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Zylindrischer Resonator MPCVD-Maschinensystemreaktor für Mikrowellen-Plasma-Chemische Gasphasenabscheidung und Labordiamantwachstum

MPCVD

Zylindrischer Resonator MPCVD-Maschinensystemreaktor für Mikrowellen-Plasma-Chemische Gasphasenabscheidung und Labordiamantwachstum

Artikelnummer : KTWB315

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Mikrowellenleistung
Mikrowellenfrequenz 2450±15MHZ
Ausgangsleistung
1~10 KW kontinuierlich einstellbar
Mikrowellenleckage
≤2MW/cm2
Ausgangs-Hohlleiter-Schnittstelle
WR340, 430 mit FD-340, 430 Standardflansch
Probenhalter
Durchmesser der Probentabelle≥72mm, effektive Nutzfläche≥66 mm
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MPCVD steht für Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition (Mikrowellen-Plasma-Chemische Gasphasenabscheidung). Es ist eine Methode zum Wachstum hochwertiger Diamantfilme im Labor unter Verwendung eines kohlenstoffhaltigen Gases und eines Mikrowellenplasmas.

KinTek MPCVD

MPCVD-System

Das MPCVD-System (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) ist ein Prozess zur Abscheidung dünner Filme auf einer Substratoberfläche. Das System besteht aus einer Vakuumkammer, in der der Abscheidungsprozess stattfindet, einem Mikrowellengenerator und einem Gaszuführungssystem. Der Mikrowellengenerator wird verwendet, um ein Plasma innerhalb der Vakuumkammer zu erzeugen, das zur Zersetzung und Abscheidung der Gasspezies auf dem Substrat verwendet wird.

Der Mikrowellengenerator ist typischerweise ein Magnetron oder Klystron, das Mikrowellen im Bereich von 2,45 GHz erzeugt. Die Mikrowellen werden über ein Quarzfenster in die Vakuumkammer eingekoppelt.

Das Gaszuführungssystem besteht aus Massendurchflussreglern (MFCs), die den Gasfluss in die Vakuumkammer steuern. Die MFCs sind in Standard-Kubikzentimetern pro Minute (sccm) kalibriert.

Die Substrattemperatur wird durch die Position des Plasmas gesteuert und mit einem Thermoelement gemessen. Das Plasma wird verwendet, um das Substrat zu erhitzen, und die Temperatur wird vom Thermoelement überwacht, um sicherzustellen, dass das Substrat während des Abscheidungsprozesses die gewünschte Temperatur hat.

Anwendungen

MPCVD ist eine vielversprechende Technologie zur Herstellung kostengünstiger, hochwertiger großer Diamanten.

Die einzigartigen Eigenschaften von Diamant, einschließlich seiner Härte, Steifigkeit, hohen Wärmeleitfähigkeit, geringen Wärmeausdehnung, Strahlungshärte und chemischen Inertheit, machen ihn zu einem wertvollen Material.

Trotz seines großen Potenzials haben die hohen Kosten, die begrenzte Größe und die Schwierigkeit der Kontrolle von Verunreinigungen natürlicher und synthetischer Hochdruck-Hochtemperatur-Diamanten ihre Anwendungen eingeschränkt.

MPCVD ist die Hauptausrüstung für das Wachstum von Diamant-Edelsteinen und -Filmen.

Das Diamantfilmwachstum kann monokristallin oder polykristallin sein und wird in der Halbleiterindustrie für großflächige Diamantsubstrate sowie in der Industrie für Diamantschneid- oder Bohrwerkzeuge eingesetzt.

Im Vergleich zur HPHT-Methode für im Labor gezüchtete Diamanten ist die Mikrowellen-CVD-Methode vorteilhaft für das Wachstum großer Diamanten zu geringeren Kosten, was sie zu einer idealen Lösung für Anwendungen von Halbleiterdiamanten, optischen Diamantwachstum und den Bedürfnissen des großen Marktes für Schmuckdiamanten macht.

KINTEK MPCVD-Maschinen
KINTEK MPCVD Diamantmaschinen
Neues Modell KINTEK MPCVD Diamantmaschine
Neues Modell KINTEK MPCVD Diamantmaschine
Neues Modell KINTEK MPCVD Diamantmaschine
Neues Modell KINTEK MPCVD Diamantmaschine
Rohe Diamanten, gezüchtet von KINTEK MPCVD
Rohe Diamanten, gezüchtet von KINTEK MPCVD
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
Roher Diamant, gezüchtet von KINTEK MPCVD-Maschine
Roher Diamant, gezüchtet von KINTEK MPCVD-Maschine
Roher Diamant, gezüchtet von KINTEK MPCVD-Maschine
Roher Diamant, gezüchtet von KINTEK MPCVD-Maschine
Roher Diamant, gezüchtet von KINTEK MPCVD-Maschine
Roher Diamant, gezüchtet von KINTEK MPCVD-Maschine
MPCVD-gezüchtete Diamanten nach dem Polieren
MPCVD-gezüchtete Diamanten nach dem Polieren
Polykristallin von KinTek MPCVD
Polykristallin von KinTek MPCVD

Vorteile von MPCVD

MPCVD ist eine Diamantsynthesemethode, die mehrere Vorteile gegenüber anderen Methoden wie HFCVD und DC-PJ CVD bietet. Sie vermeidet Diamantkontamination durch heiße Drähte und ermöglicht die Verwendung mehrerer Gase, um unterschiedliche industrielle Anforderungen zu erfüllen. Im Vergleich zu DC-PJ CVD ermöglicht sie eine reibungslose und kontinuierliche Anpassung der Mikrowellenleistung und eine stabile Kontrolle der Reaktionstemperatur, wodurch das Abfallen von Kristallkeimen vom Substrat aufgrund von Lichtbögen und Flammenversagen vermieden wird. Mit einer großen Fläche mit stabiler Entladung des Plasmas gilt die MPCVD-Methode als die vielversprechendste Diamantsynthesemethode für industrielle Anwendungen.

Die durch MPCVD produzierten Diamanten sind von höherer Reinheit im Vergleich zu denen, die mit der HPHT-Methode hergestellt werden, und der Produktionsprozess verbraucht weniger Energie. Darüber hinaus erleichtert die MPCVD-Methode die Herstellung größerer Diamanten.

Vorteile unseres MPCVD-Systems

Wir sind seit vielen Jahren tief in der Branche tätig und verfügen daher über einen großen Kundenstamm, der unseren Geräten vertraut und sie nutzt. Unsere MPCVD-Geräte laufen seit über 40.000 Stunden stabil und demonstrieren außergewöhnliche Stabilität, Zuverlässigkeit, Wiederholbarkeit und Kosteneffizienz. Weitere Vorteile unseres MPCVD-Systems sind:

  • 3 Zoll Substratwachstumsfläche, max. Chargenbeladung bis zu 45 Diamantenstücke
  • 1-10 kW einstellbare Ausgangs-Mikrowellenleistung für geringeren Stromverbrauch
  • Reiches erfahrenes Forschungsteam mit Unterstützung für fortschrittliche Diamantwachstumsrezepte
  • Exklusives technisches Supportprogramm für Teams ohne Diamantwachstumserfahrung

Durch die Nutzung unserer angesammelten fortschrittlichen Technologie haben wir mehrere Runden von Upgrades und Verbesserungen an unserem MPCVD-System implementiert, was zu einer erheblich verbesserten Effizienz und reduzierten Gerätekosten geführt hat. Daher steht unsere MPCVD-Ausrüstung an der Spitze der technologischen Fortschritte und wird zu einem wettbewerbsfähigen Preis angeboten. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage.

KinTek MPCVD-Simulation
KinTek MPCVD-Simulation

Arbeitsprozess

Die MPCVD-Maschine steuert den Fluss jedes Gaswegs und den Hohlraumdruck, während Reaktantengase (wie CH4, H2, Ar, O2, N2 usw.) unter spezifischem Druck in den Hohlraum eingeleitet werden. Nach Stabilisierung des Luftstroms erzeugt der 6KW-Festkörper-Mikrowellengenerator Mikrowellen, die dann über den Wellenleiter in den Hohlraum eingeleitet werden.

Das Reaktionsgas wandelt sich unter dem Mikrowellenfeld in einen Plasmazustand um und bildet eine Plasmakugel, die über dem Diamantsubstrat schwebt. Die hohe Temperatur des Plasmas erhitzt das Substrat auf eine bestimmte Temperatur. Überschüssige Wärme, die im Hohlraum entsteht, wird von der Wasserkühleinheit abgeführt.

Um optimale Wachstumsbedingungen während des MPCVD-Einkristall-Diamantwachstumsprozesses zu gewährleisten, passen wir Faktoren wie Leistung, Gasquellenzusammensetzung und Hohlraumdruck an. Darüber hinaus ist der Diamantwachstumsprozess frei von Verunreinigungen, da die Plasmakugel die Hohlraumwand nicht berührt, wodurch die Qualität des Diamanten verbessert wird.

Details & Teile

Mikrowellensystem

Mikrowellensystem

Reaktionskammer

Reaktionskammer

Gasflusssystem

Gasflusssystem

Vakuum- und Sensorsystem

Vakuum- und Sensorsystem

Technische Daten

Mikrowellensystem
  • Mikrowellenfrequenz 2450±15MHZ,
  • Ausgangsleistung 1~10 KW kontinuierlich einstellbar
  • Stabilität der Mikrowellen-Ausgangsleistung: <±1%
  • Mikrowellenleckage ≤2MW/cm2
  • Ausgangs-Hohlleiteranschluss: WR340, 430 mit FD-340, 430 Standardflansch
  • Kühlwasserdurchfluss: 6-12 l/min
  • System-Stehwellenkoeffizient: VSWR ≤ 1,5
  • Manuelle 3-Pin-Mikrowellenverstellung, Anregungskammer, Hochlastwiderstand
  • Eingangsnetzteil: 380VAC/50Hz ± 10%, dreiphasig 
Reaktionskammer
  • Vakuum-Leckrate < 5 × 10-9 Pa .m3/s
  • Der Grenz-Druck beträgt weniger als 0,7 Pa (Standardkonfiguration mit Pirani-Vakuummeter) 
  • Der Druckanstieg der Kammer darf nach 12 Stunden Druckhaltung 50 Pa nicht überschreiten
  • Arbeitsmodus der Reaktionskammer: TM021 oder TM023 Modus
  • Hohlraumtyp: Zylindrischer Resonanzhohlraum mit einer maximalen Tragfähigkeit von 10 KW, gefertigt aus 304 Edelstahl, mit wassergekühltem Zwischenboden und Abdichtungsmethode mit hochreinem Quarzglas.
  • Lufteinlassmodus: Oberer ringförmiger gleichmäßiger Lufteinlass
  • Vakuumdichtung: Die untere Verbindung der Hauptkammer und die Einspeisetür sind mit Gummidichtungen abgedichtet, die Vakuumpumpe und der Balg sind mit KF abgedichtet, die Quarzplatte ist mit einem Metall-C-Ring abgedichtet und der Rest ist mit CF abgedichtet
  • Beobachtungs- und Temperaturmessfenster: 8 Beobachtungsöffnungen
  • Probenladeöffnung vorne an der Kammer
  • Stabile Entladung im Druckbereich von 0,7 KPa ~ 30 KPa (Leistung und Druck müssen übereinstimmen)
Probenhalter
  • Durchmesser des Probentisches ≥ 72 mm, effektive Nutzfläche ≥ 66 mm
  • Basisplattform mit wassergekühltem Sandwichaufbau
  • Der Probenhalter kann elektrisch gleichmäßig in den Hohlraum gehoben und gesenkt werden
Gasflusssystem
  • Vollmetall-Schweißluftscheibe
  • Für alle internen Gasleitungen der Anlage sind Schweiß- oder VCR-Verbindungen zu verwenden.
  • 5-Kanal-MFC-Durchflussmesser, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm; CH4: 100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Arbeitsdruck 0,05-0,3 MPa, Genauigkeit ±2%
  • Unabhängige pneumatische Ventilsteuerung für jeden Kanal-Durchflussmesser
Kühlsystem
  • 3-Leiter-Wasserkühlung, Echtzeitüberwachung von Temperatur und Durchfluss.
  • Der Kühlwasserdurchfluss des Systems beträgt ≤ 50 l/min
  • Der Kühlwasserdruck beträgt < 4 KG, und die Einlasstemperatur des Wassers beträgt 20-25 ℃.
Temperatursensor
  • Das externe Infrarot-Thermometer hat einen Temperaturbereich von 300-1400 ℃ 
  • Temperaturregelgenauigkeit < 2 ℃ oder 2%
Steuerungssystem
  • Siemens Smart 200 SPS und Touchscreen-Steuerung werden verwendet. 
  • Das System verfügt über eine Vielzahl von Programmen, die den automatischen Ausgleich der Wachstumstemperatur, die genaue Steuerung des Wachstumsluftdrucks, den automatischen Temperaturanstieg, den automatischen Temperaturabfall und andere Funktionen realisieren können. 
  • Der stabile Betrieb der Anlage und der umfassende Schutz der Anlage können durch die Überwachung von Wasserfluss, Temperatur, Druck und anderen Parametern erreicht werden, und die Zuverlässigkeit und Sicherheit des Betriebs können durch funktionale Verriegelungen gewährleistet werden. 
Optionale Funktion
  • Zentrales Überwachungssystem
  • Substrat-Basing-Leistung

Warnungen

Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.

Für Sie entworfen

KinTek bietet umfassenden, maßgeschneiderten Service und Ausrüstung für Kunden auf der ganzen Welt. Unsere spezialisierte Teamarbeit und unsere erfahrenen Ingenieure sind in der Lage, die kundenspezifischen Hardware- und Software-Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen und unseren Kunden beim Aufbau der exklusiven und personalisierten Ausrüstung und Lösung zu helfen!

Bitte senden Sie uns Ihre Ideen, unsere Ingenieure sind jetzt für Sie bereit!

FAQ

Was Ist Mpcvd?

MPCVD steht für Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition und ist ein Verfahren zur Abscheidung dünner Filme auf einer Oberfläche. Es nutzt eine Vakuumkammer, einen Mikrowellengenerator und ein Gaszufuhrsystem, um ein Plasma aus reagierenden Chemikalien und notwendigen Katalysatoren zu erzeugen. MPCVD wird im ANFF-Netzwerk häufig zur Abscheidung von Diamantschichten unter Verwendung von Methan und Wasserstoff eingesetzt, um neuen Diamanten auf einem mit Diamanten bestückten Substrat wachsen zu lassen. Es handelt sich um eine vielversprechende Technologie zur Herstellung kostengünstiger, hochwertiger großer Diamanten und wird in großem Umfang in der Halbleiter- und Diamantschleifindustrie eingesetzt.

Was Ist Eine Mpcvd-Maschine?

Die MPCVD-Maschine (Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition) ist eine Laborausrüstung zur Züchtung hochwertiger Diamantfilme. Mithilfe eines kohlenstoffhaltigen Gases und eines Mikrowellenplasmas wird über dem Diamantsubstrat eine Plasmakugel erzeugt, die es auf eine bestimmte Temperatur erhitzt. Die Plasmakugel berührt die Hohlraumwand nicht, wodurch der Diamantwachstumsprozess frei von Verunreinigungen ist und die Qualität des Diamanten verbessert wird. Das MPCVD-System besteht aus einer Vakuumkammer, einem Mikrowellengenerator und einem Gaszufuhrsystem, das den Gasfluss in die Kammer steuert.

Was Sind Die Vorteile Von Mpcvd?

MPCVD hat gegenüber anderen Methoden der Diamantherstellung mehrere Vorteile, wie z. B. eine höhere Reinheit, einen geringeren Energieverbrauch und die Möglichkeit, größere Diamanten herzustellen.

Sind CVD-Diamanten Echt Oder Gefälscht?

CVD-Diamanten sind echte Diamanten und keine Fälschungen. Sie werden in einem Labor durch einen Prozess namens Chemical Vapour Deposition (CVD) gezüchtet. Im Gegensatz zu natürlichen Diamanten, die unter der Erdoberfläche abgebaut werden, werden CVD-Diamanten mithilfe fortschrittlicher Technologie in Laboren hergestellt. Diese Diamanten bestehen zu 100 % aus Kohlenstoff und sind die reinste Form von Diamanten, die als Typ-IIa-Diamanten bekannt sind. Sie haben die gleichen optischen, thermischen, physikalischen und chemischen Eigenschaften wie natürliche Diamanten. Der einzige Unterschied besteht darin, dass CVD-Diamanten in einem Labor hergestellt und nicht aus der Erde abgebaut werden.
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4.9

out of

5

KINTEK's MPCVD machine is a game-changer! Its 1-10Kw adjustable output microwave power feature not only saves electricity but also ensures precise control over the diamond growth process.

Harshitha Gujjar

4.8

out of

5

As a lab manager, I appreciate the stability and reliability of the KINTEK MPCVD system. It has been running non-stop for over 40,000 hours, providing us with consistent, high-quality diamond growth.

Elvin Wang

4.7

out of

5

The rich experience and frontier diamond growing recipe support from KINTEK's research team have been invaluable. Their expertise has helped us optimize our MPCVD process and achieve exceptional results.

Sophia Mitchell

4.8

out of

5

KINTEK's exclusive technical support program for teams with zero diamond growing experience is a lifesaver. Their guidance and assistance have been instrumental in our successful adoption of the MPCVD system.

Mustafa Kamal

5.0

out of

5

The 3 inches substrate growing area and max. batch load of up to 45 pieces diamonds make the KINTEK MPCVD machine a highly efficient and productive choice for our lab. We can now produce more diamonds in less time.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

The KINTEK MPCVD system is a technological marvel. Its advanced features and continuous upgrades have kept us at the forefront of diamond growth innovation.

Oliver Chen

4.7

out of

5

The competitive price of the KINTEK MPCVD equipment makes it an affordable and accessible solution for labs like ours. We're grateful for the opportunity to leverage its cutting-edge technology without breaking the bank.

Aisha Khan

5.0

out of

5

The KINTEK MPCVD machine has exceeded our expectations. Its user-friendly interface, stable performance, and exceptional diamond quality have made it an indispensable tool in our lab.

Elijah Harper

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Zylindrischer Resonator MPCVD-Maschinensystemreaktor für Mikrowellen-Plasma-Chemische Gasphasenabscheidung und Labordiamantwachstum

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