CVD- und PECVD-Ofen
Chemische Gasphasenabscheidung CVD-Anlagensystem Kammer-Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser PECVD-Maschine
Artikelnummer : KT-PE12
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Maximale Temperatur
- 1200 ℃
- Konstante Arbeitstemperatur
- 1100 ℃
- Ofenrohrdurchmesser
- 60 mm
- Heizzonenlänge
- 1x450 mm
- Aufheizgeschwindigkeit
- 0-20 ℃/min
- Gleitweg
- 600mm
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Einführung
Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser-PECVD-Maschine ist ein vielseitiges und leistungsstarkes System, das für eine breite Palette von Dünnschichtabscheidungsanwendungen entwickelt wurde. Er verfügt über eine 500-W-HF-Plasmaquelle, einen ausfahrbaren Ofen, eine präzise Gasflusssteuerung und eine Vakuumstation. Das System bietet Vorteile wie automatische Plasmaanpassung, Hochgeschwindigkeits-Aufheizung und -Abkühlung, programmierbare Temperatursteuerung und eine benutzerfreundliche Oberfläche. Es wird häufig in Forschungs- und Produktionsumgebungen zur Abscheidung dünner Schichten in verschiedenen Branchen eingesetzt, darunter Elektronik, Halbleiter und Optik.
Anwendungen
Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser-PECVD-Maschine findet Anwendung in:
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
- Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
- Dünnschichtabscheidung
- Herstellung von Solarzellen
- Halbleiterverarbeitung
- Nanotechnologie
- Materialwissenschaften
- Forschung und Entwicklung
Verschiedene Temperatur- und Setup-CVD-Systeme verfügbar
Prinzip
Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser-PECVD-Maschine nutzt Niedertemperaturplasma, um eine Glimmentladung an der Kathode (Probenträger) der Prozesskammer zu erzeugen. Die Glimmentladung (oder eine andere Wärmequelle) erhöht die Temperatur der Probe auf ein vorgegebenes Niveau. Anschließend werden kontrollierte Mengen an Prozessgas eingeleitet, die chemische und Plasmareaktionen durchlaufen, um einen festen Film auf der Oberfläche der Probe zu bilden.
Merkmale
Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser-PECVD-Maschine bietet den Anwendern zahlreiche Vorteile:
- Verbesserte Energieerzeugung für Solarzellen-Wafer: Die innovative Graphitboot-Struktur verbessert die Leistungsabgabe von Solarzellen erheblich.
- Eliminierung von Farbunterschieden bei tubulären PECVD-Zellen: Diese Anlage löst effektiv das Problem der Farbvariationen bei tubulären PECVD-Zellen.
- Breiter Ausgangsleistungsbereich (5-500W): Die automatische HF-Plasma-Matching-Quelle bietet einen vielseitigen Bereich an Ausgangsleistung und gewährleistet optimale Leistung für verschiedene Anwendungen.
- Hochgeschwindigkeits-Aufheizung und -Abkühlung: Das Gleitsystem der Ofenkammer ermöglicht schnelles Aufheizen und Abkühlen, wodurch die Bearbeitungszeit verkürzt wird. Eine zusätzliche Zwangsluftzirkulation beschleunigt die Abkühlrate weiter.
- Automatisierte Schiebebewegung: Die optionale Schiebebewegungsfunktion ermöglicht einen automatischen Betrieb, was die Effizienz steigert und manuelle Eingriffe reduziert.
- Präzise Temperaturregelung: Die programmierbare PID-Temperaturregelung gewährleistet eine genaue Temperaturregulierung und unterstützt Fernsteuerung sowie zentrale Steuerung für zusätzlichen Komfort.
- Hochpräzise MFC-Massenflussregelung: Der MFC-Massenflussmesser steuert die Quellgase präzise und sorgt für eine stabile und konsistente Gaszufuhr.
- Vielseitige Vakuumstation: Der Vakuumflansch aus Edelstahl mit mehreren Anschlussadaptern ermöglicht verschiedene Konfigurationen der Vakuumpumpstation und gewährleistet einen hohen Vakuumgrad.
- Benutzerfreundliche Oberfläche: Der CTF Pro 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller vereinfacht die Programmeinstellung und ermöglicht eine einfache Analyse historischer Daten.
Vorteile
- Automatische HF-Plasma-Matching-Quelle, breiter Ausgangsleistungsbereich von 5-500 W, stabiler Ausgang
- Ofenkammer-Schiebesystem für schnelles Aufheizen und kurzes Abkühlen, zusätzliche Schnellkühlung und automatische Schiebebewegung verfügbar
- Programmierbare PID-Temperaturregelung, hervorragende Regelgenauigkeit und Unterstützung von Fernsteuerung und zentraler Steuerung
- Hochpräzise MFC-Massenflussregelung, Vormischung der Quellgase und stabile Gaszufuhrgeschwindigkeit
- Edelstahl-Vakuumflansch mit verschiedenen Anschlussadaptern für unterschiedliche Vakuumpumpstation-Setups, gute Abdichtung und hoher Vakuumgrad
- CTF Pro verwendet einen 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller, benutzerfreundlichere Programmeinstellung und Verlaufsdatenanalyse
Sicherheitsvorteile
- Der Kindle Tech Rohroofen verfügt über einen Überstromschutz und eine Übertemperaturalarmfunktion; der Ofen schaltet den Strom automatisch ab
- Eingebaute Thermoelement-Erkennungsfunktion: Der Ofen stoppt das Heizen und ein Alarm wird ausgelöst, sobald ein Bruch oder Fehler erkannt wird
- PE Pro unterstützt die Neustartfunktion nach Stromausfall: Der Ofen setzt das Heizprogramm fort, wenn der Strom nach einem Ausfall wiederkehrt
Technische Spezifikationen
| Ofenmodell | KT-PE12-60 |
| Max. Temperatur | 1200℃ |
| Konstante Arbeitstemperatur | 1100℃ |
| Ofenrohrmaterial | Hochreiner Quarz |
| Ofenrohrdurchmesser | 60mm |
| Länge der Heizzone | 1x450mm |
| Kammermaterial | Japanische Aluminiumoxidfaser |
| Heizelement | Cr2Al2Mo2 Drahtspule |
| Heizrate | 0-20℃/min |
| Thermoelement | Eingebauter Typ K |
| Temperaturregler | Digitaler PID-Regler/Touchscreen-PID-Regler |
| Genauigkeit der Temperaturregelung | ±1℃ |
| Schiebedistanz | 600mm |
| HF-Plasmaeinheit | |
| Ausgangsleistung | 5 -500W einstellbar mit ± 1% Stabilität |
| HF-Frequenz | 13,56 MHz ±0,005% Stabilität |
| Reflexionsleistung | 350W max. |
| Anpassung (Matching) | Automatisch |
| Geräuschpegel | <50 dB |
| Kühlung | Luftkühlung |
| Präzisions-Gasregeleinheit | |
| Durchflussmesser | MFC-Massenflussmesser |
| Gaskanäle | 4 Kanäle |
| Durchflussrate | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearität | ±0,5% F.S. |
| Wiederholbarkeit | ±0,2% F.S. |
| Rohrleitung und Ventil | Edelstahl |
| Maximaler Betriebsdruck | 0,45MPa |
| Durchflussregler | Digitaler Drehknopfregler/Touchscreen-Regler |
| Standard-Vakuumeinheit (Optional) | |
| Vakuumpumpe | Drehschieber-Vakuumpumpe |
| Pumpenförderstrom | 4L/S |
| Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
| Vakuummeter | Pirani/Widerstands-Silizium-Vakuummeter |
| Nennvakuumdruck | 10Pa |
| Hochvakuumeinheit (Optional) | |
| Vakuumpumpe | Drehschieberpumpe + Molekularpumpe |
| Pumpenförderstrom | 4L/S + 110L/S |
| Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
| Vakuummeter | Kombinations-Vakuummeter |
| Nennvakuumdruck | 6x10-4Pa |
| Obige Spezifikationen und Setups können individuell angepasst werden | |
Standardpaket
| Nr. | Beschreibung | Menge |
| 1 | Ofen | 1 |
| 2 | Quarzrohr | 1 |
| 3 | Vakuumflansch | 2 |
| 4 | Rohr-Thermoblock | 2 |
| 5 | Haken für Rohr-Thermoblock | 1 |
| 6 | Hitzebeständiger Handschuh | 1 |
| 7 | HF-Plasmaquelle | 1 |
| 8 | Präzise Gassteuerung | 1 |
| 9 | Vakuumeinheit | 1 |
| 10 | Bedienungsanleitung | 1 |
Optionales Setup
- Gaserkennung und -überwachung im Rohr, z. B. H2, O2 usw.
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485 Kommunikationsanschluss für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Regelung der Zufuhrrate von Einsatzgasen, wie Massenflussmesser und Schwebekörper-Durchflussmesser
- Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, bedienerfreundlichen Funktionen
- Hochvakuumpumpstation-Setups, wie Drehschieber-Vakuumpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
Für Sie entworfen
KinTek bietet umfassenden, maßgeschneiderten Service und Ausrüstung für Kunden auf der ganzen Welt. Unsere spezialisierte Teamarbeit und unsere erfahrenen Ingenieure sind in der Lage, die kundenspezifischen Hardware- und Software-Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen und unseren Kunden beim Aufbau der exklusiven und personalisierten Ausrüstung und Lösung zu helfen!
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Vertraut von Branchenführern
FAQ
Was Ist Die PECVD-Methode?
Was Ist Mpcvd?
Wofür Wird PECVD Verwendet?
Was Ist Eine Mpcvd-Maschine?
Was Sind Die Vorteile Von PECVD?
Was Sind Die Vorteile Von Mpcvd?
Was Ist Der Unterschied Zwischen ALD Und PECVD?
Sind CVD-Diamanten Echt Oder Gefälscht?
Was Ist Der Unterschied Zwischen PECVD Und Sputtern?
4.9 / 5
The speed of this system is phenomenal! High-speed heating and cooling has drastically cut our research time. A game-changer for our lab.
4.8 / 5
Incredible value for such advanced tech. The precise gas flow control and RF plasma source deliver production-grade results in our R&D.
4.9 / 5
The build quality is exceptional. The stainless steel vacuum flange and safety features give us complete peace of mind during long runs.
4.7 / 5
A workhorse! The automated sliding movement and robust construction suggest this machine will be a cornerstone of our work for years.
4.9 / 5
The technological leap is real. The automatic plasma matching and touch screen interface make complex depositions surprisingly straightforward.
4.8 / 5
Arrived faster than expected and set up was a breeze. The user-friendly interface had us running experiments on day one.
4.7 / 5
Outstanding performance for the price. The consistent film quality we achieve on solar cells is directly attributable to this machine's precision.
4.9 / 5
The durability is impressive. It handles continuous operation in our semiconductor processing line without a hiccup. A truly reliable investment.
4.8 / 5
A marvel of engineering. The slide-out furnace for fast cooling is a brilliant feature that boosts our lab's overall efficiency significantly.
4.9 / 5
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4.7 / 5
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4.8 / 5
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4.9 / 5
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4.8 / 5
Seamless integration into our workflow. The remote control capabilities and data export make analysis and reporting incredibly efficient.
Produktdatenblatt
Chemische Gasphasenabscheidung CVD-Anlagensystem Kammer-Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser PECVD-Maschine
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