Dünnschichtabscheidungsgeräte werden in der Fertigungsindustrie zur Herstellung dünner Filmbeschichtungen auf Substraten eingesetzt. Diese Beschichtungen werden in vielen optoelektronischen Geräten, Festkörpergeräten und medizinischen Produkten verwendet. Geräte zur Dünnschichtabscheidung nutzen im Allgemeinen Techniken der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) oder der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD). PVD-Methoden umfassen thermisches Verdampfen und Sputtern, während CVD-Methoden plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung und Niederdruck-chemische Gasphasenabscheidung umfassen. Mit Geräten zur Dünnschichtabscheidung können Beschichtungen erzeugt werden, die langlebig und kratzfest sind und die Leitfähigkeit von Elektrizität oder die Übertragung von Signalen erhöhen oder verringern können.
Kategorien ein-/ausschalten
Abkürzung
Chatten Sie mit uns für eine schnelle und direkte Kommunikation.
An Werktagen sofort antworten (an Feiertagen innerhalb von 8 Stunden)
Ausrüstung zur Dünnschichtabscheidung
CVD-Rohrofen mit mehreren Heizzonen CVD-Maschine
Artikelnummer : KT-CTF14
Artikelnummer : RPM-02
Artikelnummer : XRF-980
Artikelnummer : cvdm-05
Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung
Artikelnummer : MP-CVD-100
RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung
Artikelnummer : KT-RFPE
Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum
Artikelnummer : KTMP315
Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)
Artikelnummer : KT-PED
Schräge Rotationsrohrofenmaschine für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD).
Artikelnummer : KT-PE16
Schiebe-PECVD-Rohrofen mit Flüssigvergaser-PECVD-Maschine
Artikelnummer : KT-PE12
Vom Kunden gefertigte, vielseitige CVD-Rohrofen-CVD-Maschine
Artikelnummer : KT-CTF16
CVD-Rohrofen mit geteilter Kammer und Vakuumstation CVD-Maschine
Artikelnummer : KT-CTF12
Hochtemperaturbeständige optische Quarzglasscheibe
Artikelnummer : KTOM-HTR
Infrarot-Transmissionsbeschichtung, Saphirfolie/Saphirsubstrat/Saphirfenster
Artikelnummer : KTOM-ISS
Artikelnummer : KES01
Leitfähiger Bornitrid-Tiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung (BN-Tiegel)
Artikelnummer : KES03
Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtungs-Wolframtiegel / Molybdäntiegel
Artikelnummer : KMS04
Sauerstofffreier Kupfertiegel mit Elektronenstrahlverdampfungsbeschichtung
Artikelnummer : KMS06
400–700 nm Wellenlänge. Antireflektierendes/AR-beschichtetes Glas
Artikelnummer : KTOM-ARG
Artikelnummer : cvdm-07
Fordern Sie Ihr individuelles Angebot an 👋
Holen Sie sich jetzt Ihr Angebot! Eine Nachricht hinterlassen Schnell Angebot einholen Via WhatsappWir haben die besten Lösungen für die Dünnschichtabscheidungsausrüstung, die Ihre Erwartungen übertreffen werden. Unser umfangreiches Portfolio bietet eine Reihe von Standardlösungen für Ihre Anforderungen, und unser maßgeschneiderter Designservice ermöglicht es uns, nahezu jede Kundenanforderung zu erfüllen. Unsere Dünnschicht-Sputtersysteme können mit verschiedenen Hardware- oder Softwareoptionen konfiguriert werden, einschließlich Sputter-Ätz- oder Ionenquellenfunktionen für die In-situ-Reinigung von Substratoberflächen oder Substratvorheizstationen. Wählen Sie uns für Ihren Bedarf an Dünnschichtabscheidungsgeräten.
Anwendungen von Dünnschicht-Abscheidungsgeräten
- Halbleiterfertigungsindustrie zur Herstellung integrierter Schaltkreise und Mikroprozessoren.
- Herstellung optischer Geräte wie Linsen, Spiegel und Filter.
- Herstellung von Solarmodulen zur Herstellung von Dünnschichtsolarzellen.
- Herstellung medizinischer Geräte, einschließlich chirurgischer Instrumente und Implantate.
- Dünnschichtbatterien für den Einsatz in medizinischen Produkten, Smartcards und grünen Energiespeicherbanken.
- Herstellung von Faserlasern, die dünne Filme für hohe Reflektivität und Antireflexionsbeschichtungen erfordern.
- Dünnschichttransistoren zur Verwendung in Flüssigkristallanzeigen.
- Herstellung von LED-Displays für die Unterhaltungselektronik.
- Herstellung magnetischer Speichergeräte wie Festplatten und Magnetbänder.
- Dünnfilmbeschichtungen zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit von Materialien, die in der Luft- und Raumfahrt- und Automobilindustrie verwendet werden.
Vorteile von Dünnschicht-Abscheidungsgeräten
- Verbesserte Haftung, Korrosion und Verschleißfestigkeit der Zielmaterialien
- Erhöhte Haltbarkeit und Langlebigkeit des Untergrundes
- Ermöglicht die Produktion von relativ günstigem und sauberem Strom durch Dünnschichtsolarzellen
- Bietet ästhetische Vorteile, z. B. die Verbesserung des Erscheinungsbilds eines Untergrunds oder dessen stärkere Reflexion
- Kann eine Vielzahl von metallischen, keramischen und halbleitenden Dünnfilmen abscheiden
- Kann Bauteile mit komplexen Formen gleichmäßig beschichten, da sie sich nicht in der Sichtlinie befinden
- PVD-Beschichtungen können langlebiger und korrosionsbeständiger sein als Beschichtungen, die im galvanischen Verfahren aufgebracht werden
- Die meisten Beschichtungen weisen eine außergewöhnliche Abriebfestigkeit, hohe Temperaturbeständigkeit und gute Schlagzähigkeit auf und sind so langlebig, dass schützende Deckbeschichtungen praktisch nie erforderlich sind
- Dünnschichtbatterien sind im Vergleich zu herkömmlichen Li-Ionen-Batterien effizienter, laden schneller auf und halten länger. Dadurch verbessern sie die Leistung von medizinischen Produkten, Implantaten, Smartcards und grünen Energiespeicherbanken
- Dünnschichttransistoren sind kostengünstig, energieeffizient und bieten eine bessere Reaktionszeit, was sie zu einem wichtigen Bestandteil von Flüssigkristallanzeigen macht
- Die Dünnschichttechnologie hat unzählige Anwendungen, darunter unter anderem Halbleiter, medizinische Geräte, Faserlaser, LED-Anzeigen und andere Unterhaltungselektronik.
Unsere Dünnschichtabscheidungsausrüstung bietet eine kostengünstige Lösung für Ihre Laboranforderungen. Unser Gerätesortiment ist umfassend und auf alle Ihre Standardanforderungen zugeschnitten. Für einzigartigere Anwendungen stellt unser maßgeschneiderter Designservice sicher, dass wir auf Ihre spezifischen Bedürfnisse eingehen.
FAQ
Mit Welchen Methoden Werden Dünne Schichten Abgeschieden?
Was Ist Eine Anlage Zur Dünnschichtabscheidung?
Was Ist Die Dünnschicht-Abscheidungstechnologie?
Fordern Sie ein Angebot an
Unser professionelles Team wird Ihnen innerhalb eines Werktages antworten. Sie können uns gerne kontaktieren!
Ähnliche Artikel
Herstellung und Transfertechnologie von Graphen durch chemische Gasphasenabscheidung
Dieser Artikel gibt einen Überblick über die Verfahren zur Herstellung von Graphen, wobei der Schwerpunkt auf der CVD-Technologie, ihren Übertragungstechniken und den Zukunftsaussichten liegt.
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und hochreine PFA-Rohre
Ein Überblick über das CVD-Verfahren und die Rolle von hochreinen PFA-Rohren in der Halbleiterfertigung.
Fortschrittliche Oberflächenbehandlung: Titan CVD-Beschichtung
Untersucht die Vorteile und Anwendungen von CVD-Beschichtungen auf Titanlegierungen, mit Schwerpunkt auf Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und thermischer Stabilität.
Beschichtungsmethoden für die Herstellung von Einkristallschichten
Ein Überblick über verschiedene Beschichtungsmethoden wie CVD, PVD und Epitaxie zur Herstellung von Einkristallschichten.
Umfassender Überblick über 12 Arten der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)
Erforschen Sie die verschiedenen CVD-Methoden, von plasmaunterstützter bis hin zu Ultrahochvakuum, und ihre Anwendungen in der Halbleiter- und Materialwissenschaft.
Vorteile, Beschränkungen und Prozesskontrolle der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)
Untersucht die Vorteile, Beschränkungen und das Prozessmanagement der CVD-Technologie für Oberflächenbeschichtungen.
Eingehende Untersuchung von Beschichtungen durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Eine umfassende Untersuchung der CVD-Technologie, ihrer Grundsätze, Merkmale, Klassifizierungen, neuen Fortschritte und Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und elektronische Spezialgase
Ein Überblick über die CVD-Technologie und die Rolle elektronischer Spezialgase bei der Halbleiterherstellung.
Photovoltaic Passivation Layer Thin Film Deposition Process
Detailed analysis of the passivation layer thin film deposition methods in TOPCon cells, including PVD and CVD technologies.
Präzise abgestimmte Dünnschichttechnologie: Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) in Chalkogenid-Solarzellen
Untersucht die Rolle der CVD bei der Verbesserung der Leistung und Skalierbarkeit von Chalkogenid-Solarzellen, wobei der Schwerpunkt auf ihren Vorteilen und Anwendungen liegt.
Infrarotspektroskopie Probenvorbereitung und -behandlung
Ausführlicher Leitfaden zur Vorbereitung und Handhabung von festen, flüssigen und gasförmigen Proben für die Infrarotspektroskopie.
Probenvorbereitung in der Transmissionselektronenmikroskopie: Von den Grundlagen zu praktischen Fertigkeiten
Ausführlicher Leitfaden zur TEM-Probenvorbereitung, der Reinigung, Schleifen, Polieren, Fixierung und Abdecktechniken umfasst.
Sechs Probenvorbereitungstechniken für die Infrarotspektroskopie
Ein Überblick über verschiedene Probenvorbereitungsmethoden für die Infrarotspektralanalyse.
Herstellung und Wachstumsmechanismen von Diamant-Dünnschichten durch chemische Gasphasenabscheidung
Dieser Artikel befasst sich mit den Präparationsmethoden und Wachstumsmechanismen von Diamant-Dünnschichten durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und zeigt die Herausforderungen und potenziellen Anwendungen auf.
Fortschrittliche Anwendungen von kultivierten Diamanten in der Halbleiter- und High-End-Fertigung
Erörtert die Verwendung von gezüchteten Diamanten in Halbleitern, bei der Wärmeableitung und in der modernen Fertigung.
Marktperspektiven und Anwendungen von CVD-Diamanten
Erforscht die einzigartigen Eigenschaften von CVD-Diamanten, ihre Präparationsmethoden und ihre vielfältigen Anwendungen in verschiedenen Bereichen.
MPCVD-Einkristalldiamant-Anwendungen in den Bereichen Halbleiter und optische Displays
In diesem Artikel werden die Anwendungen von MPCVD-Einkristalldiamant in den Bereichen Halbleiter und optische Displays erörtert, wobei seine überlegenen Eigenschaften und seine potenziellen Auswirkungen auf verschiedene Branchen hervorgehoben werden.
Fortschritte bei der mikrowellenplasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung für die Herstellung großformatiger Diamant-Einkristalle
Dieser Artikel befasst sich mit den Fortschritten und Herausforderungen bei der Herstellung großformatiger einkristalliner Diamanten mit Hilfe der plasmachemischen Mikrowellen-Gasphasenabscheidung (MPCVD).
Anwendung von Vakuumbeschichtungen auf Architekturglas
Ein eingehender Blick auf die Methoden und Vorteile der Vakuumbeschichtung von Architekturglas mit Schwerpunkt auf Energieeffizienz, Ästhetik und Haltbarkeit.
Faktoren, die die Haftung von magnetrongesputterten Schichten beeinflussen
Eine eingehende Analyse der Schlüsselfaktoren, die die Haftung von Schichten beeinflussen, die mit der Magnetron-Sputter-Technologie hergestellt wurden.