MPCVD

Mikrowellen-Plasma-Chemische-Gasphasenabscheidungs-MPCVD-Maschinensystem-Reaktor für Labor und Diamantwachstum

Q: Was ist eine CVD-Diamantmaschine?

Eine CVD-Diamantmaschine ist ein Gerät zur Herstellung synthetischer Diamanten durch einen Prozess namens Chemical Vapour Deposition (CVD). Bei diesem Prozess werden chemische Dämpfe abgeschieden, um einen Diamanten zu erzeugen, dessen Eigenschaften denen natürlicher Diamanten entsprechen. CVD-Diamantmaschinen, einschließlich filamentunterstützter thermischer CVD, plasmaunterstützter CVD und verbrennungsflammenunterstützter CVD usw. Die resultierenden CVD-Diamanten sind aufgrund ihrer hohen Härte und langen Werkzeuglebensdauer in der Schneidwerkzeugindustrie nützlich, was sie zu einem wichtigen Werkzeug macht und kostengünstiges Werkzeug zum Schneiden von Nichteisenmaterialien.

Q: Welche Arten von Diamantwachstumsmaschinen gibt es?

Für die Züchtung künstlicher Diamanten stehen mehrere Maschinen zur Verfügung, darunter Heißfaden-CVD, Gleichstrom-Plasmaflammen-CVD, mikrowellenplasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (MPCVD) und Mikroplasma-CVD (MPCVD). Unter diesen wird MPCVD aufgrund seiner homogenen Erwärmung durch Mikrowellen häufig verwendet. Darüber hinaus kann die Wachstumsrate von Diamant durch Erhöhung der Plasmadichte erhöht werden, und Stickstoff kann hinzugefügt werden, um die Wachstumsrate von Diamant zu verbessern. Um eine ebene Oberfläche zu erreichen, können verschiedene Poliertechniken, darunter mechanisches und chemomechanisches Polieren, eingesetzt werden. Das Wachstum großer Diamanten kann durch Mosaikwachstum oder heteroepitaktisches Wachstum erreicht werden.

Q: Was sind die Vorteile von im Labor gezüchteten Diamanten?

Zu den Vorteilen von im Labor gezüchteten Diamanten gehören die Kenntnis ihrer Herkunft, ein niedrigerer Preis, eine höhere Umweltfreundlichkeit und die Möglichkeit, farbige Diamanten einfacher herzustellen. Im Labor gezüchtete Diamanten sind sich ihrer Herkunft fast zu 100 % sicher, sodass sie frei von Konflikten, Kinderausbeutung oder Krieg sind. Sie sind außerdem mindestens 20 % günstiger als natürliche Diamanten gleicher Größe, Reinheit und Schliff. Im Labor gezüchtete Diamanten sind nachhaltiger, da kein Abbau erforderlich ist und sie weniger Auswirkungen auf die Umwelt haben. Schließlich sind synthetische farbige Diamanten einfacher in einer breiten Farbpalette herzustellen und zu einem deutlich günstigeren Preis erhältlich.

Q: Was kostet eine CVD-Wachstumsmaschine?

Der Preis einer CVD-Züchtungsmaschine kann je nach Größe und Komplexität der Einheit stark variieren. Kleine Tischmodelle, die für Forschungs- und Entwicklungszwecke konzipiert sind, können etwa 50.000 US-Dollar kosten, während Maschinen im industriellen Maßstab, mit denen große Mengen hochwertiger Diamanten hergestellt werden können, über 200.000 US-Dollar kosten können. Allerdings ist der Preis von CVD-Diamanten im Allgemeinen niedriger als der von geförderten Diamanten, was sie für Verbraucher zu einer erschwinglicheren Option macht.

Q: Was ist das Grundprinzip von CVD?

Das Grundprinzip der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) besteht darin, ein Substrat einem oder mehreren flüchtigen Vorläufern auszusetzen, die auf seiner Oberfläche reagieren oder sich zersetzen, um eine dünne Filmabscheidung zu erzeugen. Dieses Verfahren kann für verschiedene Anwendungen eingesetzt werden, beispielsweise zur Strukturierung von Filmen, Isoliermaterialien und leitenden Metallschichten. CVD ist ein vielseitiges Verfahren, mit dem Beschichtungen, Pulver, Fasern, Nanoröhren und monolithische Komponenten synthetisiert werden können. Es ist auch in der Lage, die meisten Metalle und Metalllegierungen sowie deren Verbindungen, Halbleiter und Nichtmetallsysteme herzustellen. Charakteristisch für den CVD-Prozess ist die Ablagerung eines Feststoffs auf einer erhitzten Oberfläche durch eine chemische Reaktion in der Dampfphase.

Q: Welche verschiedenen Arten von CVD-Methoden gibt es?

Zu den verschiedenen Arten von CVD-Methoden gehören Atmosphärendruck-CVD (APCVD), Niederdruck-CVD (LPCVD), Ultrahochvakuum-CVD, durch Aerosole unterstütztes CVD, CVD mit direkter Flüssigkeitseinspritzung, Heißwand-CVD, Kaltwand-CVD, Mikrowellen-Plasma-CVD, Plasma-CVD. Enhanced CVD (PECVD), Remote Plasma Enhanced CVD, Low Energy Plasma Enhanced CVD, Atomic Layer CVD, Combustion CVD und Hot Filament CVD. Diese Methoden unterscheiden sich im Mechanismus, durch den chemische Reaktionen ausgelöst werden, und in den Betriebsbedingungen.

Artikelnummer : KTMP315

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen

Mikrowellenleistung: Mikrowellenfrequenz 2450±15MHZ
Ausgangsleistung: 1～10 KW kontinuierlich einstellbar
Mikrowellenleckage: ≤2MW/cm2
Ausgangs-Hohlleiter-Schnittstelle: WR340, 430 mit FD-340, 430 Standardflansch
Probenhalter: Durchmesser der Probentabelle≥70mm, effektive Nutzfläche≥64 mm

Versand:

Kontaktieren Sie uns um Versanddetails zu erhalten. Genießen Sie Garantie für pünktliche Lieferung.

Beschreibung
Downloads

Spezifikationen Fordern Sie Ihr individuelles Angebot an 👋

Anfrage

Chat Spezifikationen

Warum uns wählen

Einfacher Bestellprozess, Qualitätsprodukte und engagierter Support für Ihren Geschäftserfolg.

Einfacher Prozess Qualität gesichert Engagierter Support

MPCVD steht für Mikrowellen-Plasma-Chemische-Gasphasenabscheidung. Es wächst hochwertige Diamantfilme in Labors unter Verwendung von Kohlenstoffgas und Mikrowellenplasma.

MPCVD-System

MPCVD ist ein System zur Abscheidung dünner Schichten auf einem Substrat unter Verwendung einer Vakuumkammer, eines Mikrowellengenerators und eines Gaszuführungssystems. Ein Plasma wird in der Kammer durch einen Magnetron oder Klystron erzeugt, der Mikrowellen bei 2,45 GHz erzeugt. Das Gaszuführungssystem verfügt über MFCs, die in sccm kalibriert sind, um den Gasfluss zu steuern. Die Substrattemperatur wird durch das Plasma gesteuert und mit einem Thermoelement gemessen. Das Plasma erwärmt das Substrat und die Temperatur wird während der Abscheidung überwacht.

Anwendungen

MPCVD verspricht die kostengünstige Herstellung großer, hochwertiger Diamanten.

Die einzigartigen Eigenschaften von Diamant, wie Härte, Steifigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit, geringe Wärmeausdehnung, Strahlungshärte und chemische Inertheit, machen ihn zu einem wertvollen Material. Die hohen Kosten, die begrenzte Größe und die Schwierigkeit, Verunreinigungen von natürlichen und synthetischen Hochdruck-Hochtemperatur-Diamanten zu kontrollieren, haben jedoch ihre Anwendungen eingeschränkt.

MPCVD ist die Hauptausrüstung für das Wachstum von Diamant-Edelsteinen und -Filmen, die entweder monokristallin oder polykristallin sein können. Die Halbleiterindustrie nutzt das Wachstum von Diamantfilmen extensiv für großflächige Diamant-Substrate sowie für die Diamantbearbeitungs- oder Bohrwerkzeugindustrie.

Im Vergleich zur HPHT-Methode für im Labor gezüchtete Diamanten ist die Mikrowellen-CVD-Methode für das großflächige Diamantwachstum zu geringeren Kosten vorteilhaft, was sie zu einer idealen Lösung für Halbleiterdiamanten, die Herstellung von optischen Diamanten und den großen Markt für Schmuckdiamanten macht.

Neues Modell MPCVD Diamantmaschine — Neues Modell KINTEK MPCVD Diamantmaschine

Rohe Diamanten gezüchtet von MPCVD — Rohe Diamanten gezüchtet von KINTEK MPCVD Diamantmaschine

In KinTek MPCVD Maschine wachsen Diamanten

Roher Diamant gezüchtet von KINTEK MPCVD Maschine

MPCVD-gewachsene Diamanten nach dem Polieren

Vorteile von MPCVD

MPCVD ist eine Diamantsynthesemethode mit Vorteilen gegenüber HFCVD und DC-PJ CVD. Es vermeidet Kontamination und ermöglicht die Verwendung mehrerer Gase. Es bietet eine sanfte Mikrowellenleistungsanpassung und eine stabile Temperaturregelung, wodurch der Verlust von Impfkristallen vermieden wird. MPCVD ist aufgrund einer großen, stabilen Plasmafläche vielversprechend für industrielle Anwendungen.

MPCVD produziert reinere Diamanten mit weniger Energie als HPHT. Es ermöglicht auch die Produktion größerer Diamanten.

Vorteile unseres MPCVD-Systems

Wir sind seit vielen Jahren tief in der Branche tätig und verfügen daher über einen riesigen Kundenstamm, der unseren Geräten vertraut und sie nutzt. Unsere MPCVD-Geräte laufen seit über 40.000 Stunden stabil und demonstrieren außergewöhnliche Stabilität, Zuverlässigkeit, Wiederholbarkeit und Kosteneffizienz. Weitere Vorteile unseres MPCVD-Systems sind:

3 Zoll Substratwachstumsfläche, max. Chargenbeladung bis zu 45 Diamanten
1-10Kw einstellbare Ausgangs-Mikrowellenleistung für geringeren Stromverbrauch
Reiches erfahrenes Forschungsteam mit Unterstützung für fortschrittliche Diamantwachstumsrezepte
Exklusives technisches Supportprogramm für Teams ohne Diamantwachstumserfahrung

Durch die Nutzung unserer angesammelten fortschrittlichen Technologie haben wir mehrere Runden von Upgrades und Verbesserungen an unserem MPCVD-System implementiert, was zu einer erheblich verbesserten Effizienz und reduzierten Gerätekosten geführt hat. Infolgedessen steht unsere MPCVD-Ausrüstung an der Spitze der technologischen Fortschritte und wird zu einem wettbewerbsfähigen Preis angeboten. Gerne können Sie uns konsultieren.

Arbeitsablauf

Die MPCVD-Maschine steuert den Fluss jedes Gasweges und den Hohlraumdruck, während Reaktantgase (wie CH4, H2, Ar, O2, N2 usw.) unter spezifischem Druck in den Hohlraum eingeleitet werden. Nach Stabilisierung des Luftstroms erzeugt der 6KW-Festkörper-Mikrowellengenerator Mikrowellen, die dann über den Wellenleiter in den Hohlraum eingeleitet werden.

Das Reaktionsgas wandelt sich unter dem Mikrowellenfeld in einen Plasmazustand um und bildet eine Plasma-Kugel, die über dem Diamant-Substrat schwebt. Die hohe Temperatur des Plasmas erwärmt das Substrat auf eine bestimmte Temperatur. Überschüssige Wärme, die im Hohlraum erzeugt wird, wird von der Wasserkühleinheit abgeführt.

Um optimale Wachstumsbedingungen während des MPCVD-Einkristall-Diamantwachstumsprozesses zu gewährleisten, passen wir Faktoren wie Leistung, Gasquellen-Zusammensetzung und Hohlraumdruck an. Da die Plasma-Kugel die Hohlraumwand nicht berührt, ist der Diamantwachstumsprozess frei von Verunreinigungen, wodurch die Qualität des Diamanten verbessert wird.

Details & Teile

Mikrowellensystem

Reaktionskammer

Gasflusssystem

Vakuum- und Sensorsystem

Technische Spezifikationen

Mikrowellensystem	Mikrowellenfrequenz 2450±15MHZ, Ausgangsleistung 1～10 KW kontinuierlich einstellbar Stabilität der Mikrowellen-Ausgangsleistung: <±1% Mikrowellenleckage ≤2MW/cm2 Ausgangs-Wellenleiter-Schnittstelle: WR340, 430 mit FD-340, 430 Standardflansch Kühlwasserdurchfluss: 6-12L/min System-Stehwellenverhältnis: VSWR ≤ 1,5 Manuelle 3-Pin-Mikrowellenverstellung, Anregungskammer, Hochlastwiderstand Eingangsnetzteil: 380VAC/50Hz ± 10%, dreiphasig
Reaktionskammer	Vakuum-Leckrate < 5 × 10-9 Pa .m3/s Der Grenz-Druck ist kleiner als 0,7 Pa (Standardkonfiguration mit Pirani-Vakuummeter) Der Druckanstieg der Kammer darf nach 12 Stunden Druckhaltung 50 Pa nicht überschreiten Arbeitsmodus der Reaktionskammer: TM021 oder TM023 Modus Hohlraumtyp: Schmetterlings-Resonanzhohlraum, mit maximaler Belastbarkeit von 10KW, aus 304 Edelstahl, mit wassergekühlter Zwischenschicht und Dichtungsmethode mit hochreinem Quarzglas. Lufteinlassmodus: Oberer ringförmiger gleichmäßiger Lufteinlass Vakuumdichtung: Die untere Verbindung der Hauptkammer und die Einspeisetür sind mit Gummidichtungen abgedichtet, die Vakuumpumpe und der Faltenbalg sind mit KF abgedichtet, die Quarzplatte ist mit einem Metall-C-Ring abgedichtet, und der Rest ist mit CF abgedichtet Beobachtungs- und Temperaturmessfenster: 4 Beobachtungsöffnungen Probenladeöffnung vorne an der Kammer Stabile Entladung im Druckbereich von 0,7 KPa ~ 30 KPa (Leistung und Druck müssen übereinstimmen)
Probenhalter	Durchmesser der Probentischplatte ≥ 70 mm, effektive Nutzfläche ≥ 64 mm Basisplattenplattform mit wassergekühlter Sandwichstruktur Der Probenhalter kann elektrisch gleichmäßig in der Kammer angehoben und abgesenkt werden
Gasflusssystem	Alle Metallschweiß-Luftscheibe Schweiß- oder VCR-Verbindungen müssen für alle internen Gasleitungen der Anlage verwendet werden. 5-Kanal-MFC-Durchflussmesser, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm; CH4: 100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm Arbeitsdruck 0,05-0,3 MPa, Genauigkeit ±2% Unabhängige pneumatische Ventilsteuerung für jeden Kanal-Durchflussmesser
Kühlsystem	3 Leitungen Wasserkühlung, Echtzeitüberwachung von Temperatur und Durchfluss. Der Kühlwasserdurchfluss des Systems beträgt ≤ 50 L/min Der Kühlwasserdruck beträgt < 4 KG, und die Einlasswassertemperatur beträgt 20-25 ℃.
Temperatursensor	Das externe Infrarot-Thermometer hat einen Temperaturbereich von 300-1400 ℃ Temperaturregelgenauigkeit < 2 ℃ oder 2%
Steuerungssystem	Siemens Smart 200 SPS und Touchscreen-Steuerung werden verwendet. Das System verfügt über eine Vielzahl von Programmen, die den automatischen Ausgleich der Wachstumstemperatur, die genaue Steuerung des Wachstumsluftdrucks, den automatischen Temperaturanstieg, den automatischen Temperaturabfall und andere Funktionen realisieren können. Der stabile Betrieb der Anlage und der umfassende Schutz der Anlage können durch die Überwachung von Wasserfluss, Temperatur, Druck und anderen Parametern erreicht werden, und die Zuverlässigkeit und Sicherheit des Betriebs können durch funktionale Verriegelungen gewährleistet werden.
Optionale Funktion	Zentrales Überwachungssystem Substrat-Basisleistung

Warnungen

Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.

Für Sie entworfen

KinTek bietet umfassenden, maßgeschneiderten Service und Ausrüstung für Kunden auf der ganzen Welt. Unsere spezialisierte Teamarbeit und unsere erfahrenen Ingenieure sind in der Lage, die kundenspezifischen Hardware- und Software-Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen und unseren Kunden beim Aufbau der exklusiven und personalisierten Ausrüstung und Lösung zu helfen!

Bitte senden Sie uns Ihre Ideen, unsere Ingenieure sind jetzt für Sie bereit!

Vertraut von Branchenführern

FAQ

Was Ist Eine CVD-Diamantmaschine?

Eine CVD-Diamantmaschine ist ein Gerät zur Herstellung synthetischer Diamanten durch einen Prozess namens Chemical Vapour Deposition (CVD). Bei diesem Prozess werden chemische Dämpfe abgeschieden, um einen Diamanten zu erzeugen, dessen Eigenschaften denen natürlicher Diamanten entsprechen. CVD-Diamantmaschinen, einschließlich filamentunterstützter thermischer CVD, plasmaunterstützter CVD und verbrennungsflammenunterstützter CVD usw. Die resultierenden CVD-Diamanten sind aufgrund ihrer hohen Härte und langen Werkzeuglebensdauer in der Schneidwerkzeugindustrie nützlich, was sie zu einem wichtigen Werkzeug macht und kostengünstiges Werkzeug zum Schneiden von Nichteisenmaterialien.

Welche Arten Von Diamantwachstumsmaschinen Gibt Es?

Für die Züchtung künstlicher Diamanten stehen mehrere Maschinen zur Verfügung, darunter Heißfaden-CVD, Gleichstrom-Plasmaflammen-CVD, mikrowellenplasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (MPCVD) und Mikroplasma-CVD (MPCVD). Unter diesen wird MPCVD aufgrund seiner homogenen Erwärmung durch Mikrowellen häufig verwendet. Darüber hinaus kann die Wachstumsrate von Diamant durch Erhöhung der Plasmadichte erhöht werden, und Stickstoff kann hinzugefügt werden, um die Wachstumsrate von Diamant zu verbessern. Um eine ebene Oberfläche zu erreichen, können verschiedene Poliertechniken, darunter mechanisches und chemomechanisches Polieren, eingesetzt werden. Das Wachstum großer Diamanten kann durch Mosaikwachstum oder heteroepitaktisches Wachstum erreicht werden.

Was Sind Die Vorteile Von Im Labor Gezüchteten Diamanten?

Zu den Vorteilen von im Labor gezüchteten Diamanten gehören die Kenntnis ihrer Herkunft, ein niedrigerer Preis, eine höhere Umweltfreundlichkeit und die Möglichkeit, farbige Diamanten einfacher herzustellen. Im Labor gezüchtete Diamanten sind sich ihrer Herkunft fast zu 100 % sicher, sodass sie frei von Konflikten, Kinderausbeutung oder Krieg sind. Sie sind außerdem mindestens 20 % günstiger als natürliche Diamanten gleicher Größe, Reinheit und Schliff. Im Labor gezüchtete Diamanten sind nachhaltiger, da kein Abbau erforderlich ist und sie weniger Auswirkungen auf die Umwelt haben. Schließlich sind synthetische farbige Diamanten einfacher in einer breiten Farbpalette herzustellen und zu einem deutlich günstigeren Preis erhältlich.

Was Ist Das Grundprinzip Von CVD?

Das Grundprinzip der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) besteht darin, ein Substrat einem oder mehreren flüchtigen Vorläufern auszusetzen, die auf seiner Oberfläche reagieren oder sich zersetzen, um eine dünne Filmabscheidung zu erzeugen. Dieses Verfahren kann für verschiedene Anwendungen eingesetzt werden, beispielsweise zur Strukturierung von Filmen, Isoliermaterialien und leitenden Metallschichten. CVD ist ein vielseitiges Verfahren, mit dem Beschichtungen, Pulver, Fasern, Nanoröhren und monolithische Komponenten synthetisiert werden können. Es ist auch in der Lage, die meisten Metalle und Metalllegierungen sowie deren Verbindungen, Halbleiter und Nichtmetallsysteme herzustellen. Charakteristisch für den CVD-Prozess ist die Ablagerung eines Feststoffs auf einer erhitzten Oberfläche durch eine chemische Reaktion in der Dampfphase.

Was Kostet Eine CVD-Wachstumsmaschine?

Der Preis einer CVD-Züchtungsmaschine kann je nach Größe und Komplexität der Einheit stark variieren. Kleine Tischmodelle, die für Forschungs- und Entwicklungszwecke konzipiert sind, können etwa 50.000 US-Dollar kosten, während Maschinen im industriellen Maßstab, mit denen große Mengen hochwertiger Diamanten hergestellt werden können, über 200.000 US-Dollar kosten können. Allerdings ist der Preis von CVD-Diamanten im Allgemeinen niedriger als der von geförderten Diamanten, was sie für Verbraucher zu einer erschwinglicheren Option macht.

Welche Verschiedenen Arten Von CVD-Methoden Gibt Es?

Zu den verschiedenen Arten von CVD-Methoden gehören Atmosphärendruck-CVD (APCVD), Niederdruck-CVD (LPCVD), Ultrahochvakuum-CVD, durch Aerosole unterstütztes CVD, CVD mit direkter Flüssigkeitseinspritzung, Heißwand-CVD, Kaltwand-CVD, Mikrowellen-Plasma-CVD, Plasma-CVD. Enhanced CVD (PECVD), Remote Plasma Enhanced CVD, Low Energy Plasma Enhanced CVD, Atomic Layer CVD, Combustion CVD und Hot Filament CVD. Diese Methoden unterscheiden sich im Mechanismus, durch den chemische Reaktionen ausgelöst werden, und in den Betriebsbedingungen.

Weitere FAQs zu diesem Produkt anzeigen