Die Reinigung eines Sputtertargets ist entscheidend für eine hochwertige Dünnschichtabscheidung.
Hier finden Sie eine Schritt-für-Schritt-Anleitung, um sicherzustellen, dass Ihr Sputtertarget sauber und einsatzbereit ist.
Wie reinigt man ein Sputtertarget? 4 wesentliche Schritte und Vorsichtsmaßnahmen
Schritt 1: Reinigen Sie das Target mit einem weichen, fusselfreien, in Aceton getränkten Tuch.
Auf diese Weise lassen sich Staub und Schmutz, die sich auf der Oberfläche des Targets befinden könnten, entfernen.
Schritt 2: Reinigen mit Alkohol
Dieser Schritt trägt dazu bei, Verunreinigungen oder Rückstände auf der Zielscheibe zu entfernen.
Schritt 3: Reinigen mit deionisiertem Wasser
Entionisiertes Wasser wird verwendet, um sicherzustellen, dass alle verbleibenden Verunreinigungen oder Rückstände gründlich von der Zielscheibe entfernt werden.
Schritt 4: Trocknen des Targets in einem Ofen
Nach der Reinigung mit deionisiertem Wasser wird das Target in den Ofen gelegt und 30 Minuten lang bei 100 ℃ getrocknet.
Dieser Schritt ist wichtig, um sicherzustellen, dass das Target vor der weiteren Verwendung vollständig trocken ist.
Vorsichtsmaßnahmen während des Sputtering-Prozesses
1. Sputtervorbereitung
Es ist wichtig, die Vakuumkammer und das Sputtersystem sauber zu halten.
Jegliche Rückstände oder Verunreinigungen können die Wahrscheinlichkeit eines Filmversagens oder eines Systemkurzschlusses erhöhen.
2. Installation des Targets
Sorgen Sie für eine gute thermische Verbindung zwischen dem Target und der Stabilisierungswand der Sputterkanone.
Wenn der Kühlstab oder die Stützplatte verzogen ist, kann dies die Wärmeleitfähigkeit beeinträchtigen und zu Rissen oder Verbiegungen des Targets führen.
3. Aufrechterhaltung der Sauberkeit des Sputtergases
Das Sputtergas, z. B. Argon oder Sauerstoff, sollte sauber und getrocknet sein, damit die Zusammensetzung der Beschichtung erhalten bleibt.
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