedenen Anwendungen in der Industrie.
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Erörtert die Schwierigkeiten des TiN-Schichtwachstums mit Wechselstrom und schlägt Lösungen wie Gleichstromsputtern und gepulsten Gleichstrom vor.
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Ein detaillierter Einblick in die Prinzipien, Arten, Gasanwendungen und praktischen Anwendungen von PVD-Beschichtungsverfahren.
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