Optische Materialien

400–700 nm Wellenlänge. Antireflektierendes/AR-beschichtetes Glas

Name: 400–700 nm Wellenlänge. Antireflektierendes/AR-beschichtetes Glas
Brand: Kintek Solution
SKU: KTOM-ARG
Rating: 4.75 (10 reviews)

Artikelnummer : KTOM-ARG

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen

Mädchenmaterial: Klares Glas/Ultraklares Glas
Leicht transparent: >98 % (400–700 nm)

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Antireflexions-/AR-beschichtetes Glas

Eine Antireflexionsbeschichtung (AR-Beschichtung) ist ein dünner Film oder mehrere Materialschichten, die auf optische Oberflächen wie Linsen oder Fenster aufgetragen werden, um Reflexionen zu reduzieren. Der Hauptzweck einer AR-Beschichtung besteht darin, die von der Oberfläche reflektierte Lichtmenge zu minimieren und so die Lichtmenge zu erhöhen, die durch das Material dringen kann.

AR-Beschichtungen wirken, indem sie den Brechungsindex der Oberfläche, auf die sie aufgetragen werden, verändern. Durch sorgfältiges Entwerfen und Aufbringen dieser Beschichtungen können Dicke und Zusammensetzung der Schichten optimiert werden, um eine destruktive Interferenz für die reflektierten Lichtwellen zu erzeugen. Dieser Interferenzeffekt verringert die Intensität des reflektierten Lichts, was zu einer deutlichen Reduzierung von Blendungen und unerwünschten Reflexionen führt.

Details & Teile

Der Unterschied zwischen AR-beschichtetem Glas und nicht AR-beschichtetem Glas

Die Wellenlänge von AR-beschichtetem Glas

Anwendungen von Antireflexions-/AR-beschichtetem Glas

Brillen und Sonnenbrillen: AR-Beschichtungen auf Korrektionsbrillen und Sonnenbrillen reduzieren die Blendung, verbessern die visuelle Klarheit und verbessern die optische Gesamtqualität der Gläser. Sie lassen mehr Licht durch die Linsen und reduzieren so Reflexionen, die die Sicht beeinträchtigen können.
Kameraobjektive: AR-Beschichtungen auf Kameraobjektiven tragen dazu bei, Linsenreflexionen, Geisterbilder und unerwünschte Reflexionen zu minimieren, was zu klareren und schärferen Bildern führt. Sie erhöhen außerdem die Lichtdurchlässigkeit, sodass Fotografen mehr Details einfangen und die Bildqualität insgesamt verbessern können.
Bildschirme: AR-Beschichtungen auf Bildschirmen wie Computermonitoren, Fernsehern, Smartphones und Tablets reduzieren Reflexionen und verbessern die Sichtbarkeit durch Minimierung von Blendung. Dies verbessert das Seherlebnis, insbesondere in hellen Umgebungen, und sorgt für eine bessere Bildklarheit und Farbgenauigkeit.
Optische Instrumente: AR-Beschichtungen werden auf verschiedenen optischen Instrumenten wie Mikroskopen, Teleskopen, Ferngläsern und Kameraobjektivfiltern verwendet. Sie reduzieren Reflexionen und erhöhen die Lichtdurchlässigkeit, sodass Benutzer Objekte klarer und detaillierter betrachten können.

Eigenschaften von entspiegelten Gläsern

Minimieren Sie Oberflächenreflexionen und Blendung.
Maximieren Sie die Kapazität im sichtbaren Wellenlängenbereich.
Vermeiden Sie visuelle Verzerrungen und mehrdeutige Bilder.
Absorbiert nur minimales Licht, was dem Auge zugute kommt.
Bieten eine hohe Abriebfestigkeit und eine starke Beschichtungshaftung.

Vorsichtsmaßnahmen

Die Verwendung eines trockenen Tuchs auf einer trockenen Linse kann zu Kratzern führen und die Linsenbeschichtung beschädigen. Antireflexbeschichtungen reduzieren Reflexionen, die Linsenfehler verbergen können, Kratzer sind jedoch auf AR-beschichteten Linsen besser sichtbar.
Behandeln und reinigen Sie Linsen mit AR-Beschichtung sorgfältig, um Kratzer zu vermeiden und die Klarheit zu bewahren.

Bieten Sie maßgeschneiderte Dienstleistungen an

Durch die Implementierung innovativer und hochmoderner Schmelzprozesse haben wir umfassendes Fachwissen in der Entwicklung und Herstellung hochwertiger Glasprodukte erworben und bieten eine breite Palette optischer Produkte an Glasprodukte für eine Vielzahl kommerzieller, industrieller und wissenschaftlicher Anwendungen. Das Unternehmen bietet verschiedene Spezifikationen für optisches Glas wie Rohglas, geschnittene Teile und fertige Komponenten und arbeitet eng mit Kunden zusammen, um Produkte entsprechend den Kundenbedürfnissen anzupassen. Mit einem unerschütterlichen Bekenntnis zur Qualität stellen wir sicher, dass unsere Kunden die perfekte, auf ihre Anforderungen zugeschnittene Lösung erhalten.

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FAQ

Was ist physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)?

Bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) handelt es sich um eine Technik zur Abscheidung dünner Filme durch Verdampfen eines festen Materials im Vakuum und anschließende Abscheidung auf einem Substrat. PVD-Beschichtungen sind äußerst langlebig, kratzfest und korrosionsbeständig und eignen sich daher ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, von Solarzellen bis hin zu Halbleitern. PVD erzeugt außerdem dünne Filme, die hohen Temperaturen standhalten. Allerdings kann PVD kostspielig sein und die Kosten variieren je nach verwendeter Methode. Beispielsweise ist die Verdampfung eine kostengünstige PVD-Methode, während das Ionenstrahlsputtern eher teuer ist. Magnetronsputtern hingegen ist teurer, aber skalierbarer.

Wie dick ist eine typische AR-Beschichtung?

Die Gesamtdicke dieser idealen AR-Beschichtung beträgt etwas mehr als zwei QWOTs bei der längsten Wellenlänge oder niedrigsten Frequenz im Durchlassband (300 cm-1).

Ist die AR-Beschichtung innen oder außen angebracht?

A/R-Beschichtungen werden normalerweise sowohl auf der Vorder- als auch auf der Rückseite von Linsen aufgebracht. Bei Sonnenbrillen werden A/R-Beschichtungen jedoch nur auf der Rückseite der Gläser angebracht, um jegliche Reflexion von hinten oder ein Spiegelbild vom Auge zu verhindern.

Wie lange hält eine Antireflexbeschichtung?

Im Durchschnitt halten Antireflexionsbeschichtungen für Brillengläser etwa zwei Jahre, bei richtiger Pflege sollte eine AR-Beschichtung jedoch die Lebensdauer des Brillenglases überdauern.

Was ist Magnetronsputtern?

Beim Magnetronsputtern handelt es sich um eine plasmabasierte Beschichtungstechnik zur Herstellung sehr dichter Filme mit ausgezeichneter Haftung. Damit ist es eine vielseitige Methode zur Herstellung von Beschichtungen auf Materialien mit hohem Schmelzpunkt, die nicht verdampft werden können. Diese Methode erzeugt ein magnetisch eingeschlossenes Plasma nahe der Oberfläche eines Ziels, wo positiv geladene energiereiche Ionen mit dem negativ geladenen Zielmaterial kollidieren und Atome ausgestoßen oder „zerstäubt“ werden. Diese ausgestoßenen Atome werden dann auf einem Substrat oder Wafer abgeschieden, um die gewünschte Beschichtung zu erzeugen.

Mit welchen Methoden werden dünne Schichten abgeschieden?

Die beiden wichtigsten Methoden zur Abscheidung dünner Filme sind die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD). Bei der CVD werden Reaktionsgase in eine Kammer eingeleitet, wo sie auf der Oberfläche des Wafers reagieren und einen festen Film bilden. PVD beinhaltet keine chemischen Reaktionen; Stattdessen entstehen im Inneren der Kammer Dämpfe der Bestandteile, die dann auf der Waferoberfläche kondensieren und einen festen Film bilden. Zu den gängigen PVD-Typen gehören Aufdampfen und Sputtern. Die drei Arten von Aufdampftechniken sind thermische Verdampfung, Elektronenstrahlverdampfung und induktive Erwärmung.

Warum Magnetronsputtern?

Magnetronsputtern wird bevorzugt, da es eine hohe Präzision bei der Filmdicke und Dichte der Beschichtungen ermöglicht und damit den Verdampfungsmethoden überlegen ist. Diese Technik eignet sich besonders zur Herstellung metallischer oder isolierender Beschichtungen mit spezifischen optischen oder elektrischen Eigenschaften. Darüber hinaus können Magnetron-Sputtersysteme mit mehreren Magnetronquellen konfiguriert werden.

Was ist eine Anlage zur Dünnschichtabscheidung?

Unter Dünnschicht-Abscheidungsgeräten versteht man die Werkzeuge und Methoden, die zum Erstellen und Abscheiden dünner Filmbeschichtungen auf einem Substratmaterial verwendet werden. Diese Beschichtungen können aus verschiedenen Materialien bestehen und unterschiedliche Eigenschaften aufweisen, die die Leistung des Substrats verbessern oder verändern können. Die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist eine beliebte Technik, bei der ein festes Material im Vakuum verdampft und dann auf einem Substrat abgeschieden wird. Andere Methoden umfassen Verdampfen und Sputtern. Anlagen zur Dünnschichtabscheidung werden unter anderem bei der Herstellung optoelektronischer Geräte, medizinischer Implantate und Präzisionsoptiken eingesetzt.

Welche Materialien werden bei der Dünnschichtabscheidung verwendet?

Bei der Dünnschichtabscheidung werden üblicherweise Metalle, Oxide und Verbindungen als Materialien verwendet, von denen jedes seine eigenen Vor- und Nachteile hat. Metalle werden aufgrund ihrer Haltbarkeit und einfachen Abscheidung bevorzugt, sind jedoch relativ teuer. Oxide sind sehr langlebig, halten hohen Temperaturen stand und können bei niedrigen Temperaturen abgeschieden werden, können jedoch spröde und schwierig zu verarbeiten sein. Verbindungen bieten Festigkeit und Haltbarkeit, können bei niedrigen Temperaturen aufgetragen und auf bestimmte Eigenschaften zugeschnitten werden.

Die Auswahl des Materials für eine Dünnfilmbeschichtung hängt von den Anwendungsanforderungen ab. Metalle sind ideal für die thermische und elektrische Leitung, während Oxide einen wirksamen Schutz bieten. Die Verbindungen können individuell auf die jeweiligen Anforderungen zugeschnitten werden. Letztendlich hängt das beste Material für ein bestimmtes Projekt von den spezifischen Anforderungen der Anwendung ab.

Was ist die Dünnschicht-Abscheidungstechnologie?

Bei der Dünnschichtabscheidungstechnologie wird ein sehr dünner Materialfilm mit einer Dicke von einigen Nanometern bis 100 Mikrometern auf eine Substratoberfläche oder auf zuvor aufgebrachte Beschichtungen aufgetragen. Diese Technologie wird bei der Herstellung moderner Elektronik eingesetzt, darunter Halbleiter, optische Geräte, Solarmodule, CDs und Festplatten. Die beiden großen Kategorien der Dünnschichtabscheidung sind die chemische Abscheidung, bei der eine chemische Veränderung eine chemisch abgeschiedene Beschichtung erzeugt, und die physikalische Gasphasenabscheidung, bei der ein Material aus einer Quelle freigesetzt und mithilfe mechanischer, elektromechanischer oder thermodynamischer Prozesse auf einem Substrat abgeschieden wird.

Welche Methoden gibt es, um eine optimale Dünnschichtabscheidung zu erreichen?

Um dünne Filme mit den gewünschten Eigenschaften zu erzielen, sind hochwertige Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien unerlässlich. Die Qualität dieser Materialien kann durch verschiedene Faktoren wie Reinheit, Korngröße und Oberflächenbeschaffenheit beeinflusst werden.

Die Reinheit von Sputtertargets oder Verdampfungsmaterialien spielt eine entscheidende Rolle, da Verunreinigungen zu Defekten im resultierenden Dünnfilm führen können. Auch die Korngröße beeinflusst die Qualität des dünnen Films, wobei größere Körner zu schlechten Filmeigenschaften führen. Darüber hinaus ist die Oberflächenbeschaffenheit von entscheidender Bedeutung, da raue Oberflächen zu Defekten in der Folie führen können.

Um Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien von höchster Qualität zu erhalten, ist es entscheidend, Materialien auszuwählen, die eine hohe Reinheit, kleine Korngröße und glatte Oberflächen aufweisen.

Verwendungsmöglichkeiten der Dünnschichtabscheidung

Dünnfilme auf Zinkoxidbasis

ZnO-Dünnfilme finden in verschiedenen Branchen Anwendung, beispielsweise in der thermischen, optischen, magnetischen und elektrischen Industrie. Ihre Hauptanwendung liegt jedoch in Beschichtungen und Halbleiterbauelementen.

Dünnschichtwiderstände

Dünnschichtwiderstände sind für die moderne Technologie von entscheidender Bedeutung und werden in Funkempfängern, Leiterplatten, Computern, Hochfrequenzgeräten, Monitoren, WLAN-Routern, Bluetooth-Modulen und Mobiltelefonempfängern verwendet.

Magnetische Dünnfilme

Magnetische Dünnfilme werden in der Elektronik, Datenspeicherung, Radiofrequenzidentifikation, Mikrowellengeräten, Displays, Leiterplatten und Optoelektronik als Schlüsselkomponenten eingesetzt.

Optische Dünnfilme

Optische Beschichtungen und Optoelektronik sind Standardanwendungen optischer Dünnschichten. Durch Molekularstrahlepitaxie können optoelektronische Dünnschichtbauelemente (Halbleiter) hergestellt werden, bei denen epitaktische Filme Atom für Atom auf dem Substrat abgeschieden werden.

Polymer-Dünnfilme

Polymerdünnfilme werden in Speicherchips, Solarzellen und elektronischen Geräten verwendet. Chemische Abscheidungstechniken (CVD) ermöglichen eine präzise Kontrolle von Polymerfilmbeschichtungen, einschließlich Konformität und Beschichtungsdicke.

Dünnschichtbatterien

Dünnschichtbatterien versorgen elektronische Geräte wie implantierbare medizinische Geräte mit Strom, und die Lithium-Ionen-Batterie hat dank der Verwendung dünner Schichten erhebliche Fortschritte gemacht.

Dünnschichtbeschichtungen

Dünnschichtbeschichtungen verbessern die chemischen und mechanischen Eigenschaften von Zielmaterialien in verschiedenen Industrien und Technologiebereichen. Gängige Beispiele sind Antireflexbeschichtungen, Anti-Ultraviolett- oder Anti-Infrarot-Beschichtungen, Anti-Kratz-Beschichtungen und Linsenpolarisation.

Dünnschichtsolarzellen

Dünnschichtsolarzellen sind für die Solarenergieindustrie unverzichtbar und ermöglichen die Produktion relativ günstiger und sauberer Elektrizität. Photovoltaikanlagen und Wärmeenergie sind die beiden wichtigsten anwendbaren Technologien.

Faktoren und Parameter, die die Abscheidung dünner Schichten beeinflussen

Abscheidungsrate:

Die Geschwindigkeit, mit der die Folie produziert wird, typischerweise gemessen in Dicke dividiert durch Zeit, ist entscheidend für die Auswahl einer für die Anwendung geeigneten Technologie. Für dünne Filme genügen mäßige Abscheideraten, für dicke Filme sind schnelle Abscheideraten erforderlich. Es ist wichtig, ein Gleichgewicht zwischen Geschwindigkeit und präziser Filmdickensteuerung zu finden.

Gleichmäßigkeit:

Die Konsistenz des Films über das Substrat wird als Gleichmäßigkeit bezeichnet, die sich normalerweise auf die Filmdicke bezieht, sich aber auch auf andere Eigenschaften wie den Brechungsindex beziehen kann. Es ist wichtig, die Anwendung gut zu verstehen, um eine Unter- oder Überspezifikation der Einheitlichkeit zu vermeiden.

Füllfähigkeit:

Die Füllfähigkeit oder Stufenabdeckung bezieht sich darauf, wie gut der Abscheidungsprozess die Topographie des Substrats abdeckt. Die verwendete Abscheidungsmethode (z. B. CVD, PVD, IBD oder ALD) hat einen erheblichen Einfluss auf die Stufenabdeckung und -füllung.

Filmeigenschaften:

Die Eigenschaften des Films hängen von den Anforderungen der Anwendung ab, die in photonische, optische, elektronische, mechanische oder chemische Anforderungen eingeteilt werden können. Die meisten Filme müssen Anforderungen in mehr als einer Kategorie erfüllen.

Prozesstemperatur:

Die Filmeigenschaften werden erheblich von der Prozesstemperatur beeinflusst, die durch die Anwendung eingeschränkt sein kann.

Schaden:

Jede Abscheidungstechnologie birgt das Potenzial, das Material, auf dem sie abgeschieden wird, zu beschädigen, wobei kleinere Strukturen anfälliger für Prozessschäden sind. Zu den potenziellen Schadensquellen zählen Umweltverschmutzung, UV-Strahlung und Ionenbeschuss. Es ist wichtig, die Grenzen der Materialien und Werkzeuge zu verstehen.

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