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Hochreines Cadmium (Cd) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Labormaterialien

Hochreines Cadmium (Cd) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Artikelnummer : LM-CD

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Chemische Formel
CD
Reinheit
4N-6N
Form
Scheiben / Draht / Block / Pulver / Platten / Säulentargets / Stufentargets / Sonderanfertigungen
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Versand:

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Wir bieten erschwingliche Cadmium (Cd)-Materialien für den Laborgebrauch und sind auf die Herstellung maßgeschneiderter Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe spezialisiert, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden. Unsere Auswahl umfasst Sputtertargets (rund, quadratisch, röhrenförmig, unregelmäßig), Beschichtungsmaterialien, Zylinder, Kegel, Partikel, Folien, Pulver, 3D-Druckpulver, Nanometerpulver, Walzdrähte, Barren und Blöcke in verschiedenen Spezifikationen und Größen.

Einzelheiten

Cadmium (Cd) Sputtertarget
Cadmium (Cd) Sputtertarget
Cadmium (Cd)-Partikel
Cadmium (Cd)-Partikel
Cadmium (Cd)-Pulver
Cadmium (Cd)-Pulver

Über Cadmium (Cd)

Cadmium ist ein vielseitiges Element, das in verschiedenen Branchen Anwendung findet. Es ist ein wesentlicher Bestandteil bei der Batterieproduktion, bestimmten Pigmenten und Beschichtungen und wird häufig in der Galvanisierung verwendet. Cadmiumoxid wird in Leuchtstoffen für Fernsehbildröhren verwendet.

Darüber hinaus ist Cadmiumsulfid (CdS) eine übliche fotoleitende Oberflächenbeschichtung für Fotokopiertrommeln. Cadmium wird auch in hochreinem (99,999 %) Cadmiumoxidpulver (CdO) zur Absorption von Neutronen in Kernreaktoren verwendet. Cadmium ist ein wichtiger Bestandteil in Glas- und Keramikglasuren und sorgt für ein charakteristisches Cadmiumgelb.

Cadmium ist in verschiedenen Formen und Reinheiten erhältlich, die von 99 % bis 99,999 % reichen (ACS-Qualität bis ultrahohe Reinheit). Zu den elementaren oder metallischen Formen von Cadmium gehören Pellets, Stäbe, Drähte und Granulate, die als Verdampfungsquellenmaterialien verwendet werden.

Cadmiumoxid ist in Pulver- und dichten Pelletform erhältlich und wird in optischen Beschichtungen und Dünnfilmanwendungen verwendet. Allerdings neigen Oxide dazu, unlöslich zu sein. Fluoride, eine weitere unlösliche Form von Cadmium, werden in der Metallurgie, bei der chemischen und physikalischen Gasphasenabscheidung sowie bei einigen optischen Beschichtungen eingesetzt.

Cadmium ist auch in löslichen Formen erhältlich, beispielsweise als Chloride, Nitrate und Acetate, die als Lösungen mit bestimmten Stöchiometrien hergestellt werden können. Insgesamt machen die Vielseitigkeit und die einzigartigen Eigenschaften von Cadmium es zu einem wertvollen Element in verschiedenen industriellen Anwendungen.

Darüber hinaus ist hochreines (99,99999 %) Cadmium (Cd) Sputtertarget eine weitere verfügbare Form von Cadmium, die in Sputteranwendungen verwendet wird.

Qualitätskontrolle der Inhaltsstoffe

Analyse der Rohstoffzusammensetzung
Durch den Einsatz von Geräten wie ICP und GDMS wird der Gehalt an Metallverunreinigungen erfasst und analysiert, um sicherzustellen, dass er dem Reinheitsstandard entspricht;

Nichtmetallische Verunreinigungen werden mit Geräten wie Kohlenstoff- und Schwefelanalysatoren sowie Stickstoff- und Sauerstoffanalysatoren erkannt.
Metallografische Fehlererkennungsanalyse
Das Zielmaterial wird mithilfe von Fehlererkennungsgeräten überprüft, um sicherzustellen, dass im Produkt keine Mängel oder Schrumpfungslöcher vorhanden sind.

Durch metallografische Tests wird die innere Kornstruktur des Zielmaterials analysiert, um sicherzustellen, dass die Körner fein und dicht sind.
Aussehens- und Maßprüfung
Die Produktabmessungen werden mithilfe von Mikrometern und Präzisionsmessschiebern gemessen, um die Übereinstimmung mit den Zeichnungen sicherzustellen.

Die Oberflächenbeschaffenheit und Sauberkeit des Produkts werden mit einem Oberflächenreinheitsmessgerät gemessen.

Konventionelle Sputtertargetgrößen

Vorbereitungsprozess
heißisostatisches Pressen, Vakuumschmelzen usw.
Sputtertargetform
flaches Sputtertarget, Multi-Arc-Sputtertarget, Stufen-Sputtertarget, speziell geformtes Sputtertarget
Runde Sputtertargetgröße
Durchmesser: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Dicke: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Größe kann individuell angepasst werden.
Quadratische Sputtertargetgröße
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, Größe kann individuell angepasst werden

Verfügbare Metallformen

Details zu Metallformen

Wir stellen fast alle im Periodensystem aufgeführten Metalle in den unterschiedlichsten Formen und Reinheiten sowie in Standardgrößen und -abmessungen her. Wir können auch maßgeschneiderte Produkte herstellen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen, wie z. B. Größe, Form, Oberfläche, Zusammensetzung und mehr. Die folgende Liste stellt eine Auswahl der von uns angebotenen Formulare dar, erhebt jedoch keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Wenn Sie Laborverbrauchsmaterialien benötigen, wenden Sie sich bitte direkt an uns, um ein Angebot anzufordern.

  • Flache/planare Formen: Karton, Film, Folie, Mikrofolie, Mikroblatt, Papier, Platte, Band, Bogen, Streifen, Band, Wafer
  • Vorgeformte Formen: Anoden, Kugeln, Bänder, Stäbe, Boote, Bolzen, Briketts, Kathoden, Kreise, Spulen, Tiegel, Kristalle, Würfel, Tassen, Zylinder, Scheiben, Elektroden, Fasern, Filamente, Flansche, Gitter, Linsen, Dorne, Muttern , Teile, Prismen, Pucks, Ringe, Stäbe, Formen, Schilde, Hülsen, Federn, Quadrate, Sputtertargets, Stäbe, Rohre, Unterlegscheiben, Fenster, Drähte
  • Mikrogrößen: Perlen, Bits, Kapseln, Chips, Münzen, Staub, Flocken, Körner, Granulat, Mikropulver, Nadeln, Partikel, Kieselsteine, Pellets, Stifte, Pillen, Pulver, Späne, Schrot, Schnecken, Kugeln, Tabletten
  • Makrogrößen: Knüppel, Brocken, Stecklinge, Fragmente, Barren, Klumpen, Nuggets, Stücke, Stanzteile, Steine, Reste, Segmente, Drehspäne
  • Porös und halbporös: Stoff, Schaum, Gaze, Wabe, Netz, Schwamm, Wolle
  • Nanoskalig: Nanopartikel, Nanopulver, Nanofolien, Nanoröhren, Nanostäbe, Nanoprismen
  • Andere: Konzentrat, Tinte, Paste, Niederschlag, Rückstände, Proben, Proben

KinTek ist auf die Herstellung hochreiner und ultrahochreiner Materialien mit einem Reinheitsbereich von 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) und in einigen Fällen bis zu 99,99999 % (7N) spezialisiert ). Unsere Materialien sind in bestimmten Qualitäten erhältlich, darunter UP/UHP-, Halbleiter-, Elektronik-, Abscheidungs-, Glasfaser- und MBE-Qualitäten. Unsere hochreinen Metalle, Oxide und Verbindungen werden speziell für die hohen Anforderungen hochtechnologischer Anwendungen hergestellt und eignen sich ideal für den Einsatz als Dotierstoffe und Vorläufermaterialien für die Dünnschichtabscheidung, das Kristallwachstum von Halbleitern und die Synthese von Nanomaterialien. Diese Materialien finden Verwendung in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Solarzellen, Brennstoffzellen, optischen Materialien und anderen hochmodernen Anwendungen.

Verpackung

Wir verwenden Vakuumverpackungen für unsere hochreinen Materialien und jedes Material verfügt über eine spezifische Verpackung, die auf seine einzigartigen Eigenschaften zugeschnitten ist. Beispielsweise ist unser HF-Sputtertarget extern markiert und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu ermöglichen. Wir legen großen Wert darauf, Schäden zu vermeiden, die bei der Lagerung oder dem Transport entstehen könnten.

Weitere FAQs zu diesem Produkt anzeigen

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