Führen Sie zur Reinigung eines Sputtertargets die folgenden Schritte aus:
Schritt 1: Reinigen Sie es mit einem weichen, fusselfreien, in Aceton getränkten Tuch. So entfernen Sie Staub und Schmutz, der sich möglicherweise auf der Oberfläche des Targets befindet.
Schritt 2: Reinigen Sie mit Alkohol. Dieser Schritt trägt dazu bei, Verunreinigungen oder Rückstände auf der Zielscheibe zu entfernen.
Schritt 3: Reinigen mit deionisiertem Wasser. Deionisiertes Wasser wird verwendet, um sicherzustellen, dass alle verbleibenden Verunreinigungen oder Rückstände gründlich von der Zielscheibe entfernt werden.
Schritt 4: Nach der Reinigung mit entionisiertem Wasser wird das Target in den Ofen gelegt und 30 Minuten lang bei 100 ℃ getrocknet. Dieser Schritt ist wichtig, um sicherzustellen, dass das Target vor der weiteren Verwendung vollständig trocken ist.
Neben der Reinigung des Sputtertargets sind auch einige Vorsichtsmaßnahmen während des Sputtervorgangs zu beachten:
1. Sputtervorbereitung: Es ist wichtig, die Vakuumkammer und das Sputtersystem sauber zu halten. Jegliche Rückstände oder Verunreinigungen können die Wahrscheinlichkeit eines Filmversagens oder eines Systemkurzschlusses erhöhen.
2. Installation des Targets: Sorgen Sie für eine gute thermische Verbindung zwischen dem Target und der Stabilisierungswand der Sputterkanone. Wenn der Kühlstab oder die Stützplatte verzogen ist, kann dies die Wärmeleitfähigkeit beeinträchtigen und zu Rissen oder Verbiegungen des Targets führen.
3. Halten Sie das Sputtergas sauber: Das Sputtergas, z. B. Argon oder Sauerstoff, sollte sauber und getrocknet sein, damit die Zusammensetzung der Beschichtung erhalten bleibt.
Insgesamt ist die Reinigung und Wartung des Sputtertargets von entscheidender Bedeutung für eine hochwertige Dünnschichtabscheidung und die Vermeidung möglicher Probleme während des Sputterprozesses.
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