Produkte Thermische Ausrüstung MPCVD Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum
Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

MPCVD

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Artikelnummer : KTWB315

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Mikrowellenleistung
Mikrowellenfrequenz 2450±15MHZ
Ausgangsleistung
1~10 KW stufenlos einstellbar
Mikrowellen-Leckage
≤2MW/cm2
Ausgang Wellenleiterschnittstelle
WR340, 430 mit FD-340, 430 Standardflansch
Probenhalter
Durchmesser des Probentischs≥72mm, effektive Nutzfläche≥66 mm
ISO & CE icon

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MPCVD steht für Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition. Es handelt sich um eine Methode zur Herstellung hochwertiger Diamantschichten im Labor unter Verwendung eines kohlenstoffhaltigen Gases und eines Mikrowellenplasmas.

KinTek MPCVD

MPCVD-Anlage

Das MPCVD-System (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) ist ein Verfahren zur Abscheidung dünner Schichten auf einer Substratoberfläche. Das System besteht aus einer Vakuumkammer, in der der Abscheidungsprozess stattfindet, einem Mikrowellengenerator und einem Gaszufuhrsystem. Der Mikrowellengenerator dient zur Erzeugung eines Plasmas in der Vakuumkammer, das zur Zersetzung und Abscheidung der Gasspezies auf dem Substrat verwendet wird.

Der Mikrowellengenerator ist in der Regel ein Magnetron oder Klystron, das Mikrowellen im Bereich von 2,45 GHz erzeugt. Die Mikrowellen werden durch ein Quarzfenster in die Vakuumkammer eingekoppelt.

Das Gaszufuhrsystem besteht aus Massenflussreglern (MFCs), die den Gasfluss in die Vakuumkammer steuern. Die MFCs sind in Standard-Kubikzentimeter pro Minute (sccm) kalibriert.

Die Temperatur des Substrats wird durch die Position des Plasmas gesteuert und durch ein Thermoelement gemessen. Das Plasma wird zur Erwärmung des Substrats verwendet, und die Temperatur wird durch das Thermoelement überwacht, um sicherzustellen, dass das Substrat während des Abscheidungsprozesses die gewünschte Temperatur hat.

Anwendungen

MPCVD ist eine vielversprechende Technologie für die Herstellung kostengünstiger, hochwertiger großer Diamanten.

Die einzigartigen Eigenschaften des Diamanten, darunter seine Härte, Steifigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit, geringe Wärmeausdehnung, Strahlungshärte und chemische Inertheit, machen ihn zu einem wertvollen Material.

Trotz seines großen Potenzials haben die hohen Kosten, die begrenzte Größe und die Schwierigkeiten bei der Kontrolle von Verunreinigungen bei natürlichen und synthetischen Hochdruck- und Hochtemperaturdiamanten ihre Anwendungen eingeschränkt.

MPCVD ist das wichtigste Verfahren zur Herstellung von Diamantsteinen und -filmen.

Die Züchtung von Diamantfilmen kann sowohl ein- als auch polykristallin sein und wird in der Halbleiterindustrie für großformatige Diamantsubstrate sowie in der Diamantschneid- und Bohrwerkzeugindustrie eingesetzt.

Im Vergleich zur HPHT-Methode für im Labor gezüchtete Diamanten ist die Mikrowellen-CVD-Methode vorteilhaft für die Züchtung großformatiger Diamanten bei geringeren Kosten, was sie zu einer idealen Lösung für Anwendungen in der Halbleiterindustrie, für die Züchtung optischer Diamanten und für den Bedarf des Marktes für große Schmuckdiamanten macht.

KINTEK MPCVD-Maschinen
KINTEK MPCVD-Diamantmaschinen
Neues Modell der KINTEK MPCVD-Diamantanlage
Neues Modell der KINTEK MPCVD-Diamantanlage
Neues Modell der KINTEK MPCVD-Diamantanlage
Neues Modell der KINTEK MPCVD-Diamantanlage
Rohdiamanten gezüchtet mit KINTEK MPCVD
Rohdiamanten, gezüchtet mit KINTEK MPCVD
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen die Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen die Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Anlage wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Anlage wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen die Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen die Diamanten
In der KinTek MPCVD-Anlage wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Anlage wachsen Diamanten
Rohdiamant aus der KINTEK MPCVD-Maschine
Rohdiamant aus der KINTEK MPCVD-Maschine
Rohdiamant aus der KINTEK MPCVD-Anlage
Rohdiamant aus der KINTEK MPCVD-Anlage
Rohdiamant aus einer KINTEK MPCVD-Anlage
Rohdiamant aus einer KINTEK MPCVD-Anlage
MPCVD-gezüchtete Diamanten nach dem Polieren
MPCVD-gezüchtete Diamanten nach dem Polieren
Polykristallin durch KinTek MPCVD
Polykristallin durch KinTek MPCVD

Vorteile von MPCVD

MPCVD ist eine Diamantsynthesemethode, die mehrere Vorteile gegenüber anderen Methoden wie HFCVD und DC-PJ CVD aufweist. Es vermeidet die Verunreinigung von Diamanten durch heiße Drähte und ermöglicht die Verwendung mehrerer Gase, um unterschiedlichen industriellen Anforderungen gerecht zu werden. Im Vergleich zur DC-PJ-CVD ermöglicht sie eine sanfte und kontinuierliche Anpassung der Mikrowellenleistung und eine stabile Steuerung der Reaktionstemperatur, wodurch vermieden wird, dass Kristallkeime aufgrund von Lichtbogenbildung und Flammenausfall vom Substrat fallen. Aufgrund der großen Fläche des stabilen Entladungsplasmas gilt die MPCVD-Methode als die vielversprechendste Diamantsynthesemethode für industrielle Anwendungen.

Die mit der MPCVD-Methode hergestellten Diamanten sind im Vergleich zu den mit der HPHT-Methode hergestellten Diamanten von höherer Reinheit, und der Produktionsprozess verbraucht weniger Energie. Außerdem ermöglicht die MPCVD-Methode die Herstellung größerer Diamanten.

Vorteile unseres MPCVD-Systems

Wir sind seit vielen Jahren in der Branche tätig und haben daher einen großen Kundenstamm, der unseren Anlagen vertraut und sie nutzt. Unsere MPCVD-Anlage läuft seit über 40.000 Stunden ununterbrochen und beweist dabei außergewöhnliche Stabilität, Zuverlässigkeit, Wiederholbarkeit und Kosteneffizienz. Weitere Vorteile unserer MPCVD-Anlage sind:

  • 3-Zoll-Substratwachstumsfläche, max. Chargenbelastung bis zu 45 Stück Diamanten
  • 1-10Kw einstellbare Mikrowellenleistung für weniger Stromverbrauch
  • Reichhaltiges erfahrenes Forschungsteam mit Unterstützung für bahnbrechende Diamant-Züchtungsrezepte
  • Exklusives technisches Unterstützungsprogramm für das Null-Diamanten-Zuchtteam

Durch den Einsatz unserer hochentwickelten Technologie haben wir unser MPCVD-System in mehreren Runden aufgerüstet und verbessert, was zu einer deutlich verbesserten Effizienz und geringeren Kosten geführt hat. Das Ergebnis ist, dass unsere MPCVD-Anlagen an der Spitze des technologischen Fortschritts stehen und zu einem wettbewerbsfähigen Preis angeboten werden. Wir freuen uns auf ein Gespräch mit Ihnen.

KinTek MPCVD-Simulation
KinTek MPCVD-Simulation

Arbeitsprozess

Die MPCVD-Anlage steuert die Strömung der einzelnen Gaswege und den Druck in der Kavität, während die Reaktionsgase (wie CH4, H2, Ar, O2, N2 usw.) unter einem bestimmten Druck in die Kavität eingeleitet werden. Nach der Stabilisierung des Luftstroms erzeugt der 6KW-Festkörpermikrowellengenerator Mikrowellen, die dann durch den Wellenleiter in die Kavität eingeleitet werden.

Das Reaktionsgas geht unter dem Mikrowellenfeld in einen Plasmazustand über und bildet einen Plasmaball, der über dem Diamantsubstrat schwebt. Die hohe Temperatur des Plasmas heizt das Substrat auf eine bestimmte Temperatur auf. Die in der Kavität erzeugte überschüssige Wärme wird durch die Wasserkühleinheit abgeführt.

Um optimale Wachstumsbedingungen während des MPCVD-Züchtungsprozesses von einkristallinem Diamant zu gewährleisten, passen wir Faktoren wie Leistung, Zusammensetzung der Gasquelle und Hohlraumdruck an. Da die Plasmakugel nicht mit der Kavitätenwand in Berührung kommt, ist der Wachstumsprozess frei von Verunreinigungen, was die Qualität des Diamanten verbessert.

Details & Teile

Mikrowellenanlage

Mikrowellenanlage

Reaktionskammer

Reaktionskammer

Gasfluss-System

Gasfluss-System

Vakuum- und Sensorsystem

Vakuum- und Sensorsystem

Technische Daten

Mikrowellen-System
  • Mikrowellenfrequenz 2450±15MHZ,
  • Ausgangsleistung 1~10 KW stufenlos einstellbar
  • Stabilität der Mikrowellenausgangsleistung: <±1%
  • Mikrowellenstreuung ≤2MW/cm2
  • Ausgangswellenleiter-Schnittstelle: WR340, 430 mit FD-340, 430 Standardflansch
  • Kühlwasserdurchfluss: 6-12L/min
  • Stehwellenkoeffizient des Systems: VSWR ≤ 1,5
  • Manueller 3-Pin-Mikrowelleneinsteller, Erregerkavität, Hochleistungslast
  • Eingangsstromversorgung: 380VAC/50Hz ± 10%, dreiphasig
Reaktionskammer
  • Vakuum-Leckagerate<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • Der Grenzdruck ist kleiner als 0,7 Pa (Standardeinstellung mit Pirani-Vakuummeter)
  • Der Druckanstieg der Kammer darf 50 Pa nach 12 Stunden Druckhaltung nicht überschreiten
  • Arbeitsmodus der Reaktionskammer: TM021 oder TM023 Modus
  • Art des Hohlraums: Zylindrischer Resonanzhohlraum, mit einer maximalen Tragkraft von 10KW, hergestellt aus Edelstahl 304, mit wassergekühlter Zwischenschicht und hochreinem Quarzplatten-Dichtungsverfahren.
  • Lufteinlass-Modus: Oberer ringförmiger gleichmäßiger Lufteinlass
  • Vakuumversiegelung: Der untere Anschluss der Hauptkammer und die Injektionsklappe sind mit Gummiringen abgedichtet, die Vakuumpumpe und der Faltenbalg sind mit KF abgedichtet, die Quarzplatte ist mit einem Metall-C-Ring abgedichtet, und der Rest ist mit CF abgedichtet
  • Fenster zur Beobachtung und Temperaturmessung: 8 Beobachtungsöffnungen
  • Probenladeöffnung an der Vorderseite der Kammer
  • Stabile Entladung innerhalb des Druckbereichs von 0,7KPa~30KPa (der Leistungsdruck muss angepasst werden)
Probenhalter
  • Durchmesser des Probentisches≥72mm, effektive Nutzfläche≥66 mm
  • Grundplattenplattform in wassergekühlter Sandwichbauweise
  • Probenhalter kann gleichmäßig elektrisch im Hohlraum angehoben und abgesenkt werden
Gasfluss-System
  • Ganzmetall-Schweißluftscheibe
  • Für alle internen Gaskreisläufe des Geräts sind Schweiß- oder VCR-Verbindungen zu verwenden.
  • 5 Kanäle MFC-Durchflussmesser, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm; CH4: 100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Arbeitsdruck 0,05-0,3MPa, Genauigkeit ±2%
  • Unabhängige pneumatische Ventilsteuerung für jeden Kanal-Durchflussmesser
Kühlsystem
  • 3 Linien Wasserkühlung, Echtzeit-Überwachung von Temperatur und Durchfluss.
  • Der Kühlwasserdurchfluss des Systems ist ≤ 50L/min
  • Der Kühlwasserdruck ist <4KG, und die Wassereintrittstemperatur ist 20-25 ℃.
Temperatursensor
  • Das externe Infrarot-Thermometer hat einen Temperaturbereich von 300-1400 ℃.
  • Genauigkeit der Temperaturregelung < 2 ℃ oder 2%
Steuerungssystem
  • Siemens smart 200 PLC und Touchscreen-Steuerung sind angenommen.
  • Das System verfügt über eine Vielzahl von Programmen, die das automatische Gleichgewicht der Wachstumstemperatur, die genaue Kontrolle des Wachstums Luftdruck, automatische Temperaturerhöhung, automatische Temperaturabfall und andere Funktionen realisieren können.
  • Durch die Überwachung von Wasserdurchfluss, Temperatur, Druck und anderen Parametern kann ein stabiler Betrieb der Anlage und ein umfassender Schutz der Anlage erreicht werden, und die Zuverlässigkeit und Sicherheit des Betriebs kann durch funktionale Verriegelung gewährleistet werden.
Optionale Funktion
  • Zentrales Überwachungssystem
  • Substrat basierende Leistung

Warnungen

Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.

Für Sie entworfen

KinTek bietet umfassenden, maßgeschneiderten Service und Ausrüstung für Kunden auf der ganzen Welt. Unsere spezialisierte Teamarbeit und unsere erfahrenen Ingenieure sind in der Lage, die kundenspezifischen Hardware- und Software-Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen und unseren Kunden beim Aufbau der exklusiven und personalisierten Ausrüstung und Lösung zu helfen!

Bitte senden Sie uns Ihre Ideen, unsere Ingenieure sind jetzt für Sie bereit!

FAQ

Was Ist Mpcvd?

MPCVD steht für Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition und ist ein Verfahren zur Abscheidung dünner Filme auf einer Oberfläche. Es nutzt eine Vakuumkammer, einen Mikrowellengenerator und ein Gaszufuhrsystem, um ein Plasma aus reagierenden Chemikalien und notwendigen Katalysatoren zu erzeugen. MPCVD wird im ANFF-Netzwerk häufig zur Abscheidung von Diamantschichten unter Verwendung von Methan und Wasserstoff eingesetzt, um neuen Diamanten auf einem mit Diamanten bestückten Substrat wachsen zu lassen. Es handelt sich um eine vielversprechende Technologie zur Herstellung kostengünstiger, hochwertiger großer Diamanten und wird in großem Umfang in der Halbleiter- und Diamantschleifindustrie eingesetzt.

Was Ist Eine Mpcvd-Maschine?

Die MPCVD-Maschine (Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition) ist eine Laborausrüstung zur Züchtung hochwertiger Diamantfilme. Mithilfe eines kohlenstoffhaltigen Gases und eines Mikrowellenplasmas wird über dem Diamantsubstrat eine Plasmakugel erzeugt, die es auf eine bestimmte Temperatur erhitzt. Die Plasmakugel berührt die Hohlraumwand nicht, wodurch der Diamantwachstumsprozess frei von Verunreinigungen ist und die Qualität des Diamanten verbessert wird. Das MPCVD-System besteht aus einer Vakuumkammer, einem Mikrowellengenerator und einem Gaszufuhrsystem, das den Gasfluss in die Kammer steuert.

Was Sind Die Vorteile Von Mpcvd?

MPCVD hat gegenüber anderen Methoden der Diamantherstellung mehrere Vorteile, wie z. B. eine höhere Reinheit, einen geringeren Energieverbrauch und die Möglichkeit, größere Diamanten herzustellen.

Sind CVD-Diamanten Echt Oder Gefälscht?

CVD-Diamanten sind echte Diamanten und keine Fälschungen. Sie werden in einem Labor durch einen Prozess namens Chemical Vapour Deposition (CVD) gezüchtet. Im Gegensatz zu natürlichen Diamanten, die unter der Erdoberfläche abgebaut werden, werden CVD-Diamanten mithilfe fortschrittlicher Technologie in Laboren hergestellt. Diese Diamanten bestehen zu 100 % aus Kohlenstoff und sind die reinste Form von Diamanten, die als Typ-IIa-Diamanten bekannt sind. Sie haben die gleichen optischen, thermischen, physikalischen und chemischen Eigenschaften wie natürliche Diamanten. Der einzige Unterschied besteht darin, dass CVD-Diamanten in einem Labor hergestellt und nicht aus der Erde abgebaut werden.
Weitere FAQs zu diesem Produkt anzeigen

4.9

out of

5

KINTEK's MPCVD machine is a game-changer! Its 1-10Kw adjustable output microwave power feature not only saves electricity but also ensures precise control over the diamond growth process.

Harshitha Gujjar

4.8

out of

5

As a lab manager, I appreciate the stability and reliability of the KINTEK MPCVD system. It has been running non-stop for over 40,000 hours, providing us with consistent, high-quality diamond growth.

Elvin Wang

4.7

out of

5

The rich experience and frontier diamond growing recipe support from KINTEK's research team have been invaluable. Their expertise has helped us optimize our MPCVD process and achieve exceptional results.

Sophia Mitchell

4.8

out of

5

KINTEK's exclusive technical support program for teams with zero diamond growing experience is a lifesaver. Their guidance and assistance have been instrumental in our successful adoption of the MPCVD system.

Mustafa Kamal

5.0

out of

5

The 3 inches substrate growing area and max. batch load of up to 45 pieces diamonds make the KINTEK MPCVD machine a highly efficient and productive choice for our lab. We can now produce more diamonds in less time.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

The KINTEK MPCVD system is a technological marvel. Its advanced features and continuous upgrades have kept us at the forefront of diamond growth innovation.

Oliver Chen

4.7

out of

5

The competitive price of the KINTEK MPCVD equipment makes it an affordable and accessible solution for labs like ours. We're grateful for the opportunity to leverage its cutting-edge technology without breaking the bank.

Aisha Khan

5.0

out of

5

The KINTEK MPCVD machine has exceeded our expectations. Its user-friendly interface, stable performance, and exceptional diamond quality have made it an indispensable tool in our lab.

Elijah Harper

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