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Hochreines Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Labormaterialien

Hochreines Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Artikelnummer : LM-SIO2

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Chemische Formel
SiO2
Reinheit
4N-5N
Form
Scheiben / Draht / Block / Pulver / Platten / Säulentargets / Stufentargets / Sonderanfertigungen
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Zu angemessenen Preisen bieten wir Siliziumdioxid (SiO2)-Materialien an, die speziell für den Laborgebrauch entwickelt wurden. Unsere Expertise liegt in der Herstellung und kundenspezifischen Anpassung von Siliziumdioxid (SiO2)-Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe, die Ihren individuellen Anforderungen entsprechen.

Wir bieten ein breites Spektrum an Spezifikationen und Größen für Sputtertargets (rund, quadratisch, röhrenförmig, unregelmäßig), Beschichtungsmaterialien, Zylinder, Kegel, Partikel, Folien, Pulver, 3D-Druckpulver, Nanometerpulver, Walzdrähte, Barren und Blöcke. unter anderen.

Einzelheiten

Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget
Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget
Siliziumdioxid (SiO2)-Kristallpartikel
Siliziumdioxid (SiO2)-Kristallpartikel
Siliziumdioxid (SiO2)-Kristallpartikel
Siliziumdioxid (SiO2)-Kristallpartikel

Über Siliziumdioxid (SiO2)

Siliziumdioxid ist eine äußerst unlösliche und thermisch stabile Siliziumquelle, die in der Glas-, Optik- und Keramikindustrie Anwendung findet. Oxidverbindungen sind im Allgemeinen nicht leitend für Elektrizität. Bestimmte Perowskit-strukturierte Oxide sind jedoch elektronisch leitfähig und werden in der Kathode von Festoxid-Brennstoffzellen und Sauerstofferzeugungssystemen verwendet. Diese Verbindungen enthalten mindestens ein Sauerstoffanion und ein Metallkation, wodurch sie typischerweise in wässrigen Lösungen unlöslich sind.

Metalloxidverbindungen sind basische Anhydride und können in Redoxreaktionen mit Säuren und starken Reduktionsmitteln reagieren. Dennoch ist Siliziumoxid äußerst stabil und nützlich bei der Herstellung keramischer Strukturen, von Tonschalen bis hin zu fortschrittlicher Elektronik und leichten Strukturbauteilen in der Luft- und Raumfahrt sowie bei elektrochemischen Anwendungen wie Brennstoffzellen, wo es ionische Leitfähigkeit aufweist.

Siliziumoxid ist in verschiedenen Formen erhältlich, darunter Pellets, Stücke, Pulver, Sputtertargets, Tabletten und Nanopulver. Wir produzieren Siliziumdioxid in vielen Standardqualitäten, einschließlich Mil Spec, ACS, Reagenzien- und technischer Qualität, Lebensmittel-, Agrar- und Pharmaqualität, optischer Qualität, USP und EP/BP. Wir bieten unseren Kunden auch maßgeschneiderte Verpackungsoptionen an.

Wir bieten ultrahochreine, hochreine, Submikron- und Nanopulverformen von Siliziumdioxid an. Für die Umrechnung relevanter Maßeinheiten steht uns auch ein Referenzrechner zur Verfügung.

Qualitätskontrolle der Inhaltsstoffe

Analyse der Rohstoffzusammensetzung
Durch den Einsatz von Geräten wie ICP und GDMS wird der Gehalt an Metallverunreinigungen erfasst und analysiert, um sicherzustellen, dass er dem Reinheitsstandard entspricht;

Nichtmetallische Verunreinigungen werden mit Geräten wie Kohlenstoff- und Schwefelanalysatoren sowie Stickstoff- und Sauerstoffanalysatoren erkannt.
Metallografische Fehlererkennungsanalyse
Das Zielmaterial wird mithilfe von Fehlererkennungsgeräten überprüft, um sicherzustellen, dass im Produkt keine Mängel oder Schrumpfungslöcher vorhanden sind.

Durch metallografische Tests wird die innere Kornstruktur des Zielmaterials analysiert, um sicherzustellen, dass die Körner fein und dicht sind.
Aussehens- und Maßprüfung
Die Produktabmessungen werden mithilfe von Mikrometern und Präzisionsmessschiebern gemessen, um die Übereinstimmung mit den Zeichnungen sicherzustellen.

Die Oberflächenbeschaffenheit und Sauberkeit des Produkts werden mit einem Oberflächenreinheitsmessgerät gemessen.

Konventionelle Sputtertargetgrößen

Vorbereitungsprozess
heißisostatisches Pressen, Vakuumschmelzen usw.
Sputtertargetform
flaches Sputtertarget, Multi-Arc-Sputtertarget, Stufen-Sputtertarget, speziell geformtes Sputtertarget
Runde Sputtertargetgröße
Durchmesser: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Dicke: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Größe kann individuell angepasst werden.
Quadratische Sputtertargetgröße
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, Größe kann individuell angepasst werden

Verfügbare Metallformen

Details zu Metallformen

Wir stellen fast alle im Periodensystem aufgeführten Metalle in den unterschiedlichsten Formen und Reinheiten sowie in Standardgrößen und -abmessungen her. Wir können auch maßgeschneiderte Produkte herstellen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen, wie z. B. Größe, Form, Oberfläche, Zusammensetzung und mehr. Die folgende Liste stellt eine Auswahl der von uns angebotenen Formulare dar, erhebt jedoch keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Wenn Sie Laborverbrauchsmaterialien benötigen, wenden Sie sich bitte direkt an uns, um ein Angebot anzufordern.

  • Flache/planare Formen: Karton, Film, Folie, Mikrofolie, Mikroblatt, Papier, Platte, Band, Bogen, Streifen, Band, Wafer
  • Vorgeformte Formen: Anoden, Kugeln, Bänder, Stäbe, Boote, Bolzen, Briketts, Kathoden, Kreise, Spulen, Tiegel, Kristalle, Würfel, Tassen, Zylinder, Scheiben, Elektroden, Fasern, Filamente, Flansche, Gitter, Linsen, Dorne, Muttern , Teile, Prismen, Pucks, Ringe, Stäbe, Formen, Schilde, Hülsen, Federn, Quadrate, Sputtertargets, Stäbe, Rohre, Unterlegscheiben, Fenster, Drähte
  • Mikrogrößen: Perlen, Bits, Kapseln, Chips, Münzen, Staub, Flocken, Körner, Granulat, Mikropulver, Nadeln, Partikel, Kieselsteine, Pellets, Stifte, Pillen, Pulver, Späne, Schrot, Schnecken, Kugeln, Tabletten
  • Makrogrößen: Knüppel, Brocken, Stecklinge, Fragmente, Barren, Klumpen, Nuggets, Stücke, Stanzteile, Steine, Reste, Segmente, Drehspäne
  • Porös und halbporös: Stoff, Schaum, Gaze, Wabe, Netz, Schwamm, Wolle
  • Nanoskalig: Nanopartikel, Nanopulver, Nanofolien, Nanoröhren, Nanostäbe, Nanoprismen
  • Andere: Konzentrat, Tinte, Paste, Niederschlag, Rückstände, Proben, Proben

KinTek ist auf die Herstellung hochreiner und ultrahochreiner Materialien mit einem Reinheitsbereich von 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) und in einigen Fällen bis zu 99,99999 % (7N) spezialisiert ). Unsere Materialien sind in bestimmten Qualitäten erhältlich, darunter UP/UHP-, Halbleiter-, Elektronik-, Abscheidungs-, Glasfaser- und MBE-Qualitäten. Unsere hochreinen Metalle, Oxide und Verbindungen werden speziell für die hohen Anforderungen hochtechnologischer Anwendungen hergestellt und eignen sich ideal für den Einsatz als Dotierstoffe und Vorläufermaterialien für die Dünnschichtabscheidung, das Kristallwachstum von Halbleitern und die Synthese von Nanomaterialien. Diese Materialien finden Verwendung in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Solarzellen, Brennstoffzellen, optischen Materialien und anderen hochmodernen Anwendungen.

Verpackung

Wir verwenden Vakuumverpackungen für unsere hochreinen Materialien und jedes Material verfügt über eine spezifische Verpackung, die auf seine einzigartigen Eigenschaften zugeschnitten ist. Beispielsweise ist unser HF-Sputtertarget extern markiert und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu ermöglichen. Wir legen großen Wert darauf, Schäden zu vermeiden, die bei der Lagerung oder dem Transport entstehen könnten.

FAQ

Was sind optische Quarzplatten?

Optische Quarzplatten sind transparente, langlebige Komponenten aus hochreinem Quarzkristall. Sie werden aufgrund ihrer ausgezeichneten thermischen und chemischen Beständigkeit in verschiedenen Industriezweigen eingesetzt.

Was sind hochreine Materialien?

Unter hochreinen Materialien versteht man Substanzen, die frei von Verunreinigungen sind und ein hohes Maß an chemischer Homogenität aufweisen. Diese Materialien sind in verschiedenen Branchen unverzichtbar, insbesondere im Bereich der fortschrittlichen Elektronik, wo Verunreinigungen die Leistung von Geräten erheblich beeinträchtigen können. Hochreine Materialien werden durch verschiedene Methoden erhalten, darunter chemische Reinigung, Dampfphasenabscheidung und Zonenraffinierung. Bei der Herstellung von Einkristalldiamanten in elektronischer Qualität sind beispielsweise ein hochreines Rohmaterialgas und ein effizientes Vakuumsystem erforderlich, um den gewünschten Grad an Reinheit und Homogenität zu erreichen.

Was sind die wichtigsten Arten von optischen Quarzplatten?

Zu den wichtigsten Arten von optischen Quarzplatten gehören JGS1-, JGS2- und JGS3-Quarzplatten, hochtemperaturbeständige optische Quarzglasplatten, K9-Quarzplatten, optische ultraklare Glasplatten, optische Diamantfenster, MgF2-Magnesiumfluorid-Kristallsubstrate, Infrarot-Siliziumlinsen, Quarz-Elektrolysezellen, Bariumfluorid-Substrate, CaF2-Substrate, Saphirplatten mit Infrarot-Transmissionsbeschichtung, ITO/FTO-Glasspeicher, optisches Float-Soda-Kalk-Glas, Borosilikatglas, glasartige Kohlenstoffplatten und hochreine Siliziumdioxid-Materialien.

Welche Anwendungen gibt es für optische Quarzplatten?

Optische Quarzplatten werden in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, z. B. in der Telekommunikation, in der Astronomie, in Labors, für Hochleistungs-Infrarotlaser und Mikrowellenfenster, für die VUV- und Infrarotspektroskopie, für Anwendungen im Nahinfrarotbereich, für elektrochemische Experimente und vieles mehr.

Was sind die Vorteile der Verwendung von optischen Quarzplatten?

Optische Quarzplatten bieten eine Reihe von Vorteilen, wie z. B. hervorragende thermische und chemische Beständigkeit, hohe Klarheit, maßgeschneiderte Brechungseigenschaften, Beständigkeit gegen Laserschäden, Stabilität in verschiedenen Umgebungen und Vielseitigkeit in verschiedenen Branchen.

Wie werden optische Quarzplatten hergestellt?

Optische Quarzplatten werden in der Regel aus hochreinem Quarzkristall hergestellt. Je nach Typ werden sie verschiedenen Prozessen unterzogen, um ihre optischen Eigenschaften zu verbessern, z. B. durch Beschichtung oder Formgebung, um genaue Spezifikationen zu erfüllen.

Was macht K9-Quarzglasplatten so einzigartig?

K9-Quarzplatten, auch als K9-Kristall bekannt, sind eine Art von optischem Borosilikat-Kronglas, das für seine außergewöhnlichen optischen Eigenschaften bekannt ist. Sie werden aufgrund ihrer hohen Klarheit und ihrer maßgeschneiderten Brechungseigenschaften häufig in optischen Anwendungen eingesetzt.

Welche Rolle spielen optische Quarzplatten in der Telekommunikation?

Optische Quarzplatten werden in der Telekommunikation zur präzisen Lichtmanipulation verwendet, um eine klare Signalübertragung zu gewährleisten und die Leistung optischer Geräte zu verbessern.

Wie tragen optische Quarzplatten zur Laborforschung bei?

Optische Quarzplatten sind in der Laborforschung aufgrund ihrer Haltbarkeit, chemischen Beständigkeit und präzisen optischen Eigenschaften unverzichtbar. Sie werden in verschiedenen Experimenten und Versuchsaufbauten verwendet, die hochwertige optische Komponenten erfordern.
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