Produkte Thermische Ausrüstung MPCVD Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum
Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

MPCVD

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Artikelnummer : KTMP315

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Mikrowellenengergie
Mikrowellenfrequenz 2450 ± 15 MHz
Ausgangsleistung
1~10 KW stufenlos einstellbar
Mikrowellenleckage
≤2MW/cm2
Ausgangswellenleiterschnittstelle
WR340, 430 mit FD-340, 430 Standardflansch
Beispiel halter
Durchmesser des Probentisches ≥ 70 mm, effektive Nutzungsfläche ≥ 64 mm
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MPCVD steht für Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition. Es züchtet hochwertige Diamantfilme in Laboren unter Verwendung von Kohlenstoffgas und Mikrowellenplasma.

MPCVD-System

MPCVD ist ein System zur Abscheidung dünner Filme auf einem Substrat mithilfe einer Vakuumkammer, eines Mikrowellengenerators und eines Gaszufuhrsystems. In der Kammer wird durch ein Magnetron oder Klystron, das Mikrowellen mit 2,45 GHz erzeugt, ein Plasma erzeugt. Das Gaszufuhrsystem verfügt über in sccm kalibrierte MFCs zur Steuerung des Gasflusses. Die Substrattemperatur wird durch das Plasma gesteuert und mit einem Thermoelement gemessen. Das Plasma erhitzt das Substrat und die Temperatur wird während der Abscheidung überwacht.

Anwendungen

MPCVD verspricht die Herstellung großer, hochwertiger Diamanten zu geringen Kosten.

Die einzigartigen Eigenschaften von Diamant, wie Härte, Steifigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit, geringe Wärmeausdehnung, Strahlungshärte und chemische Inertheit, machen ihn zu einem wertvollen Material. Allerdings haben die hohen Kosten, die begrenzte Größe und die Schwierigkeit, Verunreinigungen natürlicher und synthetischer Hochdruck-Hochtemperaturdiamanten zu kontrollieren, ihre Anwendungen eingeschränkt.

MPCVD ist die Hauptausrüstung für die Züchtung von Diamantedelsteinen und -filmen, die entweder einkristallin oder polykristallin sein können. Die Halbleiterindustrie nutzt das Diamantfilmwachstum in großem Umfang für großformatige Diamantsubstrate sowie die Diamantschneid- oder Bohrwerkzeugindustrie.

Im Vergleich zur HPHT-Methode für im Labor gezüchtete Diamanten ist die Mikrowellen-CVD-Methode für das Wachstum großformatiger Diamanten zu geringeren Kosten vorteilhaft und somit eine ideale Lösung für das Wachstum von Halbleiterdiamanten, Optikdiamanten und den großen Markt für Schmuckdiamanten.

Rohdiamanten, gezüchtet durch MPCVD
Rohdiamanten, gezüchtet durch MPCVD
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
In der KinTek MPCVD-Maschine wachsen Diamanten
Rohdiamant, gezüchtet mit einer KINTEK MPCVD-Maschine
Rohdiamant, gezüchtet mit einer KINTEK MPCVD-Maschine
Rohdiamant, gezüchtet mit einer KINTEK MPCVD-Maschine
Rohdiamant, gezüchtet mit einer KINTEK MPCVD-Maschine
Rohdiamant, gezüchtet mit einer KINTEK MPCVD-Maschine
Rohdiamant, gezüchtet mit einer KINTEK MPCVD-Maschine
MPCVD-gewachsene Diamanten nach dem Polieren
MPCVD-gewachsene Diamanten nach dem Polieren
Polykristallin durch KinTek MPCVD
Polykristallin durch KinTek MPCVD

Vorteile von MPCVD

MPCVD ist ein Diamantsyntheseverfahren mit Vorteilen gegenüber HFCVD und DC-PJ CVD. Es vermeidet Kontaminationen und ermöglicht den Einsatz mehrerer Gase. Es bietet eine stufenlose Einstellung der Mikrowellenleistung und eine stabile Temperaturregelung, wodurch der Verlust von Impfkristallen vermieden wird. MPCVD ist aufgrund einer großen, stabilen Plasmafläche vielversprechend für industrielle Anwendungen.

MPCVD erzeugt reinere Diamanten mit weniger Energie als HPHT. Es ermöglicht auch die Herstellung größerer Diamanten.

Vorteile unseres MPCVD-Systems

Wir engagieren uns seit vielen Jahren in der Branche und verfügen daher über einen großen Kundenstamm, der unseren Geräten vertraut und sie nutzt. Unsere MPCVD-Anlage läuft seit über 40.000 Stunden im Dauerbetrieb und beweist außergewöhnliche Stabilität, Zuverlässigkeit, Wiederholbarkeit und Kosteneffizienz. Weitere Vorteile unseres MPCVD-Systems sind:

  • 3 Zoll Substratwachstumsfläche, max. Stapelladung von bis zu 45 Stück Diamanten
  • 1-10 kW einstellbare Ausgangsleistung der Mikrowelle für weniger Stromverbrauch
  • Umfangreiches, erfahrenes Forschungsteam mit Rezeptunterstützung für den Grenzdiamantenanbau
  • Exklusives technisches Supportprogramm für das Zero Diamond Growing Experience-Team

Durch die Nutzung unserer gesammelten fortschrittlichen Technologie haben wir mehrere Runden von Upgrades und Verbesserungen an unserem MPCVD-System implementiert, was zu einer deutlich verbesserten Effizienz und geringeren Anlagenkosten führte. Daher stehen unsere MPCVD-Geräte an der Spitze des technologischen Fortschritts und werden zu einem wettbewerbsfähigen Preis angeboten. Gerne können Sie sich von uns beraten lassen.

KinTek MPCVD-Simulation
KinTek MPCVD-Simulation

Arbeitsverarbeitung

Die MPCVD-Maschine steuert den Fluss jedes Gaspfads und den Hohlraumdruck, während sie Reaktionsgase (wie CH4, H2, Ar, O2, N2 usw.) unter spezifischem Druck in den Hohlraum einleitet. Nach der Stabilisierung des Luftstroms erzeugt der 6-kW-Festkörper-Mikrowellengenerator Mikrowellen, die dann durch den Wellenleiter in den Hohlraum eingeleitet werden.

Das Reaktionsgas geht unter dem Mikrowellenfeld in einen Plasmazustand über und bildet eine Plasmakugel, die über dem Diamantsubstrat schwebt. Die hohe Temperatur des Plasmas erhitzt das Substrat auf eine bestimmte Temperatur. Überschüssige Wärme, die im Hohlraum entsteht, wird durch die Wasserkühleinheit abgeführt.

Um optimale Wachstumsbedingungen während des MPCVD-Einkristalldiamantwachstumsprozesses sicherzustellen, passen wir Faktoren wie Leistung, Gasquellenzusammensetzung und Hohlraumdruck an. Da die Plasmakugel außerdem nicht mit der Hohlraumwand in Kontakt kommt, verläuft der Diamantwachstumsprozess frei von Verunreinigungen, wodurch die Qualität des Diamanten verbessert wird.

Details & Teile

Mikrowellensystem

Mikrowellensystem

Reaktionskammer

Reaktionskammer

Gasflusssystem

Gasflusssystem

Vakuum- und Sensorsystem

Vakuum- und Sensorsystem

Technische Spezifikationen

Mikrowellensystem
  • Mikrowellenfrequenz 2450 ± 15 MHz,
  • Ausgangsleistung 1~10 KW stufenlos einstellbar
  • Stabilität der Mikrowellen-Ausgangsleistung: <±1 %
  • Mikrowellenleckage ≤2 MW/cm2
  • Ausgangswellenleiterschnittstelle: WR340, 430 mit FD-340, 430 Standardflansch
  • Kühlwasserdurchfluss: 6–12 l/min
  • Stehwellenkoeffizient des Systems: VSWR ≤ 1,5
  • Manueller Mikrowellen-3-Pin-Einsteller, Anregungshohlraum, Hochleistungslast
  • Eingangsstromversorgung: 380 VAC/50 Hz ± 10 %, dreiphasig
Reaktionskammer
  • Vakuumleckrate <5 × 10-9 Pa .m3/s
  • Der Grenzdruck beträgt weniger als 0,7 Pa (Standardkonfiguration mit Pirani-Vakuummeter)
  • Der Druckanstieg in der Kammer darf nach 12 Stunden Druckhaltung 50 Pa nicht überschreiten
  • Arbeitsmodus der Reaktionskammer: TM021- oder TM023-Modus
  • Hohlraumtyp: Butterfly-Resonanzhohlraum mit einer maximalen Lagerleistung von 10 kW, hergestellt aus Edelstahl 304, mit wassergekühlter Zwischenschicht und hochreiner Quarzplatten-Versiegelungsmethode.
  • Lufteinlassmodus: Oberer ringförmiger gleichmäßiger Lufteinlass
  • Vakuumabdichtung: Der untere Anschluss der Hauptkammer und die Einspritztür sind mit Gummiringen abgedichtet, die Vakuumpumpe und der Balg sind mit KF abgedichtet, die Quarzplatte ist mit einem Metall-C-Ring abgedichtet und der Rest ist mit CF abgedichtet
  • Beobachtungs- und Temperaturmessfenster: 4 Beobachtungsöffnungen
  • Probenladeanschluss vor der Kammer
  • Stabile Entladung im Druckbereich von 0,7 kPa bis 30 kPa (der Leistungsdruck muss angepasst sein)
Beispiel halter
  • Durchmesser des Probentisches ≥ 70 mm, effektive Nutzungsfläche ≥ 64 mm
  • Wassergekühlte Sandwich-Struktur der Grundplattenplattform
  • Der Probenhalter kann in der Kavität gleichmäßig elektrisch angehoben und abgesenkt werden
Gasflusssystem
  • Ganzmetall-Schweißluftscheibe
  • Für alle internen Gaskreisläufe des Geräts müssen Schweiß- oder VCR-Verbindungen verwendet werden.
  • 5 Kanäle MFC-Durchflussmesser, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm; CH4: 100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Arbeitsdruck 0,05–0,3 MPa, Genauigkeit ±2 %
  • Unabhängige pneumatische Ventilsteuerung für jeden Kanal-Durchflussmesser
Kühlsystem
  • 3 Leitungen Wasserkühlung, Echtzeitüberwachung von Temperatur und Durchfluss.
  • Der Kühlwasserdurchfluss des Systems beträgt ≤ 50 l/min
  • Der Kühlwasserdruck beträgt <4 kg und die Einlasswassertemperatur beträgt 20–25 °C.
Temperatursensor
  • Das externe Infrarot-Thermometer hat einen Temperaturbereich von 300-1400 ℃
  • Genauigkeit der Temperaturregelung < 2 ℃ oder 2 %
Kontrollsystem
  • Siemens Smart 200 SPS und Touchscreen-Steuerung werden übernommen.
  • Das System verfügt über eine Vielzahl von Programmen, mit denen ein automatischer Ausgleich der Wachstumstemperatur, eine genaue Steuerung des Wachstumsluftdrucks, ein automatischer Temperaturanstieg, ein automatischer Temperaturabfall und andere Funktionen realisiert werden können.
  • Durch die Überwachung des Wasserdurchflusses, der Temperatur, des Drucks und anderer Parameter können ein stabiler Betrieb der Geräte und ein umfassender Schutz der Geräte erreicht werden, und die Zuverlässigkeit und Sicherheit des Betriebs kann durch funktionale Verriegelung gewährleistet werden.
Optionale Funktion
  • Center-Überwachungssystem
  • Substratbasierte Leistung

Warnungen

Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.

Für Sie entworfen

KinTek bietet umfassenden, maßgeschneiderten Service und Ausrüstung für Kunden auf der ganzen Welt. Unsere spezialisierte Teamarbeit und unsere erfahrenen Ingenieure sind in der Lage, die kundenspezifischen Hardware- und Software-Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen und unseren Kunden beim Aufbau der exklusiven und personalisierten Ausrüstung und Lösung zu helfen!

Bitte senden Sie uns Ihre Ideen, unsere Ingenieure sind jetzt für Sie bereit!

FAQ

Was Ist Eine CVD-Diamantmaschine?

Eine CVD-Diamantmaschine ist ein Gerät zur Herstellung synthetischer Diamanten durch einen Prozess namens Chemical Vapour Deposition (CVD). Bei diesem Prozess werden chemische Dämpfe abgeschieden, um einen Diamanten zu erzeugen, dessen Eigenschaften denen natürlicher Diamanten entsprechen. CVD-Diamantmaschinen, einschließlich filamentunterstützter thermischer CVD, plasmaunterstützter CVD und verbrennungsflammenunterstützter CVD usw. Die resultierenden CVD-Diamanten sind aufgrund ihrer hohen Härte und langen Werkzeuglebensdauer in der Schneidwerkzeugindustrie nützlich, was sie zu einem wichtigen Werkzeug macht und kostengünstiges Werkzeug zum Schneiden von Nichteisenmaterialien.

Welche Arten Von Diamantwachstumsmaschinen Gibt Es?

Für die Züchtung künstlicher Diamanten stehen mehrere Maschinen zur Verfügung, darunter Heißfaden-CVD, Gleichstrom-Plasmaflammen-CVD, mikrowellenplasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (MPCVD) und Mikroplasma-CVD (MPCVD). Unter diesen wird MPCVD aufgrund seiner homogenen Erwärmung durch Mikrowellen häufig verwendet. Darüber hinaus kann die Wachstumsrate von Diamant durch Erhöhung der Plasmadichte erhöht werden, und Stickstoff kann hinzugefügt werden, um die Wachstumsrate von Diamant zu verbessern. Um eine ebene Oberfläche zu erreichen, können verschiedene Poliertechniken, darunter mechanisches und chemomechanisches Polieren, eingesetzt werden. Das Wachstum großer Diamanten kann durch Mosaikwachstum oder heteroepitaktisches Wachstum erreicht werden.

Was Sind Die Vorteile Von Im Labor Gezüchteten Diamanten?

Zu den Vorteilen von im Labor gezüchteten Diamanten gehören die Kenntnis ihrer Herkunft, ein niedrigerer Preis, eine höhere Umweltfreundlichkeit und die Möglichkeit, farbige Diamanten einfacher herzustellen. Im Labor gezüchtete Diamanten sind sich ihrer Herkunft fast zu 100 % sicher, sodass sie frei von Konflikten, Kinderausbeutung oder Krieg sind. Sie sind außerdem mindestens 20 % günstiger als natürliche Diamanten gleicher Größe, Reinheit und Schliff. Im Labor gezüchtete Diamanten sind nachhaltiger, da kein Abbau erforderlich ist und sie weniger Auswirkungen auf die Umwelt haben. Schließlich sind synthetische farbige Diamanten einfacher in einer breiten Farbpalette herzustellen und zu einem deutlich günstigeren Preis erhältlich.

Was Ist Das Grundprinzip Von CVD?

Das Grundprinzip der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) besteht darin, ein Substrat einem oder mehreren flüchtigen Vorläufern auszusetzen, die auf seiner Oberfläche reagieren oder sich zersetzen, um eine dünne Filmabscheidung zu erzeugen. Dieses Verfahren kann für verschiedene Anwendungen eingesetzt werden, beispielsweise zur Strukturierung von Filmen, Isoliermaterialien und leitenden Metallschichten. CVD ist ein vielseitiges Verfahren, mit dem Beschichtungen, Pulver, Fasern, Nanoröhren und monolithische Komponenten synthetisiert werden können. Es ist auch in der Lage, die meisten Metalle und Metalllegierungen sowie deren Verbindungen, Halbleiter und Nichtmetallsysteme herzustellen. Charakteristisch für den CVD-Prozess ist die Ablagerung eines Feststoffs auf einer erhitzten Oberfläche durch eine chemische Reaktion in der Dampfphase.

Was Kostet Eine CVD-Wachstumsmaschine?

Der Preis einer CVD-Züchtungsmaschine kann je nach Größe und Komplexität der Einheit stark variieren. Kleine Tischmodelle, die für Forschungs- und Entwicklungszwecke konzipiert sind, können etwa 50.000 US-Dollar kosten, während Maschinen im industriellen Maßstab, mit denen große Mengen hochwertiger Diamanten hergestellt werden können, über 200.000 US-Dollar kosten können. Allerdings ist der Preis von CVD-Diamanten im Allgemeinen niedriger als der von geförderten Diamanten, was sie für Verbraucher zu einer erschwinglicheren Option macht.

Welche Verschiedenen Arten Von CVD-Methoden Gibt Es?

Zu den verschiedenen Arten von CVD-Methoden gehören Atmosphärendruck-CVD (APCVD), Niederdruck-CVD (LPCVD), Ultrahochvakuum-CVD, durch Aerosole unterstütztes CVD, CVD mit direkter Flüssigkeitseinspritzung, Heißwand-CVD, Kaltwand-CVD, Mikrowellen-Plasma-CVD, Plasma-CVD. Enhanced CVD (PECVD), Remote Plasma Enhanced CVD, Low Energy Plasma Enhanced CVD, Atomic Layer CVD, Combustion CVD und Hot Filament CVD. Diese Methoden unterscheiden sich im Mechanismus, durch den chemische Reaktionen ausgelöst werden, und in den Betriebsbedingungen.
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Ulla Hansen

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