Der Höchstdruck für eine Diffusionspumpe liegt in der Regel bei 10-2 bis 10-10 Torr. Dieser Bereich wird durch die Fähigkeit der Pumpe bestimmt, hohe Vakuumniveaus zu erzeugen, was für verschiedene industrielle Anwendungen wie Elektronenstrahlmikroskopie, Vakuumabscheidung, Beschichtungen und Vakuumöfen entscheidend ist.
Die Diffusionspumpe arbeitet nach einem einfachen Prinzip ohne bewegliche Teile, was sie langlebig und zuverlässig macht. Sie ist so konzipiert, dass sie in Verbindung mit einer Haltepumpe arbeitet, die den Innendruck im Ruhezustand aufrechterhält. Wenn die Diffusionspumpe in Betrieb ist, ist das Ventil der Haltepumpe isoliert, und eine mechanische Pumpe und ein Gebläse fungieren als Vorvakuumpumpe.
Für Kunden, die keine extrem niedrigen Systemdrücke benötigen, kann anstelle eines dreistufigen Systems mit Diffusionspumpe auch ein zweistufiges System verwendet werden. In einem zweistufigen System kann das Druckniveau von Atmosphärendruck auf 4,5 x 10-2 Torr erhöht werden, im Gegensatz zu den 8,0 x 10-6 Torr, die mit einem diffusionsgepumpten Ofen erreicht werden. Dank dieser Flexibilität im Druckmanagement können Diffusionspumpen an die spezifischen industriellen Anforderungen angepasst werden und gewährleisten so optimale Leistung und Effizienz.
Entdecken Sie die Präzision und Zuverlässigkeit, die die Diffusionspumpen von KINTEK SOLUTION für Ihre Labor- und Industrieprozesse bieten. Mit unseren fortschrittlichen Pumpen, die für Hochvakuum ausgelegt sind, erleben Sie überlegene Leistung in der Elektronenstrahlmikroskopie, der Vakuumbeschichtung und vielem mehr. Passen Sie Ihr System mit unseren vielseitigen zweistufigen und dreistufigen Pumpenoptionen genau auf Ihre Anforderungen an das Druckmanagement an. Setzen Sie sich noch heute mit uns in Verbindung, um Ihre Vakuumtechnologie auf ein neues Niveau zu heben!