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Hochreines Hafnium (Hf)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Labormaterialien

Hochreines Hafnium (Hf)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Artikelnummer : LM-HF

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Chemische Formel
Hf
Reinheit
2N5-3N5
Form
Scheiben / Draht / Block / Pulver / Platten / Säulentargets / Stufentargets / Sonderanfertigungen
ISO & CE icon

Versand:

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Wir bieten Hafnium (Hf)-Materialien für den Laborgebrauch zu wettbewerbsfähigen Preisen an. Unsere Expertise liegt in der Herstellung und kundenspezifischen Anpassung von Hafnium (Hf)-Materialien an Ihre spezifischen Anforderungen, einschließlich verschiedener Reinheiten, Formen und Größen.

Wir bieten ein vielfältiges Spektrum an Spezifikationen und Größen für Sputtertargets (rund, quadratisch, röhrenförmig, unregelmäßig), Beschichtungsmaterialien, Zylinder, Kegel, Partikel, Folien, Pulver, 3D-Druckpulver, Nanometerpulver, Walzdrähte, Barren, Blöcke usw mehr.

Einzelheiten

Hafnium (Hf)-Sputtertarget
Hafnium (Hf)-Sputtertarget
Hafnium (Hf)-Block
Hafnium (Hf)-Block
Hafnium (Hf)-Sputtertarget
Hafnium (Hf)-Sputtertarget
Hafnium (Hf)-Partikel
Hafnium (Hf)-Partikel
Hafnium (Hf)-Partikel
Hafnium (Hf)-Partikel
Hafnium (Hf)-Partikel
Hafnium (Hf)-Partikel
Hafnium (Hf) Block
Hafnium (Hf) Block
Hafnium (Hf)-Schwammblock
Hafnium (Hf)-Schwammblock

Über Hafnium (Hf)

Hafnium ist ein relativ seltenes Element mit begrenzten technischen Einsatzmöglichkeiten. Aufgrund seiner Fähigkeit, Neutronen zu absorbieren, wird es am häufigsten als nuklearer Steuerstab eingesetzt. Hafnium wird auch bei der Herstellung verschiedener Legierungen verwendet, darunter Eisen, Titan, Niob und Tantal.

Legierungen auf Hafniumbasis ersetzen Polysilizium als Hauptgatematerial in Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistoren (MOSFETs). Dieser Ersatz ermöglichte die Entwicklung von MOSFET-Gates mit einer Größe von weniger als 10 Angström. Die jüngste Forschung konzentriert sich auf die Entwicklung von High-k-Materialien, die als dielektrische Barriere oder Tor mit geringerer Leckage fungieren können.

Hafnium ist in verschiedenen Formen erhältlich, einschließlich Metall und Verbindungen mit unterschiedlichen Reinheitsgraden, die von ACS-Qualität bis hin zu ultrahoher Reinheit reichen. Zu den elementaren oder metallischen Formen von Hafnium gehören Pellets, Stäbe, Drähte und Granulat als Verdampfungsquellenmaterial. Hafnium-Nanomaterialien bieten eine extrem große Oberfläche für die Nanotechnologieforschung.

Hafniumoxid ist in Pulver- und dichten Pelletform für verschiedene Anwendungen wie optische Beschichtungen und Dünnschichtanwendungen erhältlich. Hafnium ist auch in löslichen Formen wie Chlorid, Nitrat und Acetat sowie in unlöslichen Formen wie Fluoriden erhältlich. Diese Verbindungen können als Lösungen mit bestimmten Stöchiometrien hergestellt werden.

Qualitätskontrolle der Inhaltsstoffe

Analyse der Rohstoffzusammensetzung
Durch den Einsatz von Geräten wie ICP und GDMS wird der Gehalt an Metallverunreinigungen erfasst und analysiert, um sicherzustellen, dass er dem Reinheitsstandard entspricht;

Nichtmetallische Verunreinigungen werden mit Geräten wie Kohlenstoff- und Schwefelanalysatoren sowie Stickstoff- und Sauerstoffanalysatoren erkannt.
Metallografische Fehlererkennungsanalyse
Das Zielmaterial wird mithilfe von Fehlererkennungsgeräten überprüft, um sicherzustellen, dass im Produkt keine Mängel oder Schrumpfungslöcher vorhanden sind.

Durch metallografische Tests wird die innere Kornstruktur des Zielmaterials analysiert, um sicherzustellen, dass die Körner fein und dicht sind.
Aussehens- und Maßprüfung
Die Produktabmessungen werden mithilfe von Mikrometern und Präzisionsmessschiebern gemessen, um die Übereinstimmung mit den Zeichnungen sicherzustellen.

Die Oberflächenbeschaffenheit und Sauberkeit des Produkts werden mit einem Oberflächenreinheitsmessgerät gemessen.

Konventionelle Sputtertargetgrößen

Vorbereitungsprozess
heißisostatisches Pressen, Vakuumschmelzen usw.
Sputtertargetform
flaches Sputtertarget, Multi-Arc-Sputtertarget, Stufen-Sputtertarget, speziell geformtes Sputtertarget
Runde Sputtertargetgröße
Durchmesser: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Dicke: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Größe kann individuell angepasst werden.
Quadratische Sputtertargetgröße
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, Größe kann individuell angepasst werden

Verfügbare Metallformen

Details zu Metallformen

Wir stellen fast alle im Periodensystem aufgeführten Metalle in den unterschiedlichsten Formen und Reinheiten sowie in Standardgrößen und -abmessungen her. Wir können auch maßgeschneiderte Produkte herstellen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen, wie z. B. Größe, Form, Oberfläche, Zusammensetzung und mehr. Die folgende Liste stellt eine Auswahl der von uns angebotenen Formulare dar, erhebt jedoch keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Wenn Sie Laborverbrauchsmaterialien benötigen, wenden Sie sich bitte direkt an uns, um ein Angebot anzufordern.

  • Flache/planare Formen: Karton, Film, Folie, Mikrofolie, Mikroblatt, Papier, Platte, Band, Bogen, Streifen, Band, Wafer
  • Vorgeformte Formen: Anoden, Kugeln, Bänder, Stäbe, Boote, Bolzen, Briketts, Kathoden, Kreise, Spulen, Tiegel, Kristalle, Würfel, Tassen, Zylinder, Scheiben, Elektroden, Fasern, Filamente, Flansche, Gitter, Linsen, Dorne, Muttern , Teile, Prismen, Pucks, Ringe, Stäbe, Formen, Schilde, Hülsen, Federn, Quadrate, Sputtertargets, Stäbe, Rohre, Unterlegscheiben, Fenster, Drähte
  • Mikrogrößen: Perlen, Bits, Kapseln, Chips, Münzen, Staub, Flocken, Körner, Granulat, Mikropulver, Nadeln, Partikel, Kieselsteine, Pellets, Stifte, Pillen, Pulver, Späne, Schrot, Schnecken, Kugeln, Tabletten
  • Makrogrößen: Knüppel, Brocken, Stecklinge, Fragmente, Barren, Klumpen, Nuggets, Stücke, Stanzteile, Steine, Reste, Segmente, Drehspäne
  • Porös und halbporös: Stoff, Schaum, Gaze, Wabe, Netz, Schwamm, Wolle
  • Nanoskalig: Nanopartikel, Nanopulver, Nanofolien, Nanoröhren, Nanostäbe, Nanoprismen
  • Andere: Konzentrat, Tinte, Paste, Niederschlag, Rückstände, Proben, Proben

KinTek ist auf die Herstellung hochreiner und ultrahochreiner Materialien mit einem Reinheitsbereich von 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) und in einigen Fällen bis zu 99,99999 % (7N) spezialisiert ). Unsere Materialien sind in bestimmten Qualitäten erhältlich, darunter UP/UHP-, Halbleiter-, Elektronik-, Abscheidungs-, Glasfaser- und MBE-Qualitäten. Unsere hochreinen Metalle, Oxide und Verbindungen werden speziell für die hohen Anforderungen hochtechnologischer Anwendungen hergestellt und eignen sich ideal für den Einsatz als Dotierstoffe und Vorläufermaterialien für die Dünnschichtabscheidung, das Kristallwachstum von Halbleitern und die Synthese von Nanomaterialien. Diese Materialien finden Verwendung in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Solarzellen, Brennstoffzellen, optischen Materialien und anderen hochmodernen Anwendungen.

Verpackung

Wir verwenden Vakuumverpackungen für unsere hochreinen Materialien und jedes Material verfügt über eine spezifische Verpackung, die auf seine einzigartigen Eigenschaften zugeschnitten ist. Beispielsweise ist unser HF-Sputtertarget extern markiert und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu ermöglichen. Wir legen großen Wert darauf, Schäden zu vermeiden, die bei der Lagerung oder dem Transport entstehen könnten.

FAQ

Was sind hochreine Materialien?

Unter hochreinen Materialien versteht man Substanzen, die frei von Verunreinigungen sind und ein hohes Maß an chemischer Homogenität aufweisen. Diese Materialien sind in verschiedenen Branchen unverzichtbar, insbesondere im Bereich der fortschrittlichen Elektronik, wo Verunreinigungen die Leistung von Geräten erheblich beeinträchtigen können. Hochreine Materialien werden durch verschiedene Methoden erhalten, darunter chemische Reinigung, Dampfphasenabscheidung und Zonenraffinierung. Bei der Herstellung von Einkristalldiamanten in elektronischer Qualität sind beispielsweise ein hochreines Rohmaterialgas und ein effizientes Vakuumsystem erforderlich, um den gewünschten Grad an Reinheit und Homogenität zu erreichen.

Was sind hochreine Metalle?

Hochreine Metalle sind Einzelelementmaterialien mit minimalen Verunreinigungen, was sie ideal für den Einsatz in Forschung, Entwicklung und Produktion fortschrittlicher Technologien macht. Diese Metalle werden bei der Herstellung von Hochleistungskeramik, elektronischen Sensoren, hochpräzisen Linsen und Optiken, LEDs, Lasern, Wärmedämmschichten, Plasmabildschirmen und mehr verwendet. KINTEK bietet ein vielfältiges Sortiment an hochreinen Metallen sowie binären und ternären Metallverbindungen in verschiedenen Formen, Zusammensetzungen, Dispersionen, Partikelgrößen und Gewichten für Forschungs- und kommerzielle Anwendungen. Strategische Spezialmetalle werden in High-Tech-Anwendungen eingesetzt und können aufgrund ihrer aufwendigen Verarbeitung teuer sein.

Wofür werden hochreine Metalle verwendet?

Hochreine Metalle werden in verschiedenen fortschrittlichen Technologien verwendet, die spezifische Eigenschaften, Leistung und Qualität erfordern. Sie werden zur Herstellung von Leuchtstofflampen, Plasmabildschirmen, LEDs, hochpräzisen Linsen und Optiken, elektronischen Sensoren, Hochleistungskeramik, Wärmedämmschichten, Lasern und vielem mehr verwendet. Diese Metalle werden auch bei der Herstellung hochwertiger magnetischer, thermoelektrischer, phosphoreszierender und halbleitender Materialien verwendet. KINTEK bietet ein vielfältiges Portfolio an hochreinen Metallen, binären und ternären Metallverbindungen, magnetischen Legierungen, Metalloxiden, Nanomaterialien und metallorganischen Vorläufern in verschiedenen Formen, Zusammensetzungen, Dispersionen, Partikelgrößen und Gewichten für alle Forschungs- und kommerziellen Anwendungen.
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4.9

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Absolutely satisfied with the quality of Hafnium Sputtering Target from KINTEK SOLUTION. The purity level is exceptional and meets our research requirements precisely.

Anahit Nersisyan

4.7

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5

KINTEK's Hafnium Powder has been a game-changer for our lab's nanotechnology research. Its ultra-high surface area has opened up new possibilities for our experiments.

Karim Rajaie

4.8

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5

The Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION arrived promptly and exceeded our expectations. Its consistent quality has ensured reliable results in our thin-film deposition processes.

Milica Vasic

4.6

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5

KINTEK SOLUTION's Hafnium Block has proven to be an excellent choice for our sputtering applications. Its high density and purity have contributed to the success of our research.

Daisuke Honda

4.8

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5

We have been thoroughly impressed with the Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION. Their uniform size and purity have enabled us to achieve consistent and precise results in our experiments.

Elif Yildiz

4.9

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5

KINTEK SOLUTION's Hafnium Sputtering Target has been an outstanding addition to our laboratory. Its durability has ensured long-lasting performance, saving us both time and resources.

Thiago Oliveira

4.7

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5

The Hafnium Powder from KINTEK SOLUTION has been instrumental in our groundbreaking research. Its exceptional purity and fine particle size have allowed us to explore new frontiers in materials science.

Stefania Bianchi

4.8

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5

We highly recommend the Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION. Its consistent quality and ease of handling have made it an indispensable tool in our laboratory.

Zuzana Novotna

4.6

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5

KINTEK SOLUTION's Hafnium Block is an excellent choice for high-temperature applications. Its exceptional thermal conductivity has enabled us to achieve outstanding results in our research.

Aleksej Ivanov

4.8

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5

The Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION have been a valuable asset to our laboratory. Their uniform size and purity have contributed to the accuracy and reliability of our experiments.

Nurdan Ozdemir

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