Der Strom der Sputtering-Ionen in einem Sputtering-Prozess ist ein entscheidender Faktor, der die Effizienz und Qualität des Abscheidungsprozesses bestimmt.
Was ist der Strom der Sputtering-Ionen? (Erklärt in 4 Schlüsselpunkten)
1. DC-Dioden-Sputtern
Beim DC-Diodensputtern wird eine Gleichspannung von 500 - 1000 V angelegt.
Diese Spannung zündet ein Argon-Niederdruckplasma zwischen einem Target und einem Substrat.
Positive Argon-Ionen werden dann durch diese Spannung in Richtung des Targets beschleunigt.
Diese Beschleunigung bewirkt, dass Atome aus dem Target herausgeschleudert werden und sich auf dem Substrat ablagern.
2. RF-Sputtern
Beim RF-Sputtern wird ein Wechselstrom mit Frequenzen um 14 MHz verwendet.
Diese Methode ermöglicht das Sputtern von isolierenden Materialien.
Die Elektronen können so beschleunigt werden, dass sie mit dem RF-Strom schwingen.
Die schwereren Ionen reagieren nur auf die im HF-System erzeugte durchschnittliche Spannung.
Die Ionen werden durch die Selbstvorspannung (VDC) beeinflusst, die sie auf das Target beschleunigt.
Diese Selbstvorspannung nähert sich der äquivalenten Spannung, die beim DC-Sputtern angelegt wird.
3. Beziehung zwischen Spannung und Strom
Der Strom der sputternden Ionen steht in direktem Zusammenhang mit der angelegten Spannung.
Beim DC-Diodensputtern wird der Strom durch die Gleichspannung von 500 - 1000 V bestimmt.
Beim HF-Sputtern wird der Strom durch die Selbstvorspannung (VDC) bestimmt, die die Ionen auf das Target beschleunigt.
4. Präzision und Effizienz
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