Wissen Was wird als Sputtern bezeichnet?
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Woche

Was wird als Sputtern bezeichnet?

Sputtern ist ein Verfahren zur Abscheidung von Dünnschichten, bei dem Atome aus einem Zielmaterial herausgeschleudert und durch den Beschuss mit hochenergetischen Teilchen auf einem Substrat abgeschieden werden. Diese Technik ist in der Industrie weit verbreitet, z. B. bei Halbleitern, Festplattenlaufwerken, CDs und optischen Geräten.

Zusammenfassung der Antwort:

Beim Sputtern werden durch den Beschuss mit hochenergetischen Teilchen Atome aus einem Zielmaterial auf ein Substrat geschleudert. Dieses Verfahren ist entscheidend für die Herstellung dünner Schichten, die in verschiedenen Industriezweigen wie der Elektronik und Optik verwendet werden.

  1. Ausführliche Erläuterung:

    • Mechanismus des Sputterns:
  2. Beim Sputtern beschießt ein Plasma aus hochenergetischen Teilchen oder Ionen die Oberfläche eines festen Targets. Durch den Impulsaustausch zwischen den einfallenden Ionen und den Zielatomen werden Atome aus dem Target herausgeschleudert. Die übertragene Energie muss größer sein als die Bindungsenergie der Target-Atome, um den Ausstoß zu bewirken, ein Phänomen, das als Sputtern bekannt ist.

    • Techniken und Anwendungen:
  3. Zu den Sputtertechniken gehören verschiedene Verfahren wie kathodisches Sputtern, Diodensputtern, HF- oder DC-Sputtern, Ionenstrahlsputtern und reaktives Sputtern. Mit diesen Techniken werden dünne Schichten aus Metallen, Halbleitern und optischen Beschichtungen auf Substrate wie Siliziumwafer, Solarzellen und optische Geräte aufgebracht. Das Hochfrequenz-Magnetron-Sputtern wird besonders häufig für die Abscheidung zweidimensionaler Materialien in Anwendungen wie Solarzellen eingesetzt.

    • Historischer Kontext und industrielle Nutzung:
  4. Das Konzept des Sputterns wurde erstmals Mitte des 19. Jahrhunderts entdeckt und ab Mitte des 20. Jahrhunderts industriell genutzt, wobei die ersten Anwendungen die Beschichtung von Rasierklingen waren. Heutzutage ist die Sputtertechnologie fortschrittlich und wird in der Massenproduktion weit verbreitet, insbesondere in der Halbleiter- und Präzisionsoptikindustrie.

    • Umwelt- und Fertigungsaspekte:

Das Sputtern gilt aufgrund seiner Präzision und der geringen Menge der verwendeten Materialien als umweltfreundliche Technik. Es ermöglicht die Abscheidung verschiedener Materialien wie Oxide, Metalle und Legierungen auf unterschiedlichen Substraten, was die Vielseitigkeit und Nachhaltigkeit des Verfahrens erhöht.Überprüfung und Berichtigung:

Ähnliche Produkte

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Hochreines Blei (Pb) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Blei (Pb) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Bleimaterialien (Pb) für Ihren Laborbedarf? Dann sind Sie bei unserer speziellen Auswahl an anpassbaren Optionen genau richtig, darunter Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien und mehr. Kontaktieren Sie uns noch heute für wettbewerbsfähige Preise!

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Kupfer-Zirkonium-Legierung (CuZr).

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Kupfer-Zirkonium-Legierung (CuZr).

Entdecken Sie unser Angebot an Kupfer-Zirkonium-Legierungsmaterialien zu erschwinglichen Preisen, maßgeschneidert auf Ihre individuellen Anforderungen. Stöbern Sie in unserer Auswahl an Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr.

Hochreines Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach Aluminiumoxidmaterialien für Ihr Labor? Wir bieten hochwertige Al2O3-Produkte zu erschwinglichen Preisen mit anpassbaren Formen und Größen, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden. Finden Sie Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr.

Hochreines Iridium (Ir)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Iridium (Ir)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Iridium (Ir)-Materialien für den Laborgebrauch? Suchen Sie nicht weiter! Unsere fachmännisch hergestellten und maßgeschneiderten Materialien sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Schauen Sie sich unser Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr an. Holen Sie sich noch heute ein Angebot ein!

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Eisen (Fe)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach erschwinglichen Eisenmaterialien (Fe) für den Laborgebrauch? Unser Produktsortiment umfasst Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr in verschiedenen Spezifikationen und Größen, maßgeschneidert auf Ihre spezifischen Bedürfnisse. Kontaktiere uns heute!

Spark-Plasma-Sinterofen SPS-Ofen

Spark-Plasma-Sinterofen SPS-Ofen

Entdecken Sie die Vorteile von Spark-Plasma-Sinteröfen für die schnelle Materialvorbereitung bei niedrigen Temperaturen. Gleichmäßige Erwärmung, niedrige Kosten und umweltfreundlich.

Hochreines Kobalt (Co)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Kobalt (Co)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie erschwingliche Kobalt (Co)-Materialien für den Laborgebrauch, maßgeschneidert auf Ihre individuellen Bedürfnisse. Unser Sortiment umfasst Sputtertargets, Pulver, Folien und mehr. Kontaktieren Sie uns noch heute für maßgeschneiderte Lösungen!

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Aluminium (Al).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus hochreinem Aluminium (Al).

Erhalten Sie hochwertige Aluminium (Al)-Materialien für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Wir bieten maßgeschneiderte Lösungen, einschließlich Sputtertargets, Pulver, Folien, Barren und mehr, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Jetzt bestellen!

Hochreines Zirkonium (Zr)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Zirkonium (Zr)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Zirkoniummaterialien für Ihren Laborbedarf? Unser Sortiment an erschwinglichen Produkten umfasst Sputtertargets, Beschichtungen, Pulver und mehr, maßgeschneidert auf Ihre individuellen Anforderungen. Kontaktiere uns heute!

Elektronenkanonenstrahltiegel

Elektronenkanonenstrahltiegel

Im Zusammenhang mit der Elektronenstrahlverdampfung ist ein Tiegel ein Behälter oder Quellenhalter, der dazu dient, das auf einem Substrat abzuscheidende Material aufzunehmen und zu verdampfen.

Hochreines Platin (Pt) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Platin (Pt) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Sputtertargets, Pulver, Drähte, Blöcke und Granulate aus hochreinem Platin (Pt) zu erschwinglichen Preisen. Maßgeschneidert auf Ihre spezifischen Bedürfnisse mit verschiedenen Größen und Formen für verschiedene Anwendungen.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi).

Entdecken Sie unsere Materialien aus Wolfram-Titan-Legierung (WTi) für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Unser Fachwissen ermöglicht es uns, maßgeschneiderte Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe herzustellen. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Sputtertargets, Pulvern und mehr.

Zinksulfid (ZnS) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Zinksulfid (ZnS) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Erhalten Sie erschwingliche Materialien aus Zinksulfid (ZnS) für Ihren Laborbedarf. Wir produzieren und passen ZnS-Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe an. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.

Hochreines Vanadium (V)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Vanadium (V)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Vanadium (V)-Materialien für Ihr Labor? Wir bieten eine breite Palette anpassbarer Optionen an, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden, darunter Sputtertargets, Pulver und mehr. Kontaktieren Sie uns noch heute für wettbewerbsfähige Preise.

Vakuum-Drucksinterofen

Vakuum-Drucksinterofen

Vakuum-Drucksinteröfen sind für Hochtemperatur-Heißpressanwendungen beim Sintern von Metall und Keramik konzipiert. Seine fortschrittlichen Funktionen gewährleisten eine präzise Temperaturregelung, zuverlässige Druckhaltung und ein robustes Design für einen reibungslosen Betrieb.

Hochreines Palladium (Pd)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Palladium (Pd)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach erschwinglichen Palladiummaterialien für Ihr Labor? Wir bieten maßgeschneiderte Lösungen mit unterschiedlichen Reinheiten, Formen und Größen – von Sputtertargets über Nanometerpulver bis hin zu 3D-Druckpulvern. Stöbern Sie jetzt in unserem Sortiment!

Vakuumrohr-Heißpressofen

Vakuumrohr-Heißpressofen

Reduzieren Sie den Formdruck und verkürzen Sie die Sinterzeit mit dem Vakuumrohr-Heißpressofen für hochdichte, feinkörnige Materialien. Ideal für refraktäre Metalle.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht