PTFE-Material
Reinigungsgestell für leitfähiges PTFE-Glassubstrat
Artikelnummer : PTFE-03
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Material
- Polytetrafluorethylen (ptfe)
- Spezifikation
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Verwendet für Reinigungs- und Korrosionsgeräte für Halbleiter-Siliziumwafer, Siliziumwafer, Glas, Flüssigkristallbildschirme usw., blaue Blume für Solarzellen, blauer Solar-Siliziumwafer_Solar-Siliziumwaferträger, blaue Photovoltaikzelle, blauer Photovoltaik-Siliziumwafer, verwendet für Reinigungsgeräte für Solarzellen-Siliziumwafer, die zum Tragen quadratischer Solarzellen-Siliziumwafer verwendet werden, und das Material ist PTFE. Dieses Produkt reinigt und wandelt Siliziumwafer in NaOH-Lösung, HCl-Lösung, HF und anderen Lösungen unter 100 °C um. Es verformt oder verunreinigt Siliziumwafer nach längerem Gebrauch nicht.
Details & Teile
Technische Spezifikationen
10×10×1,1mm | 20×20×1,1mm | 25×25×2,2mm | 30×30×2,2mm |
15×15×1,1 mm | 25×25×1,1 mm | 30×30×1,1 mm |
1 Zoll, 2 Zoll, 4 Zoll Durchmesser usw. (oben sind Glas- oder Siliziumwafergrößen aufgeführt), Doppelgriffe (Griffhöhe kann individuell angepasst werden) zum einfachen Entfernen von PTFE-Plattenwaschgestellen aus Bechergläsern und anderen Behältern mit Glas.
Die von uns gezeigten Produkte sind in verschiedenen Größen erhältlich, Sondergrößen sind auf Anfrage möglich.
Vorteile
- Großer Temperaturbereich: Funktioniert einwandfrei von -200 °C bis +250 °C.
- Außergewöhnliche Korrosionsbeständigkeit: Widersteht starken Säuren, Laugen, Königswasser und organischen Lösungsmitteln ohne Auflösung, Adsorption oder Ausfällung.
- Niedriger Blindwert für Metallelemente: Minimales Verschmutzungsrisiko.
- Hervorragende Isolierung: Unbeeinflusst von Umwelteinflüssen und Frequenz, mit geringem dielektrischen Verlust und hoher Durchbruchspannung.
- Beständig gegen atmosphärische Alterung und Strahlung.
- Geringe Durchlässigkeit: Gewährleistet effizienten Schutz und Reinigung.
- Selbstschmierend: Verfügt über den kleinsten Reibungskoeffizienten unter den Kunststoffen und reduziert so reibungsbedingte Probleme.
- Nicht klebende Oberfläche: Festes Material mit geringer Oberflächenenergie, das ein Anhaften verhindert.
- Weiche mechanische Eigenschaften: Bietet Flexibilität und Vielseitigkeit.
FAQ
Was ist physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)?
Was ist RF-PECVD?
Was ist Magnetronsputtern?
Warum Magnetronsputtern?
Welche Materialien werden bei der Dünnschichtabscheidung verwendet?
Bei der Dünnschichtabscheidung werden üblicherweise Metalle, Oxide und Verbindungen als Materialien verwendet, von denen jedes seine eigenen Vor- und Nachteile hat. Metalle werden aufgrund ihrer Haltbarkeit und einfachen Abscheidung bevorzugt, sind jedoch relativ teuer. Oxide sind sehr langlebig, halten hohen Temperaturen stand und können bei niedrigen Temperaturen abgeschieden werden, können jedoch spröde und schwierig zu verarbeiten sein. Verbindungen bieten Festigkeit und Haltbarkeit, können bei niedrigen Temperaturen aufgetragen und auf bestimmte Eigenschaften zugeschnitten werden.
Die Auswahl des Materials für eine Dünnfilmbeschichtung hängt von den Anwendungsanforderungen ab. Metalle sind ideal für die thermische und elektrische Leitung, während Oxide einen wirksamen Schutz bieten. Die Verbindungen können individuell auf die jeweiligen Anforderungen zugeschnitten werden. Letztendlich hängt das beste Material für ein bestimmtes Projekt von den spezifischen Anforderungen der Anwendung ab.
Welche Methoden gibt es, um eine optimale Dünnschichtabscheidung zu erreichen?
Um dünne Filme mit den gewünschten Eigenschaften zu erzielen, sind hochwertige Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien unerlässlich. Die Qualität dieser Materialien kann durch verschiedene Faktoren wie Reinheit, Korngröße und Oberflächenbeschaffenheit beeinflusst werden.
Die Reinheit von Sputtertargets oder Verdampfungsmaterialien spielt eine entscheidende Rolle, da Verunreinigungen zu Defekten im resultierenden Dünnfilm führen können. Auch die Korngröße beeinflusst die Qualität des dünnen Films, wobei größere Körner zu schlechten Filmeigenschaften führen. Darüber hinaus ist die Oberflächenbeschaffenheit von entscheidender Bedeutung, da raue Oberflächen zu Defekten in der Folie führen können.
Um Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien von höchster Qualität zu erhalten, ist es entscheidend, Materialien auszuwählen, die eine hohe Reinheit, kleine Korngröße und glatte Oberflächen aufweisen.
Verwendungsmöglichkeiten der Dünnschichtabscheidung
Dünnfilme auf Zinkoxidbasis
ZnO-Dünnfilme finden in verschiedenen Branchen Anwendung, beispielsweise in der thermischen, optischen, magnetischen und elektrischen Industrie. Ihre Hauptanwendung liegt jedoch in Beschichtungen und Halbleiterbauelementen.
Dünnschichtwiderstände
Dünnschichtwiderstände sind für die moderne Technologie von entscheidender Bedeutung und werden in Funkempfängern, Leiterplatten, Computern, Hochfrequenzgeräten, Monitoren, WLAN-Routern, Bluetooth-Modulen und Mobiltelefonempfängern verwendet.
Magnetische Dünnfilme
Magnetische Dünnfilme werden in der Elektronik, Datenspeicherung, Radiofrequenzidentifikation, Mikrowellengeräten, Displays, Leiterplatten und Optoelektronik als Schlüsselkomponenten eingesetzt.
Optische Dünnfilme
Optische Beschichtungen und Optoelektronik sind Standardanwendungen optischer Dünnschichten. Durch Molekularstrahlepitaxie können optoelektronische Dünnschichtbauelemente (Halbleiter) hergestellt werden, bei denen epitaktische Filme Atom für Atom auf dem Substrat abgeschieden werden.
Polymer-Dünnfilme
Polymerdünnfilme werden in Speicherchips, Solarzellen und elektronischen Geräten verwendet. Chemische Abscheidungstechniken (CVD) ermöglichen eine präzise Kontrolle von Polymerfilmbeschichtungen, einschließlich Konformität und Beschichtungsdicke.
Dünnschichtbatterien
Dünnschichtbatterien versorgen elektronische Geräte wie implantierbare medizinische Geräte mit Strom, und die Lithium-Ionen-Batterie hat dank der Verwendung dünner Schichten erhebliche Fortschritte gemacht.
Dünnschichtbeschichtungen
Dünnschichtbeschichtungen verbessern die chemischen und mechanischen Eigenschaften von Zielmaterialien in verschiedenen Industrien und Technologiebereichen. Gängige Beispiele sind Antireflexbeschichtungen, Anti-Ultraviolett- oder Anti-Infrarot-Beschichtungen, Anti-Kratz-Beschichtungen und Linsenpolarisation.
Dünnschichtsolarzellen
Dünnschichtsolarzellen sind für die Solarenergieindustrie unverzichtbar und ermöglichen die Produktion relativ günstiger und sauberer Elektrizität. Photovoltaikanlagen und Wärmeenergie sind die beiden wichtigsten anwendbaren Technologien.
Faktoren und Parameter, die die Abscheidung dünner Schichten beeinflussen
Abscheidungsrate:
Die Geschwindigkeit, mit der die Folie produziert wird, typischerweise gemessen in Dicke dividiert durch Zeit, ist entscheidend für die Auswahl einer für die Anwendung geeigneten Technologie. Für dünne Filme genügen mäßige Abscheideraten, für dicke Filme sind schnelle Abscheideraten erforderlich. Es ist wichtig, ein Gleichgewicht zwischen Geschwindigkeit und präziser Filmdickensteuerung zu finden.
Gleichmäßigkeit:
Die Konsistenz des Films über das Substrat wird als Gleichmäßigkeit bezeichnet, die sich normalerweise auf die Filmdicke bezieht, sich aber auch auf andere Eigenschaften wie den Brechungsindex beziehen kann. Es ist wichtig, die Anwendung gut zu verstehen, um eine Unter- oder Überspezifikation der Einheitlichkeit zu vermeiden.
Füllfähigkeit:
Die Füllfähigkeit oder Stufenabdeckung bezieht sich darauf, wie gut der Abscheidungsprozess die Topographie des Substrats abdeckt. Die verwendete Abscheidungsmethode (z. B. CVD, PVD, IBD oder ALD) hat einen erheblichen Einfluss auf die Stufenabdeckung und -füllung.
Filmeigenschaften:
Die Eigenschaften des Films hängen von den Anforderungen der Anwendung ab, die in photonische, optische, elektronische, mechanische oder chemische Anforderungen eingeteilt werden können. Die meisten Filme müssen Anforderungen in mehr als einer Kategorie erfüllen.
Prozesstemperatur:
Die Filmeigenschaften werden erheblich von der Prozesstemperatur beeinflusst, die durch die Anwendung eingeschränkt sein kann.
Schaden:
Jede Abscheidungstechnologie birgt das Potenzial, das Material, auf dem sie abgeschieden wird, zu beschädigen, wobei kleinere Strukturen anfälliger für Prozessschäden sind. Zu den potenziellen Schadensquellen zählen Umweltverschmutzung, UV-Strahlung und Ionenbeschuss. Es ist wichtig, die Grenzen der Materialien und Werkzeuge zu verstehen.
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Fast delivery and excellent packaging. The rack is made of high-quality PTFE, which is resistant to corrosion and heat.
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The rack is very easy to use and clean. It holds the substrates securely and prevents them from moving around during the cleaning process.
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