CVD- und PECVD-Ofen
Schiebe-PECVD-Rohrofen mit Flüssigvergaser-PECVD-Maschine
Artikelnummer : KT-PE12
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Max. Temperatur
- 1200 ℃
- Konstante Arbeitstemperatur
- 1100 ℃
- Durchmesser des Ofenrohrs
- 60 mm
- Länge der Heizzone
- 1x450 mm
- Erwärmungsrate
- 0-20 ℃/min
- Gleitstrecke
- 600mm
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Das KT-PE12 Slide PECVD-System mit Flüssigvergaser besteht aus einer 500-W-RF-Plasmaquelle, einem TF-1200-Schiebeofen, 4 MFC-Gas-Präzisionssteuereinheiten und einer Standard-Vakuumstation. Ofenkammerschienen-Schiebesystem, das den Zweck des schnellen Aufheizens und schnellen Abkühlens realisieren kann; optional kann ein zusätzlicher Umluftventilator installiert werden, um die Abkühlrate zu beschleunigen; optionale Schiebebewegung automatisch funktionierend; max. Die Arbeitstemperatur beträgt bis zu 1200 °C, das Ofenrohr besteht aus einem Quarzrohr mit 60 mm Durchmesser. 4-Kanal-MFC-Massendurchflussmesser mit den Gasquellen CH4, H2, O2 und N2; Die Vakuumstation ist eine 4L/S-Drehschieber-Vakuumpumpe, max. Der Vakuumdruck beträgt bis zu 10 Pa.
Vorteile
- Automatische HF-Plasma-Anpassungsquelle, breiter Ausgangsleistungsbereich von 5–500 W, stabile Leistung
- Es stehen ein Ofenkammer-Schiebesystem für Hochgeschwindigkeitsheizen und Kurzzeitkühlen, zusätzliches Schnellkühlen und automatische Schiebebewegung zur Verfügung
- PID-programmierbare Temperaturregelung, hervorragende Regelgenauigkeit und Unterstützung für Fernsteuerung und zentrale Steuerung
- Hochpräzise Steuerung des MFC-Massendurchflussmessers, Vormischung der Quellgase und stabile Gaszufuhrgeschwindigkeit
- Edelstahl-Vakuumflansch mit verschiedenen Adapteranschlüssen für unterschiedliche Konfigurationen von Vakuumpumpstationen, gute Abdichtung und hoher Vakuumgrad
- CTF Pro verfügt über einen 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller, benutzerfreundlichere Programmeinstellungen und Verlaufsdatenanalyse
Verschiedene Temperatur- und Setup-CVD-Systeme verfügbar
Sicherheitsvorteil
- Der Kindle Tech-Röhrenofen verfügt über einen Überstromschutz und eine Übertemperatur-Alarmfunktion. Der Ofen schaltet den Strom automatisch ab
- Der eingebaute Ofen verfügt über eine Funktion zur Erkennung von thermischen Paaren. Der Ofen stoppt das Heizen und der Alarm wird aktiviert, sobald ein Defekt oder ein Fehler erkannt wird
- PE Pro unterstützt die Neustartfunktion bei Stromausfall. Der Ofen nimmt das Ofenheizprogramm wieder auf, wenn nach einem Stromausfall Strom anliegt
Technische Spezifikationen
Ofenmodell | KT-PE12-60 |
Max. Temperatur | 1200℃ |
Konstante Arbeitstemperatur | 1100℃ |
Ofenrohrmaterial | Hochreiner Quarz |
Durchmesser des Ofenrohrs | 60mm |
Länge der Heizzone | 1x450mm |
Kammermaterial | Japanische Aluminiumoxidfaser |
Heizkörper | Cr2Al2Mo2-Drahtspule |
Erwärmungsrate | 0-20℃/min |
Wärmepaar | Eingebaut im K-Typ |
Temperaturregler | Digitaler PID-Regler/Touchscreen-PID-Regler |
Genauigkeit der Temperaturregelung | ±1℃ |
Gleitstrecke | 600mm |
RF-Plasma-Einheit | |
Ausgangsleistung | 5–500 W einstellbar mit ± 1 % Stabilität |
HF-Frequenz | 13,56 MHz ±0,005 % Stabilität |
Reflexionskraft | 350W max. |
Passend | Automatisch |
Lärm | <50 dB |
Kühlung | Luftkühlung. |
Gaspräzises Steuergerät | |
Durchflussmesser | MFC-Massendurchflussmesser |
Gaskanäle | 4 Kanäle |
Fließrate | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
Linearität | ±0,5 % FS |
Wiederholbarkeit | ±0,2 % FS |
Rohrleitung und Ventil | Edelstahl |
Maximaler Betriebsdruck | 0,45 MPa |
Durchflussmesser-Controller | Digitaler Knopf-Controller/Touchscreen-Controller |
Standard-Vakuumeinheit (optional) | |
Vakuumpumpe | Drehschieber-Vakuumpumpe |
Fördermenge der Pumpe | 4L/S |
Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
Vakuummessgerät | Pirani/Resistance-Silizium-Vakuummeter |
Nennvakuumdruck | 10Pa |
Hochvakuumeinheit (optional) | |
Vakuumpumpe | Drehschieberpumpe+Molekularpumpe |
Fördermenge der Pumpe | 4L/S+110L/S |
Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
Vakuummessgerät | Verbundvakuummeter |
Nennvakuumdruck | 6x10-5Pa |
Die oben genannten Spezifikationen und Setups können individuell angepasst werden |
Standardpaket
NEIN. | Beschreibung | Menge |
1 | Ofen | 1 |
2 | Quarzrohr | 1 |
3 | Vakuumflansch | 2 |
4 | Rohr-Thermoblock | 2 |
5 | Rohr-Thermoblockhaken | 1 |
6 | Hitzebeständiger Handschuh | 1 |
7 | RF-Plasmaquelle | 1 |
8 | Präzise Gassteuerung | 1 |
9 | Vakuumeinheit | 1 |
10 | Bedienungsanleitung | 1 |
Optionales Setup
- Erkennung und Überwachung von Rohrgasen wie H2, O2 usw
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485-Kommunikationsanschluss für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Fügen Sie Gase ein, die die Durchflussmenge steuern, z. B. Massendurchflussmesser und Schwebekörper-Durchflussmesser
- Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, bedienerfreundlichen Funktionen
- Hochvakuumpumpstationsaufbauten, wie Flügelzellenvakuumpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
Für Sie entworfen
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FAQ
Was Ist Die PECVD-Methode?
Was Ist Mpcvd?
Wofür Wird PECVD Verwendet?
Was Ist Eine Mpcvd-Maschine?
Was Sind Die Vorteile Von PECVD?
Was Sind Die Vorteile Von Mpcvd?
Was Ist Der Unterschied Zwischen ALD Und PECVD?
Sind CVD-Diamanten Echt Oder Gefälscht?
Was Ist Der Unterschied Zwischen PECVD Und Sputtern?
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disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Cvd- Und Pecvd-Ofen
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Pecvd-Maschine
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Mpcvd-Maschine
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