Produkte Verbrauchsmaterialien und Materialien für das Labor Labormaterialien Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titannitrid (TiN).
Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titannitrid (TiN).

Labormaterialien

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titannitrid (TiN).

Artikelnummer : LM-TiN

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Chemische Formel
Glauben
Reinheit
2N5
Form
Scheiben / Draht / Block / Pulver / Platten / Säulentargets / Stufentargets / Sonderanfertigungen
ISO & CE icon

Versand:

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Wir bieten Titannitrid (TiN)-Materialien für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen an. Unsere Spezialität liegt in der Herstellung und Anpassung von Titannitrid (TiN)-Materialien in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen, um Ihren individuellen Bedürfnissen gerecht zu werden.

Wir bieten eine vielfältige Auswahl an Spezifikationen und Größen für Sputtertargets (rund, quadratisch, röhrenförmig, unregelmäßig), Beschichtungsmaterialien, Zylinder, Kegel, Partikel, Folien, Pulver, 3D-Druckpulver, Nanometerpulver, Walzdrähte, Barren und Blöcke. unter anderen.

Einzelheiten

Sputtertarget aus Titannitrid (TiN).
Sputtertarget aus Titannitrid (TiN).
Sputtertarget aus Titannitrid (TiN).
Sputtertarget aus Titannitrid (TiN).
Sputtertarget aus Titannitrid (TiN).
Sputtertarget aus Titannitrid (TiN).
Sputtertarget aus Titannitrid (TiN).
Sputtertarget aus Titannitrid (TiN).
Titannitrid (TiN)-Pulver
Titannitrid (TiN)-Pulver
Titannitrid (TiN)-Partikel
Titannitrid (TiN)-Partikel
Titannitrid (TiN)-Partikel
Titannitrid (TiN)-Partikel
Titannitrid (TiN)-Partikel
Titannitrid (TiN)-Partikel

Über Titannitrid (TiN)

Titannitrid ist ein leicht verfügbares Material, wobei auch hochreine Submikron- und Nanopulverformen erhältlich sind. In unserer Anlage produzieren wir verschiedene hochreine (99,999 %) Titannitrid-Sputtertargets in Standardqualitäten, darunter Mil Spec (Militärqualität), ACS, Reagenz, Technik, Lebensmittel, Landwirtschaft, Pharmazie, Optik, USP und EP/BP (europäisch). Pharmacopeia/British Pharmacopeia)-Klassen. Wir befolgen die geltenden ASTM-Teststandards, um die Qualität unserer Materialien sicherzustellen.

Zusammenfassend bieten wir ein vielfältiges Sortiment an hochreinen Titannitrid-Materialien an, die den unterschiedlichen Branchen- und Anwendungsanforderungen gerecht werden. Unsere Materialien werden unter strikter Einhaltung der ASTM-Teststandards hergestellt, um eine gleichbleibende Qualität und Leistung zu gewährleisten.

Qualitätskontrolle der Inhaltsstoffe

Analyse der Rohstoffzusammensetzung
Durch den Einsatz von Geräten wie ICP und GDMS wird der Gehalt an Metallverunreinigungen erfasst und analysiert, um sicherzustellen, dass er dem Reinheitsstandard entspricht;

Nichtmetallische Verunreinigungen werden mit Geräten wie Kohlenstoff- und Schwefelanalysatoren sowie Stickstoff- und Sauerstoffanalysatoren erkannt.
Metallografische Fehlererkennungsanalyse
Das Zielmaterial wird mithilfe von Fehlererkennungsgeräten überprüft, um sicherzustellen, dass im Produkt keine Mängel oder Schrumpfungslöcher vorhanden sind.

Durch metallografische Tests wird die innere Kornstruktur des Zielmaterials analysiert, um sicherzustellen, dass die Körner fein und dicht sind.
Aussehens- und Maßprüfung
Die Produktabmessungen werden mithilfe von Mikrometern und Präzisionsmessschiebern gemessen, um die Übereinstimmung mit den Zeichnungen sicherzustellen.

Die Oberflächenbeschaffenheit und Sauberkeit des Produkts werden mit einem Oberflächenreinheitsmessgerät gemessen.

Konventionelle Sputtertargetgrößen

Vorbereitungsprozess
heißisostatisches Pressen, Vakuumschmelzen usw.
Sputtertargetform
flaches Sputtertarget, Multi-Arc-Sputtertarget, Stufen-Sputtertarget, speziell geformtes Sputtertarget
Runde Sputtertargetgröße
Durchmesser: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Dicke: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Größe kann individuell angepasst werden.
Quadratische Sputtertargetgröße
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, Größe kann individuell angepasst werden

Verfügbare Metallformen

Details zu Metallformen

Wir stellen fast alle im Periodensystem aufgeführten Metalle in den unterschiedlichsten Formen und Reinheiten sowie in Standardgrößen und -abmessungen her. Wir können auch maßgeschneiderte Produkte herstellen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen, wie z. B. Größe, Form, Oberfläche, Zusammensetzung und mehr. Die folgende Liste stellt eine Auswahl der von uns angebotenen Formulare dar, erhebt jedoch keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Wenn Sie Laborverbrauchsmaterialien benötigen, wenden Sie sich bitte direkt an uns, um ein Angebot anzufordern.

  • Flache/planare Formen: Karton, Film, Folie, Mikrofolie, Mikroblatt, Papier, Platte, Band, Bogen, Streifen, Band, Wafer
  • Vorgeformte Formen: Anoden, Kugeln, Bänder, Stäbe, Boote, Bolzen, Briketts, Kathoden, Kreise, Spulen, Tiegel, Kristalle, Würfel, Tassen, Zylinder, Scheiben, Elektroden, Fasern, Filamente, Flansche, Gitter, Linsen, Dorne, Muttern , Teile, Prismen, Pucks, Ringe, Stäbe, Formen, Schilde, Hülsen, Federn, Quadrate, Sputtertargets, Stäbe, Rohre, Unterlegscheiben, Fenster, Drähte
  • Mikrogrößen: Perlen, Bits, Kapseln, Chips, Münzen, Staub, Flocken, Körner, Granulat, Mikropulver, Nadeln, Partikel, Kieselsteine, Pellets, Stifte, Pillen, Pulver, Späne, Schrot, Schnecken, Kugeln, Tabletten
  • Makrogrößen: Knüppel, Brocken, Stecklinge, Fragmente, Barren, Klumpen, Nuggets, Stücke, Stanzteile, Steine, Reste, Segmente, Drehspäne
  • Porös und halbporös: Stoff, Schaum, Gaze, Wabe, Netz, Schwamm, Wolle
  • Nanoskalig: Nanopartikel, Nanopulver, Nanofolien, Nanoröhren, Nanostäbe, Nanoprismen
  • Andere: Konzentrat, Tinte, Paste, Niederschlag, Rückstände, Proben, Proben

KinTek ist auf die Herstellung hochreiner und ultrahochreiner Materialien mit einem Reinheitsbereich von 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) und in einigen Fällen bis zu 99,99999 % (7N) spezialisiert ). Unsere Materialien sind in bestimmten Qualitäten erhältlich, darunter UP/UHP-, Halbleiter-, Elektronik-, Abscheidungs-, Glasfaser- und MBE-Qualitäten. Unsere hochreinen Metalle, Oxide und Verbindungen werden speziell für die hohen Anforderungen hochtechnologischer Anwendungen hergestellt und eignen sich ideal für den Einsatz als Dotierstoffe und Vorläufermaterialien für die Dünnschichtabscheidung, das Kristallwachstum von Halbleitern und die Synthese von Nanomaterialien. Diese Materialien finden Verwendung in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Solarzellen, Brennstoffzellen, optischen Materialien und anderen hochmodernen Anwendungen.

Verpackung

Wir verwenden Vakuumverpackungen für unsere hochreinen Materialien und jedes Material verfügt über eine spezifische Verpackung, die auf seine einzigartigen Eigenschaften zugeschnitten ist. Beispielsweise ist unser HF-Sputtertarget extern markiert und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu ermöglichen. Wir legen großen Wert darauf, Schäden zu vermeiden, die bei der Lagerung oder dem Transport entstehen könnten.

Weitere FAQs zu diesem Produkt anzeigen

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KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is the perfect choice for my lab. It delivers consistent results and has significantly improved the efficiency of our processes.

Dr. Annette Heidrun

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The quality of KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is exceptional. It has enhanced the performance of our instruments and contributed to groundbreaking research.

Mr. Avery Park

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Dr. Sara Mansfield

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Mr. Ethan Price

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Dr. Emma Harrison

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Mr. Elijah Green

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