Labormaterialien

Hochreines Chromoxid (Cr2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Name: Hochreines Chromoxid (Cr2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Brand: Kintek Solution
SKU: LM-Cr2O3
Rating: 4.81 (17 reviews)

Artikelnummer : LM-Cr2O3

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen

Chemische Formel: Cr2O3
Reinheit: 4N
Form: Scheiben / Draht / Block / Pulver / Platten / Säulentargets / Stufentargets / Sonderanfertigungen

Versand:

Kontaktieren Sie uns um Versanddetails zu erhalten. Genießen Sie Garantie für pünktliche Lieferung.

Beschreibung
Bewertungen
Downloads

Fordern Sie Ihr individuelles Angebot an 👋

E-Mail senden Holen Sie sich jetzt Ihr Angebot! Eine Nachricht hinterlassen Schnell Angebot einholen Via Whatsapp

Wir bieten Chromoxid (Cr2O3)-Materialien für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen an. Unsere Spezialisierung liegt in der Herstellung und kundenspezifischen Anpassung von Chromoxid (Cr2O3)-Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden.

Wir bieten eine breite Palette an Spezifikationen und Größen für verschiedene Anwendungen wie Sputtertargets (rund, quadratisch, röhrenförmig, unregelmäßig), Beschichtungsmaterialien, Zylinder, Kegel, Partikel, Folien, Pulver, 3D-Druckpulver, Nanometerpulver, Walzdrähte, Barren , und Blöcke, unter anderem.

Einzelheiten

Über Chromoxid (Cr2O3)

Chrom(III)-Oxid. Es handelt sich um eine äußerst unlösliche und thermisch stabile Chromquelle, die in verschiedenen Branchen wie Glas, Optik und Keramik Anwendung findet. Dieser grüne, hygroskopische Feststoff kommt natürlicherweise als seltenes Mineral Eskolait vor.

Oxidverbindungen sind im Allgemeinen nicht leitend für Elektrizität. Bestimmte Oxide mit Perowskitstruktur sind jedoch elektronisch leitfähig, was sie für die Kathode von Festoxid-Brennstoffzellen und Sauerstofferzeugungssystemen nützlich macht. Diese Verbindungen enthalten mindestens ein Sauerstoffanion und ein Metallkation. Sie sind typischerweise in wässrigen Lösungen unlöslich, was sie äußerst stabil und nützlich in Keramikstrukturen macht, von einfachen Tonschalen bis hin zu fortschrittlicher Elektronik und leichten Strukturkomponenten in Luft- und Raumfahrt- und elektrochemischen Anwendungen.

Hochreines (99,999 %) Chromoxidpulver (Cr2O3) findet Anwendung in Brennstoffzellen, wo es Ionenleitfähigkeit aufweist. Metalloxidverbindungen sind basische Anhydride, das heißt, sie können in Redoxreaktionen mit Säuren und starken Reduktionsmitteln reagieren. Chromoxid ist auch in Pellet-, Stück-, Pulver-, Sputtertarget-, Tabletten- und Nanopulverform erhältlich. Es ist im Allgemeinen in den meisten Mengen sofort verfügbar und hochreine Submikron- und Nanopulverformen können in Betracht gezogen werden.

Qualitätskontrolle der Inhaltsstoffe

Analyse der Rohstoffzusammensetzung: Durch den Einsatz von Geräten wie ICP und GDMS wird der Gehalt an Metallverunreinigungen erfasst und analysiert, um sicherzustellen, dass er dem Reinheitsstandard entspricht;

Nichtmetallische Verunreinigungen werden mit Geräten wie Kohlenstoff- und Schwefelanalysatoren sowie Stickstoff- und Sauerstoffanalysatoren erkannt.
Metallografische Fehlererkennungsanalyse: Das Zielmaterial wird mithilfe von Fehlererkennungsgeräten überprüft, um sicherzustellen, dass im Produkt keine Mängel oder Schrumpfungslöcher vorhanden sind.

Durch metallografische Tests wird die innere Kornstruktur des Zielmaterials analysiert, um sicherzustellen, dass die Körner fein und dicht sind.
Aussehens- und Maßprüfung: Die Produktabmessungen werden mithilfe von Mikrometern und Präzisionsmessschiebern gemessen, um die Übereinstimmung mit den Zeichnungen sicherzustellen.

Die Oberflächenbeschaffenheit und Sauberkeit des Produkts werden mit einem Oberflächenreinheitsmessgerät gemessen.

Konventionelle Sputtertargetgrößen

Vorbereitungsprozess: heißisostatisches Pressen, Vakuumschmelzen usw.
Sputtertargetform: flaches Sputtertarget, Multi-Arc-Sputtertarget, Stufen-Sputtertarget, speziell geformtes Sputtertarget
Runde Sputtertargetgröße: Durchmesser: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Dicke: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Größe kann individuell angepasst werden.
Quadratische Sputtertargetgröße: 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, Größe kann individuell angepasst werden

Verfügbare Metallformen

Details zu Metallformen

Wir stellen fast alle im Periodensystem aufgeführten Metalle in den unterschiedlichsten Formen und Reinheiten sowie in Standardgrößen und -abmessungen her. Wir können auch maßgeschneiderte Produkte herstellen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen, wie z. B. Größe, Form, Oberfläche, Zusammensetzung und mehr. Die folgende Liste stellt eine Auswahl der von uns angebotenen Formulare dar, erhebt jedoch keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Wenn Sie Laborverbrauchsmaterialien benötigen, wenden Sie sich bitte direkt an uns, um ein Angebot anzufordern.

Flache/planare Formen: Karton, Film, Folie, Mikrofolie, Mikroblatt, Papier, Platte, Band, Bogen, Streifen, Band, Wafer
Vorgeformte Formen: Anoden, Kugeln, Bänder, Stäbe, Boote, Bolzen, Briketts, Kathoden, Kreise, Spulen, Tiegel, Kristalle, Würfel, Tassen, Zylinder, Scheiben, Elektroden, Fasern, Filamente, Flansche, Gitter, Linsen, Dorne, Muttern , Teile, Prismen, Pucks, Ringe, Stäbe, Formen, Schilde, Hülsen, Federn, Quadrate, Sputtertargets, Stäbe, Rohre, Unterlegscheiben, Fenster, Drähte
Mikrogrößen: Perlen, Bits, Kapseln, Chips, Münzen, Staub, Flocken, Körner, Granulat, Mikropulver, Nadeln, Partikel, Kieselsteine, Pellets, Stifte, Pillen, Pulver, Späne, Schrot, Schnecken, Kugeln, Tabletten
Makrogrößen: Knüppel, Brocken, Stecklinge, Fragmente, Barren, Klumpen, Nuggets, Stücke, Stanzteile, Steine, Reste, Segmente, Drehspäne
Porös und halbporös: Stoff, Schaum, Gaze, Wabe, Netz, Schwamm, Wolle
Nanoskalig: Nanopartikel, Nanopulver, Nanofolien, Nanoröhren, Nanostäbe, Nanoprismen
Andere: Konzentrat, Tinte, Paste, Niederschlag, Rückstände, Proben, Proben

KinTek ist auf die Herstellung hochreiner und ultrahochreiner Materialien mit einem Reinheitsbereich von 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) und in einigen Fällen bis zu 99,99999 % (7N) spezialisiert ). Unsere Materialien sind in bestimmten Qualitäten erhältlich, darunter UP/UHP-, Halbleiter-, Elektronik-, Abscheidungs-, Glasfaser- und MBE-Qualitäten. Unsere hochreinen Metalle, Oxide und Verbindungen werden speziell für die hohen Anforderungen hochtechnologischer Anwendungen hergestellt und eignen sich ideal für den Einsatz als Dotierstoffe und Vorläufermaterialien für die Dünnschichtabscheidung, das Kristallwachstum von Halbleitern und die Synthese von Nanomaterialien. Diese Materialien finden Verwendung in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Solarzellen, Brennstoffzellen, optischen Materialien und anderen hochmodernen Anwendungen.

Verpackung

Wir verwenden Vakuumverpackungen für unsere hochreinen Materialien und jedes Material verfügt über eine spezifische Verpackung, die auf seine einzigartigen Eigenschaften zugeschnitten ist. Beispielsweise ist unser HF-Sputtertarget extern markiert und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu ermöglichen. Wir legen großen Wert darauf, Schäden zu vermeiden, die bei der Lagerung oder dem Transport entstehen könnten.

FAQ

Was ist physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)?

Bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) handelt es sich um eine Technik zur Abscheidung dünner Filme durch Verdampfen eines festen Materials im Vakuum und anschließende Abscheidung auf einem Substrat. PVD-Beschichtungen sind äußerst langlebig, kratzfest und korrosionsbeständig und eignen sich daher ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, von Solarzellen bis hin zu Halbleitern. PVD erzeugt außerdem dünne Filme, die hohen Temperaturen standhalten. Allerdings kann PVD kostspielig sein und die Kosten variieren je nach verwendeter Methode. Beispielsweise ist die Verdampfung eine kostengünstige PVD-Methode, während das Ionenstrahlsputtern eher teuer ist. Magnetronsputtern hingegen ist teurer, aber skalierbarer.

Was ist ein Sputtertarget?

Ein Sputtertarget ist ein Material, das im Prozess der Sputterabscheidung verwendet wird. Dabei wird das Targetmaterial in winzige Partikel zerkleinert, die einen Sprühnebel bilden und ein Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, beschichten. Sputtertargets bestehen typischerweise aus metallischen Elementen oder Legierungen, obwohl auch einige Keramiktargets erhältlich sind. Sie sind in verschiedenen Größen und Formen erhältlich, wobei einige Hersteller segmentierte Targets für größere Sputtergeräte herstellen. Sputtertargets finden aufgrund ihrer Fähigkeit, dünne Filme mit hoher Präzision und Gleichmäßigkeit abzuscheiden, ein breites Anwendungsspektrum in Bereichen wie Mikroelektronik, Dünnschichtsolarzellen, Optoelektronik und dekorativen Beschichtungen.

Was sind hochreine Materialien?

Unter hochreinen Materialien versteht man Substanzen, die frei von Verunreinigungen sind und ein hohes Maß an chemischer Homogenität aufweisen. Diese Materialien sind in verschiedenen Branchen unverzichtbar, insbesondere im Bereich der fortschrittlichen Elektronik, wo Verunreinigungen die Leistung von Geräten erheblich beeinträchtigen können. Hochreine Materialien werden durch verschiedene Methoden erhalten, darunter chemische Reinigung, Dampfphasenabscheidung und Zonenraffinierung. Bei der Herstellung von Einkristalldiamanten in elektronischer Qualität sind beispielsweise ein hochreines Rohmaterialgas und ein effizientes Vakuumsystem erforderlich, um den gewünschten Grad an Reinheit und Homogenität zu erreichen.

Was ist Magnetronsputtern?

Beim Magnetronsputtern handelt es sich um eine plasmabasierte Beschichtungstechnik zur Herstellung sehr dichter Filme mit ausgezeichneter Haftung. Damit ist es eine vielseitige Methode zur Herstellung von Beschichtungen auf Materialien mit hohem Schmelzpunkt, die nicht verdampft werden können. Diese Methode erzeugt ein magnetisch eingeschlossenes Plasma nahe der Oberfläche eines Ziels, wo positiv geladene energiereiche Ionen mit dem negativ geladenen Zielmaterial kollidieren und Atome ausgestoßen oder „zerstäubt“ werden. Diese ausgestoßenen Atome werden dann auf einem Substrat oder Wafer abgeschieden, um die gewünschte Beschichtung zu erzeugen.

Wie werden Sputtertargets hergestellt?

Sputtertargets werden abhängig von den Eigenschaften des Targetmaterials und seiner Anwendung mithilfe verschiedener Herstellungsverfahren hergestellt. Dazu gehören Vakuumschmelzen und -walzen, Heißpressen, spezielle Press-Sinterverfahren, Vakuum-Heißpressen und Schmiedeverfahren. Die meisten Sputtertargetmaterialien können in einer Vielzahl von Formen und Größen hergestellt werden, wobei kreisförmige oder rechteckige Formen am häufigsten vorkommen. Targets bestehen in der Regel aus metallischen Elementen oder Legierungen, es können aber auch Keramiktargets verwendet werden. Es sind auch zusammengesetzte Sputtertargets erhältlich, die aus einer Vielzahl von Verbindungen hergestellt werden, darunter Oxide, Nitride, Boride, Sulfide, Selenide, Telluride, Karbide, Kristalle und Verbundmischungen.

Warum Magnetronsputtern?

Magnetronsputtern wird bevorzugt, da es eine hohe Präzision bei der Filmdicke und Dichte der Beschichtungen ermöglicht und damit den Verdampfungsmethoden überlegen ist. Diese Technik eignet sich besonders zur Herstellung metallischer oder isolierender Beschichtungen mit spezifischen optischen oder elektrischen Eigenschaften. Darüber hinaus können Magnetron-Sputtersysteme mit mehreren Magnetronquellen konfiguriert werden.

Wofür wird ein Sputtertarget verwendet?

Sputtertargets werden in einem Prozess namens Sputtern verwendet, bei dem dünne Schichten eines Materials auf einem Substrat abgeschieden werden, wobei Ionen zum Bombardieren des Targets verwendet werden. Diese Targets haben ein breites Anwendungsspektrum in verschiedenen Bereichen, darunter Mikroelektronik, Dünnschichtsolarzellen, Optoelektronik und dekorative Beschichtungen. Sie ermöglichen die Abscheidung dünner Materialfilme auf einer Vielzahl von Substraten mit hoher Präzision und Gleichmäßigkeit, was sie zu einem idealen Werkzeug für die Herstellung von Präzisionsprodukten macht. Sputtertargets gibt es in verschiedenen Formen und Größen und können auf die spezifischen Anforderungen der Anwendung zugeschnitten werden.

Welche Materialien werden bei der Dünnschichtabscheidung verwendet?

Bei der Dünnschichtabscheidung werden üblicherweise Metalle, Oxide und Verbindungen als Materialien verwendet, von denen jedes seine eigenen Vor- und Nachteile hat. Metalle werden aufgrund ihrer Haltbarkeit und einfachen Abscheidung bevorzugt, sind jedoch relativ teuer. Oxide sind sehr langlebig, halten hohen Temperaturen stand und können bei niedrigen Temperaturen abgeschieden werden, können jedoch spröde und schwierig zu verarbeiten sein. Verbindungen bieten Festigkeit und Haltbarkeit, können bei niedrigen Temperaturen aufgetragen und auf bestimmte Eigenschaften zugeschnitten werden.

Die Auswahl des Materials für eine Dünnfilmbeschichtung hängt von den Anwendungsanforderungen ab. Metalle sind ideal für die thermische und elektrische Leitung, während Oxide einen wirksamen Schutz bieten. Die Verbindungen können individuell auf die jeweiligen Anforderungen zugeschnitten werden. Letztendlich hängt das beste Material für ein bestimmtes Projekt von den spezifischen Anforderungen der Anwendung ab.

Was sind Sputtertargets für die Elektronik?

Sputtertargets für die Elektronik sind dünne Scheiben oder Platten aus Materialien wie Aluminium, Kupfer und Titan, mit denen dünne Filme auf Siliziumwafern abgeschieden werden, um elektronische Geräte wie Transistoren, Dioden und integrierte Schaltkreise herzustellen. Diese Targets werden in einem Prozess namens Sputtern verwendet, bei dem Atome des Targetmaterials physikalisch von der Oberfläche ausgestoßen und durch Beschuss des Targets mit Ionen auf einem Substrat abgelagert werden. Sputtertargets für die Elektronik sind bei der Produktion von Mikroelektronik unerlässlich und erfordern in der Regel eine hohe Präzision und Gleichmäßigkeit, um die Qualität der Geräte sicherzustellen.

Welche Methoden gibt es, um eine optimale Dünnschichtabscheidung zu erreichen?

Um dünne Filme mit den gewünschten Eigenschaften zu erzielen, sind hochwertige Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien unerlässlich. Die Qualität dieser Materialien kann durch verschiedene Faktoren wie Reinheit, Korngröße und Oberflächenbeschaffenheit beeinflusst werden.

Die Reinheit von Sputtertargets oder Verdampfungsmaterialien spielt eine entscheidende Rolle, da Verunreinigungen zu Defekten im resultierenden Dünnfilm führen können. Auch die Korngröße beeinflusst die Qualität des dünnen Films, wobei größere Körner zu schlechten Filmeigenschaften führen. Darüber hinaus ist die Oberflächenbeschaffenheit von entscheidender Bedeutung, da raue Oberflächen zu Defekten in der Folie führen können.

Um Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien von höchster Qualität zu erhalten, ist es entscheidend, Materialien auszuwählen, die eine hohe Reinheit, kleine Korngröße und glatte Oberflächen aufweisen.

Verwendungsmöglichkeiten der Dünnschichtabscheidung

Dünnfilme auf Zinkoxidbasis

ZnO-Dünnfilme finden in verschiedenen Branchen Anwendung, beispielsweise in der thermischen, optischen, magnetischen und elektrischen Industrie. Ihre Hauptanwendung liegt jedoch in Beschichtungen und Halbleiterbauelementen.

Dünnschichtwiderstände

Dünnschichtwiderstände sind für die moderne Technologie von entscheidender Bedeutung und werden in Funkempfängern, Leiterplatten, Computern, Hochfrequenzgeräten, Monitoren, WLAN-Routern, Bluetooth-Modulen und Mobiltelefonempfängern verwendet.

Magnetische Dünnfilme

Magnetische Dünnfilme werden in der Elektronik, Datenspeicherung, Radiofrequenzidentifikation, Mikrowellengeräten, Displays, Leiterplatten und Optoelektronik als Schlüsselkomponenten eingesetzt.

Optische Dünnfilme

Optische Beschichtungen und Optoelektronik sind Standardanwendungen optischer Dünnschichten. Durch Molekularstrahlepitaxie können optoelektronische Dünnschichtbauelemente (Halbleiter) hergestellt werden, bei denen epitaktische Filme Atom für Atom auf dem Substrat abgeschieden werden.

Polymer-Dünnfilme

Polymerdünnfilme werden in Speicherchips, Solarzellen und elektronischen Geräten verwendet. Chemische Abscheidungstechniken (CVD) ermöglichen eine präzise Kontrolle von Polymerfilmbeschichtungen, einschließlich Konformität und Beschichtungsdicke.

Dünnschichtbatterien

Dünnschichtbatterien versorgen elektronische Geräte wie implantierbare medizinische Geräte mit Strom, und die Lithium-Ionen-Batterie hat dank der Verwendung dünner Schichten erhebliche Fortschritte gemacht.

Dünnschichtbeschichtungen

Dünnschichtbeschichtungen verbessern die chemischen und mechanischen Eigenschaften von Zielmaterialien in verschiedenen Industrien und Technologiebereichen. Gängige Beispiele sind Antireflexbeschichtungen, Anti-Ultraviolett- oder Anti-Infrarot-Beschichtungen, Anti-Kratz-Beschichtungen und Linsenpolarisation.

Dünnschichtsolarzellen

Dünnschichtsolarzellen sind für die Solarenergieindustrie unverzichtbar und ermöglichen die Produktion relativ günstiger und sauberer Elektrizität. Photovoltaikanlagen und Wärmeenergie sind die beiden wichtigsten anwendbaren Technologien.

Wie hoch ist die Lebensdauer eines Sputtertargets?

Die Lebensdauer eines Sputtertargets hängt von Faktoren wie der Materialzusammensetzung, der Reinheit und der spezifischen Anwendung ab, für die es verwendet wird. Im Allgemeinen können Targets mehrere hundert bis einige tausend Stunden Sputtern überdauern, dies kann jedoch je nach den spezifischen Bedingungen jedes Laufs stark variieren. Auch die richtige Handhabung und Wartung kann die Lebensdauer eines Ziels verlängern. Darüber hinaus kann der Einsatz rotierender Sputtertargets die Laufzeiten verlängern und das Auftreten von Defekten reduzieren, was sie zu einer kostengünstigeren Option für Prozesse mit hohem Volumen macht.

Faktoren und Parameter, die die Abscheidung dünner Schichten beeinflussen

Abscheidungsrate:

Die Geschwindigkeit, mit der die Folie produziert wird, typischerweise gemessen in Dicke dividiert durch Zeit, ist entscheidend für die Auswahl einer für die Anwendung geeigneten Technologie. Für dünne Filme genügen mäßige Abscheideraten, für dicke Filme sind schnelle Abscheideraten erforderlich. Es ist wichtig, ein Gleichgewicht zwischen Geschwindigkeit und präziser Filmdickensteuerung zu finden.

Gleichmäßigkeit:

Die Konsistenz des Films über das Substrat wird als Gleichmäßigkeit bezeichnet, die sich normalerweise auf die Filmdicke bezieht, sich aber auch auf andere Eigenschaften wie den Brechungsindex beziehen kann. Es ist wichtig, die Anwendung gut zu verstehen, um eine Unter- oder Überspezifikation der Einheitlichkeit zu vermeiden.

Füllfähigkeit:

Die Füllfähigkeit oder Stufenabdeckung bezieht sich darauf, wie gut der Abscheidungsprozess die Topographie des Substrats abdeckt. Die verwendete Abscheidungsmethode (z. B. CVD, PVD, IBD oder ALD) hat einen erheblichen Einfluss auf die Stufenabdeckung und -füllung.

Filmeigenschaften:

Die Eigenschaften des Films hängen von den Anforderungen der Anwendung ab, die in photonische, optische, elektronische, mechanische oder chemische Anforderungen eingeteilt werden können. Die meisten Filme müssen Anforderungen in mehr als einer Kategorie erfüllen.

Prozesstemperatur:

Die Filmeigenschaften werden erheblich von der Prozesstemperatur beeinflusst, die durch die Anwendung eingeschränkt sein kann.

Schaden:

Jede Abscheidungstechnologie birgt das Potenzial, das Material, auf dem sie abgeschieden wird, zu beschädigen, wobei kleinere Strukturen anfälliger für Prozessschäden sind. Zu den potenziellen Schadensquellen zählen Umweltverschmutzung, UV-Strahlung und Ionenbeschuss. Es ist wichtig, die Grenzen der Materialien und Werkzeuge zu verstehen.

Weitere FAQs zu diesem Produkt anzeigen

4.8

out of

5

KINTEK's Chromium Oxide materials have exceeded our expectations in terms of quality and consistency. We highly recommend them for your laboratory needs.

Dr. Elvin Alomar

4.9

out of

5

I've been using KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets for my research for years, and they've always been reliable and produced excellent results. Highly recommended!

Dr. Zara Ali

4.7

out of

5

KINTEK's Chromium Oxide powders have been instrumental in our battery research. Their high purity and fine grain size have enabled us to achieve remarkable results. Keep up the great work!

Dr. Hugo Silva

4.8

out of

5

We've been using KINTEK's Chromium Oxide blocks for our ceramic applications, and we've been thoroughly impressed with their durability and thermal stability. Highly satisfied!

Dr. Fatima Patel

4.9

out of

5

KINTEK's Chromium Oxide granules have been a game-changer for our material science research. Their uniform size and high purity have enabled us to obtain highly accurate and reproducible data. Thank you, KINTEK!

Dr. Samir Patel

4.7

out of

5

We've been using KINTEK's Chromium Oxide wires for our electronics applications, and they've been performing exceptionally well. Their high conductivity and resistance to corrosion have been crucial for our success. Highly recommended!

Dr. Maria Garcia

4.8

out of

5

KINTEK's Chromium Oxide ingots have been a valuable addition to our laboratory. Their high purity and fine grain structure have enabled us to achieve superior results in our research. Thank you, KINTEK!

Dr. Pedro Mendes

4.9

out of

5

I've been using KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets for my thin-film research, and I'm consistently impressed with their performance. They produce high-quality films with excellent uniformity and adhesion. Highly recommended!

Dr. Carla Costa

4.7

out of

5

We've been using KINTEK's Chromium Oxide particles for our catalysis research, and we've been very satisfied with the results. Their high surface area and chemical purity have enabled us to achieve high catalytic activity and selectivity. Thank you, KINTEK!

Dr. Ali Khan

4.8

out of

5

I'm very impressed with the quality and consistency of KINTEK's Chromium Oxide powders. I've been using them for my research on solid oxide fuel cells, and they've been performing exceptionally well. Highly recommended!

Dr. Sofia Ahmed

4.9

out of

5

KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets have been a lifesaver for our research on magnetic materials. They've enabled us to achieve high-quality thin films with excellent magnetic properties. Thank you, KINTEK!

Dr. David Cohen

4.7

out of

5

We've been using KINTEK's Chromium Oxide blocks for our high-temperature applications, and they've been performing flawlessly. Their exceptional thermal stability and durability have been instrumental in our success. Highly recommended!

Dr. Isabella Rossi

4.8

out of

5

I'm very satisfied with the performance of KINTEK's Chromium Oxide granules. I've been using them for my research on electrochemical sensors, and they've been delivering highly reproducible and reliable results. Thank you, KINTEK!

Dr. Juan Perez

4.9

out of

5

KINTEK's Chromium Oxide wires have been a valuable addition to our laboratory. Their high purity and excellent conductivity have enabled us to achieve superior performance in our electronic devices. Highly recommended!

Dr. Emily White

4.7

out of

5

We've been using KINTEK's Chromium Oxide ingots for our research on energy storage materials, and we've been very impressed with their results. Their high energy density and long cycle life have been crucial for our success. Thank you, KINTEK!

Dr. Samuel Green

4.8

out of

5

I'm very happy with the quality and performance of KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets. They've enabled us to achieve high-quality thin films with excellent optical properties. Highly recommended!

Dr. Olivia Brown

4.9

out of

5

KINTEK's Chromium Oxide particles have been a game-changer for our research on nanomaterials. Their uniform size and high purity have enabled us to achieve remarkable results. Thank you, KINTEK!

Dr. Benjamin Miller

Fordern Sie ein Angebot an

Unser professionelles Team wird Ihnen innerhalb eines Werktages antworten. Sie können uns gerne kontaktieren!

Ähnliche Produkte

Hochreines Chrom (Cr)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie erschwingliche Chrommaterialien für Ihren Laborbedarf. Wir produzieren kundenspezifische Formen und Größen, einschließlich Sputtertargets, Folien, Pulver und mehr. Kontaktiere uns heute.

Hochreines Zirkoniumoxid (ZrO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie hochwertige Zirkoniumoxid (ZrO2)-Materialien, die auf Ihre Bedürfnisse zugeschnitten sind. Wir bieten eine Vielzahl von Formen und Größen, einschließlich Sputtertargets, Pulver und mehr, zu erschwinglichen Preisen.

Hochreines Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach Aluminiumoxidmaterialien für Ihr Labor? Wir bieten hochwertige Al2O3-Produkte zu erschwinglichen Preisen mit anpassbaren Formen und Größen, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden. Finden Sie Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr.

Hochreines Yttriumoxid (Y2O3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat

Erhalten Sie hochwertige Yttriumoxid (Y2O3)-Materialien, die auf Ihre individuellen Laboranforderungen zugeschnitten sind. Unser Sortiment umfasst Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr zu angemessenen Preisen.

Hochreines Wolframoxid (WO3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Wolframoxid (WO3)-Materialien? Unsere Produkte in Laborqualität sind auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten und stehen in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen zur Verfügung. Kaufen Sie Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien und mehr.

Hochreines Scandiumoxid (Sc2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Finden Sie hochwertige Scandiumoxid-Materialien (Sc2O3) für den Laborgebrauch zu angemessenen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Lösungen passen unterschiedliche Reinheiten, Formen und Größen an Ihre Anforderungen an. Schauen Sie sich unser Sortiment an Sputtertargets, Pulvern, Folien und mehr an.

Alkalifreies / Boro-Aluminosilikatglas

Boroaluminosilikatglas ist sehr beständig gegen thermische Ausdehnung und eignet sich daher für Anwendungen, die eine Beständigkeit gegen Temperaturschwankungen erfordern, wie z. B. Laborglaswaren und Kochutensilien.

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Chrom-Nickel-Legierung (CrNi).

Suchen Sie nach hochwertigen Materialien aus Chrom-Nickel-Legierung (CrNi) für Ihr Labor? Suchen Sie nicht weiter als nach unseren fachmännisch gefertigten und maßgeschneiderten Optionen. Entdecken Sie unsere große Auswahl an Größen und Spezifikationen, einschließlich Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr. Jetzt einkaufen!

Zirkonoxid-Keramikplatte – Yttriumoxid-stabilisiert, präzisionsgefertigt

Yttriumstabilisiertes Zirkonoxid zeichnet sich durch hohe Härte und hohe Temperaturbeständigkeit aus und hat sich zu einem wichtigen Material im Bereich feuerfester Materialien und Spezialkeramiken entwickelt.

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Aluminium-Chrom-Legierung (AlCr).

Hochreines Ceroxid (CeO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochwertige Ceroxid-Materialien (CeO2) für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Anpassbare Formen und Größen. Sputtertargets, Pulver, 3D-Druckpulver und mehr. Jetzt bestellen!

Aluminiumoxid (Al2O3) Keramik-Kühlkörper – Isolierung

Die Lochstruktur des Keramikkühlkörpers vergrößert die Wärmeableitungsfläche im Kontakt mit der Luft, was den Wärmeableitungseffekt erheblich verbessert und der Wärmeableitungseffekt besser ist als der von Superkupfer und Aluminium.

Hochreines Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach Siliziumdioxid-Materialien für Ihr Labor? Unsere fachmännisch maßgeschneiderten SiO2-Materialien sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich. Stöbern Sie noch heute in unserem breiten Angebot an Spezifikationen!

Hochreines Molybdänoxid (MoO3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Molybdänoxid (MoO3)-Materialien für Ihren Laborbedarf? Unser Unternehmen bietet maßgeschneiderte Lösungen zu angemessenen Preisen. Wir bieten eine große Auswahl an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr. Kontaktiere uns heute!

Optische Quarzplatte JGS1 / JGS2 / JGS3

Die Quarzplatte ist eine transparente, langlebige und vielseitige Komponente, die in verschiedenen Branchen weit verbreitet ist. Es besteht aus hochreinem Quarzkristall und weist eine hervorragende thermische und chemische Beständigkeit auf.

Hochreines Hafniumoxid (HfO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie hochwertige Hafniumoxid (HfO2)-Materialien für Ihren Laborbedarf zu erschwinglichen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Produkte sind in verschiedenen Größen und Formen erhältlich, darunter Sputtertargets, Beschichtungen, Pulver und mehr.

Hochreines Zinkoxid (ZnO) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Finden Sie hochwertige Zinkoxidmaterialien (ZnO) für Ihren Laborbedarf zu günstigen Preisen. Unser Expertenteam produziert maßgeschneiderte Materialien in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen, darunter Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr. Jetzt einkaufen!

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.

Aluminiumoxid (Al2O3) Keramikstabisoliert

Isolierter Aluminiumoxidstab ist ein feines Keramikmaterial. Aluminiumoxidstäbe verfügen über hervorragende elektrische Isoliereigenschaften, eine hohe chemische Beständigkeit und eine geringe Wärmeausdehnung.

Hochreines Neodymoxid (Nd2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Kaufen Sie hochwertige Neodymoxid-Materialien für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Produkte sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Sputtertargets, Pulvern und mehr.

Infrarot-Silizium / hochbeständiges Silizium / Einkristall-Siliziumlinse

Silizium (Si) gilt weithin als eines der langlebigsten mineralischen und optischen Materialien für Anwendungen im Nahinfrarotbereich (NIR), etwa 1 μm bis 6 μm.

Hochreines Rhodium (Rh)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie hochwertige Rhodiummaterialien für Ihren Laborbedarf zu günstigen Preisen. Unser Expertenteam produziert und passt Rhodium in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen an, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Wählen Sie aus einer breiten Produktpalette, darunter Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr.

Hochreines Wismutoxid (Bi2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie hochwertige Wismutoxid-Materialien (Bi2O3) für den Laborgebrauch zu angemessenen Preisen. Wählen Sie aus einer großen Auswahl an Größen und Formen, um Ihren individuellen Bedürfnissen gerecht zu werden. Jetzt bestellen!

Iridiumdioxid IrO2 zur Elektrolyse von Wasser

Iridiumdioxid, dessen Kristallgitter eine Rutilstruktur hat. Iridiumdioxid und andere seltene Metalloxide können in Anodenelektroden für die industrielle Elektrolyse und Mikroelektroden für die elektrophysiologische Forschung verwendet werden.

Hochreines Eisenoxid (Fe3O4) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie Eisenoxidmaterialien (Fe3O4) in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen für den Laborgebrauch. Unser Sortiment umfasst Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver, Walzdrähte und mehr. Kontaktiere uns jetzt.

Sonderformteile aus Aluminiumoxid-Zirkonoxid, die maßgeschneiderte Keramikplatten verarbeiten

Aluminiumoxidkeramik weist eine gute elektrische Leitfähigkeit, mechanische Festigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit auf, während Zirkonoxidkeramik für ihre hohe Festigkeit und hohe Zähigkeit bekannt ist und weit verbreitet ist.

Hochreines Nickeloxid (Ni2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Finden Sie hochwertige Nickeloxidmaterialien für Ihren Laborbedarf zu erschwinglichen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Lösungen passen zu Ihren spezifischen Anforderungen. Entdecken Sie eine Reihe von Formen, Größen und Spezifikationen für Sputtertargets, Beschichtungen, Pulver und mehr.

Beliebte Tags

Sputtertargets hochreine Materialien Dünnschichtabscheidungsmaterialien

Abkürzung