CVD- und PECVD-Ofen
Kundenspezifische vielseitige CVD-Rohröfen-Systemausrüstung für die chemische Gasphasenabscheidung
Artikelnummer : KT-CTF16
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Maximale Temperatur
- 1600 ℃
- Konstante Arbeitstemperatur
- 1550 ℃
- Ofenrohrdurchmesser
- 60 mm
- Heizzone
- 3x300 mm
- Aufheizrate
- 0-10 ℃/min
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Einleitung
Der CVD-Rohrofen ist ein Hochtemperatur-Ofen, der für Prozesse der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) verwendet wird. Er verfügt über mehrere Heizzonen, die eine präzise Temperaturregelung ermöglichen, eine Hochvakuum-Pumpe, die eine Vakuumumgebung für CVD-Prozesse schafft, und eine Massenfluss-Gasregelstation, die Gase mischt und in das Ofenrohr einleitet. Der Ofen kann Temperaturen bis zu 1200 °C erreichen und hat eine Endvakuumrate von 10^-7 Torr. Er wird häufig in der Halbleiterindustrie zur Abscheidung dünner Schichten verschiedener Materialien eingesetzt, darunter Isoliermaterialien, metallische Materialien und Metalllegierungsmaterialien.
Anwendungen
Mehrzonen-CVD-Rohröfen werden in verschiedenen Forschungs- und Industrieanwendungen eingesetzt, darunter:
- Synthese von Nanomaterialien: Der CVD-Rohrofen ist ideal für das Wachstum von Nanodrähten und die Herstellung von Nanofilmen, die für die Entwicklung fortschrittlicher Materialien mit einzigartigen Eigenschaften entscheidend sind.
- Beschichtungstechnologien: Er wird häufig zur Abscheidung von Metallfilmen, Keramikfilmen und Verbundfilmen verwendet, die für die Verbesserung der Oberflächeneigenschaften verschiedener Materialien unerlässlich sind.
- Verarbeitung von Batteriematerialien: Der Ofen eignet sich zum Trocknen und Sintern von Batteriematerialien, was ein entscheidender Schritt bei der Herstellung von Hochleistungs-Energiespeichergeräten ist.
- Hochtemperatur-Sintern: Er wird bei Hochtemperatur-Atmosphärensintern und Atmosphärenreduktionsprozessen eingesetzt, die für die Verdichtung von Materialien notwendig sind.
- Vakuum-Beschichtung: Die Hochvakuum-Fähigkeiten des Ofens machen ihn perfekt für Vakuum-Beschichtungsanwendungen, bei denen die Reinheit und Qualität der Beschichtung von größter Bedeutung sind.
- Forschung und Entwicklung: Universitäten und wissenschaftliche Forschungsinstitute nutzen diese Ausrüstung für eine breite Palette von Experimenten im Bereich der Materialwissenschaft, einschließlich CVD/CVI (Chemical Vapor Infiltration)-Studien.
- Industrielle Anwendungen: In industriellen Umgebungen wird der CVD-Rohrofen für Prozesse eingesetzt, die eine präzise Temperaturregelung und Gasmanagement erfordern, wie z. B. in der Halbleiterindustrie.
- Plasma-Reinigung und -Ätzen: Die Vielseitigkeit der Ausrüstung ermöglicht die Erweiterung der Funktionalitäten um Plasma-Reinigung und -Ätzen, die für die Vorbereitung von Substraten vor der Abscheidung unerlässlich sind.
Eigenschaften
Der CVD-Rohrofen ist ein vielseitiger und leistungsstarker Ofen, der sich ideal für eine Vielzahl von Anwendungen in Forschung und Industrie eignet. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und Fähigkeiten kann Ihnen dieser Ofen helfen, die bestmöglichen Ergebnisse bei Ihrer Arbeit zu erzielen.
- Mehrzonen-Temperaturregelung: Dieser Ofen verfügt über eine Mehrzonen-Temperaturregelung, mit der Sie die Temperatur in verschiedenen Zonen des Ofens präzise steuern können. Dies ist unerlässlich für Anwendungen, bei denen Sie ein bestimmtes Temperaturprofil oder einen bestimmten Gradienten erstellen müssen.
- Hohe Temperaturfähigkeit: Dieser Ofen kann Temperaturen bis zu 1200 °C erreichen, was ihn ideal für eine Vielzahl von Anwendungen macht. Diese hohe Temperaturfähigkeit ermöglicht anspruchsvolle Prozesse wie CVD, Diffusion und andere Wärmebehandlungen.
- Vakuum- oder Atmosphärenschutz: Dieser Ofen kann unter Vakuum oder Atmosphärenschutz betrieben werden, wodurch er für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Diese Vielseitigkeit ermöglicht die Durchführung von Prozessen, die eine bestimmte Atmosphäre oder Vakuumumgebung erfordern.
- Einfache Bedienung: Dieser Ofen ist einfach zu bedienen und verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche und intuitive Bedienelemente. Dies erleichtert die Einrichtung und Bedienung des Ofens, auch für Benutzer mit begrenzter Erfahrung.
- Kompaktes Design: Dieser Ofen ist kompakt und leicht, wodurch er einfach zu installieren und in verschiedenen Räumen zu verwenden ist. Dieses kompakte Design macht ihn ideal für den Einsatz in Labors und anderen beengten Umgebungen.
Prinzip
Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist eine Dünnschichtabscheidungstechnik, bei der ein Feststoffmaterial aus der Gasphase auf einem Substrat abgeschieden wird. Das Substrat wird auf eine hohe Temperatur erhitzt und ein Gas, das das gewünschte Material enthält, wird in die Kammer eingeleitet. Das Gas reagiert mit dem Substrat, und das gewünschte Material wird auf der Oberfläche abgeschieden.
CVD-Rohröfen werden für CVD-Prozesse verwendet. Der Ofen besteht aus einem beheizten Rohr, das typischerweise aus Quarz oder Aluminiumoxid besteht. Das Substrat wird in das Rohr eingelegt und das Gas in das Rohr eingeleitet. Das Gas strömt durch das Rohr und reagiert mit dem Substrat, wodurch das gewünschte Material auf der Oberfläche abgeschieden wird.
CVD-Rohröfen können zur Abscheidung einer Vielzahl von Materialien verwendet werden, darunter Metalle, Oxide, Nitride und Karbide. Der Prozess wird bei der Herstellung von Halbleitern, Solarzellen und anderen elektronischen Geräten eingesetzt.
Verschiedene Temperatur- und Setup-CVD-Systeme verfügbar
Prinzip
Der CVD-Rohrofen arbeitet nach dem Prinzip der chemischen Gasphasenabscheidung und nutzt ein Hochvakuumsystem und präzise Massenflussregler, um die Abscheidung verschiedener Filme unter kontrollierten Bedingungen zu ermöglichen. Er verwendet Radiofrequenz-Glow-Technologie für hohe Abscheidungsraten und fortschrittliche Heiztechniken für eine gleichmäßige Filmverteilung.
Vorteile
- Hohe Temperaturuniformität: Das Mehrzonen-Design sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung im gesamten Ofen, was für CVD-Prozesse entscheidend ist.
- Präzise Temperaturregelung: Der digitale Temperaturregler ermöglicht eine präzise Steuerung der Ofentemperatur, was für wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse unerlässlich ist.
- Hohe Vakuumfähigkeit: Die Endvakuumrate von 10^-7 Torr ermöglicht die Entfernung von Verunreinigungen aus der Reaktionskammer, was für hochwertige CVD-Filme notwendig ist.
- Einfache Bedienung: Die benutzerfreundliche Oberfläche macht den Ofen auch für unerfahrene Benutzer einfach zu bedienen.
- Vielseitig: Der Ofen kann für eine Vielzahl von CVD-Prozessen verwendet werden, einschließlich Metallabscheidung, Halbleiterverarbeitung und Synthese von Kohlenstoffnanoröhren.
- Kompaktes Design: Das kompakte Design des Ofens macht ihn ideal für den Einsatz in platzbeschränkten Labors.
- Erschwinglich: Der Ofen ist preislich wettbewerbsfähig und bietet somit ein ausgezeichnetes Preis-Leistungs-Verhältnis.
Technische Spezifikationen
| Ofenmodell | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| Max. Temperatur | 1600℃ |
| Konstante Arbeitstemperatur | 1550℃ |
| Ofenrohrmaterial | Hochreines Al2O3-Rohr |
| Ofenrohrdurchmesser | 60mm |
| Heizzone | 3x300mm |
| Kammer material | Aluminiumoxid-polykristalline Faser |
| Heizelement | Siliziumkarbid |
| Aufheizrate | 0-10℃/min |
| Thermoelement | S-Typ |
| Temperaturregler | Digitaler PID-Regler/Touchscreen-PID-Regler |
| Temperaturregelgenauigkeit | ±1℃ |
| Präzise Gasregel einheit | |
| Durchflussmesser | MFC-Massenflussmesser |
| Gaskanäle | 3 Kanäle |
| Durchflussrate | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearität | ±0,5% F.S. |
| Wiederholbarkeit | ±0,2% F.S. |
| Rohrleitung und Ventil | Edelstahl |
| Maximaler Betriebsdruck | 0,45 MPa |
| Durchflussregler | Digitaler Drehknopfregler/Touchscreen-Regler |
| Standard-Vakuumeinheit (optional) | |
| Vakuumpumpe | Rotationsschieber-Vakuumpumpe |
| Pumpenflussrate | 4L/S |
| Vakuumansaugstutzen | KF25 |
| Vakuummeter | Pirani/Widerstands-Silizium-Vakuummeter |
| Nenndruck Vakuum | 10Pa |
| Hochvakuum-Einheit (optional) | |
| Vakuumpumpe | Rotationsschieberpumpe + Molekularpumpe |
| Pumpenflussrate | 4L/S + 110L/S |
| Vakuumansaugstutzen | KF25 |
| Vakuummeter | Compound-Vakuummeter |
| Nenndruck Vakuum | 6x10-5Pa |
| Spezifikationen und Setups können angepasst werden | |
Standardpaket
| Nr. | Beschreibung | Menge |
|---|---|---|
| 1 | Ofen | 1 |
| 2 | Quarzrohr | 1 |
| 3 | Vakuumflansch | 2 |
| 4 | Rohr-Wärmeblock | 2 |
| 5 | Haken für Rohr-Wärmeblock | 1 |
| 6 | Hitzebeständige Handschuhe | 1 |
| 7 | Präzise Gasregelung | 1 |
| 8 | Vakuumeinheit | 1 |
| 9 | Bedienungsanleitung | 1 |
Optionale Einrichtung
- Erkennung und Überwachung von Gasen im Rohr, wie H2, O2 und so weiter
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485-Kommunikationsport für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Steuerung des Durchflusses von Einleitgasen, wie Massendurchflussmesser und Schwimmkörper-Durchflussmesser
- Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, benutzerfreundlichen Funktionen
- Hochvakuum-Pumpenstation-Setups, wie Schiebervakuum pumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
Für Sie entworfen
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