CVD (Chemical Vapor Deposition) wird aufgrund mehrerer entscheidender Vorteile häufig als besser angesehen als PVD (Physical Vapor Deposition).
4 Hauptvorteile von CVD gegenüber PVD
1. Höhere Betriebsdrücke
CVD arbeitet mit höheren Drücken als PVD.
Dadurch entfällt die Notwendigkeit von Hochvakuumpumpen.
Es senkt die Kosten, wenn das System kein umfangreiches Gasmanagement für toxische Gase erfordert.
2. Abscheidung ohne Sichtverbindung
Der höhere Druck in Verbindung mit den laminaren Strömungseigenschaften der CVD ermöglicht eine Abscheidung ohne Sichtverbindung.
Dadurch können konforme Schichten auf Substraten mit unregelmäßigen Oberflächen oder in dicht gepackten Anordnungen abgeschieden werden.
3. Hochreine und dichte Schichten
CVD kann hochreine und dichte Schichten oder Partikel bei relativ hohen Abscheideraten erzeugen.
Diese Fähigkeit ist entscheidend für Anwendungen, die eine gleichmäßige Beschichtung und hohe Reinheit erfordern.
CVD zeichnet sich auch durch seine Vielseitigkeit aus, denn es kann eine breite Palette von Materialien abgeschieden werden, darunter metallische, keramische und halbleitende Dünnschichten.
4. Wirtschaftliche Vorteile
CVD bietet wirtschaftliche Vorteile und reduziert den Bedarf an Hochvakuumbedingungen.
Dies erhöht die Attraktivität von CVD für viele Anwendungen.
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