Goldsputtern ist eine Technik zur Abscheidung einer dünnen Goldschicht auf verschiedenen Oberflächen wie Leiterplatten, Metallschmuck oder medizinischen Implantaten.
Dieses Verfahren ist Teil der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD), bei der Goldatome aus einem Zielmaterial, in der Regel einer Scheibe aus massivem Gold oder einer Goldlegierung, unter hochenergetischen Bedingungen in einer Vakuumkammer ausgestoßen werden.
Die 5 wichtigsten Schritte werden erklärt
1. Anregung der Goldatome
Der Prozess beginnt mit der Anregung der Goldatome im Zielmaterial.
Dies wird durch Beschuss des Targets mit hochenergetischen Ionen erreicht.
2. Auswurf von Goldatomen
Daraufhin werden die Goldatome in Form eines feinen Dampfes aus dem Target herausgeschleudert oder "gesputtert".
3. Kondensation auf dem Substrat
Dieser Dampf kondensiert dann auf einem Substrat und bildet eine dünne, gleichmäßige Goldschicht.
4. Methoden des Goldsputterns
Es gibt verschiedene Methoden der Goldsputterns, wobei die gebräuchlichsten das Gleichstromsputtern, die thermische Aufdampfung und die Elektronenstrahl-Aufdampfung sind.
Beim Gleichstromsputtern wird eine Gleichstromquelle zur Anregung des Zielmaterials verwendet, was es zu einem der einfachsten und kostengünstigsten Verfahren macht.
Bei der thermischen Aufdampfung wird das Gold mit Hilfe eines elektrischen Widerstandselements in einer Niederdruckumgebung erhitzt.
Bei der Elektronenstrahl-Aufdampfung wird das Gold mit einem Elektronenstrahl in einer Hochvakuumumgebung erhitzt.
5. Spezialisierte Ausrüstung und kontrollierte Bedingungen
Das Goldsputterverfahren erfordert spezielle Sputteranlagen und kontrollierte Bedingungen, um die besten Ergebnisse zu erzielen.
Die abgeschiedene Goldschicht ist sehr fein und kann kontrolliert werden, um kundenspezifische Muster zu erzeugen, die spezifischen Anforderungen entsprechen.
Darüber hinaus kann das Sputter-Ätzen verwendet werden, um Teile der Beschichtung abzuheben, indem das Ätzmaterial vom Target abgelöst wird.
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