Chemische Gasphasenabscheidung CVD-Anlagensystem Kammer-Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser PECVD-Maschine

Einführung

Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser-PECVD-Maschine ist ein vielseitiges und leistungsstarkes System, das für eine breite Palette von Dünnschichtabscheidungsanwendungen entwickelt wurde. Er verfügt über eine 500-W-HF-Plasmaquelle, einen ausfahrbaren Ofen, eine präzise Gasflusssteuerung und eine Vakuumstation. Das System bietet Vorteile wie automatische Plasmaanpassung, Hochgeschwindigkeits-Aufheizung und -Abkühlung, programmierbare Temperatursteuerung und eine benutzerfreundliche Oberfläche. Es wird häufig in Forschungs- und Produktionsumgebungen zur Abscheidung dünner Schichten in verschiedenen Branchen eingesetzt, darunter Elektronik, Halbleiter und Optik.

Anwendungen

Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser-PECVD-Maschine findet Anwendung in:

• Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
• Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)
• Dünnschichtabscheidung
• Herstellung von Solarzellen
• Halbleiterverarbeitung
• Nanotechnologie
• Materialwissenschaften
• Forschung und Entwicklung

Verschiedene Temperatur- und Setup-CVD-Systeme verfügbar

Prinzip

Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser-PECVD-Maschine nutzt Niedertemperaturplasma, um eine Glimmentladung an der Kathode (Probenträger) der Prozesskammer zu erzeugen. Die Glimmentladung (oder eine andere Wärmequelle) erhöht die Temperatur der Probe auf ein vorgegebenes Niveau. Anschließend werden kontrollierte Mengen an Prozessgas eingeleitet, die chemische und Plasmareaktionen durchlaufen, um einen festen Film auf der Oberfläche der Probe zu bilden.

Merkmale

Der Schiebe-PECVD-Rohroofen mit Flüssigkeitsvergaser-PECVD-Maschine bietet den Anwendern zahlreiche Vorteile:

• Verbesserte Energieerzeugung für Solarzellen-Wafer: Die innovative Graphitboot-Struktur verbessert die Leistungsabgabe von Solarzellen erheblich.
• Eliminierung von Farbunterschieden bei tubulären PECVD-Zellen: Diese Anlage löst effektiv das Problem der Farbvariationen bei tubulären PECVD-Zellen.
• Breiter Ausgangsleistungsbereich (5-500W): Die automatische HF-Plasma-Matching-Quelle bietet einen vielseitigen Bereich an Ausgangsleistung und gewährleistet optimale Leistung für verschiedene Anwendungen.
• Hochgeschwindigkeits-Aufheizung und -Abkühlung: Das Gleitsystem der Ofenkammer ermöglicht schnelles Aufheizen und Abkühlen, wodurch die Bearbeitungszeit verkürzt wird. Eine zusätzliche Zwangsluftzirkulation beschleunigt die Abkühlrate weiter.
• Automatisierte Schiebebewegung: Die optionale Schiebebewegungsfunktion ermöglicht einen automatischen Betrieb, was die Effizienz steigert und manuelle Eingriffe reduziert.
• Präzise Temperaturregelung: Die programmierbare PID-Temperaturregelung gewährleistet eine genaue Temperaturregulierung und unterstützt Fernsteuerung sowie zentrale Steuerung für zusätzlichen Komfort.
• Hochpräzise MFC-Massenflussregelung: Der MFC-Massenflussmesser steuert die Quellgase präzise und sorgt für eine stabile und konsistente Gaszufuhr.
• Vielseitige Vakuumstation: Der Vakuumflansch aus Edelstahl mit mehreren Anschlussadaptern ermöglicht verschiedene Konfigurationen der Vakuumpumpstation und gewährleistet einen hohen Vakuumgrad.
• Benutzerfreundliche Oberfläche: Der CTF Pro 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller vereinfacht die Programmeinstellung und ermöglicht eine einfache Analyse historischer Daten.

Vorteile

• Automatische HF-Plasma-Matching-Quelle, breiter Ausgangsleistungsbereich von 5-500 W, stabiler Ausgang
• Ofenkammer-Schiebesystem für schnelles Aufheizen und kurzes Abkühlen, zusätzliche Schnellkühlung und automatische Schiebebewegung verfügbar
• Programmierbare PID-Temperaturregelung, hervorragende Regelgenauigkeit und Unterstützung von Fernsteuerung und zentraler Steuerung
• Hochpräzise MFC-Massenflussregelung, Vormischung der Quellgase und stabile Gaszufuhrgeschwindigkeit
• Edelstahl-Vakuumflansch mit verschiedenen Anschlussadaptern für unterschiedliche Vakuumpumpstation-Setups, gute Abdichtung und hoher Vakuumgrad
• CTF Pro verwendet einen 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller, benutzerfreundlichere Programmeinstellung und Verlaufsdatenanalyse

Sicherheitsvorteile

• Der Kindle Tech Rohroofen verfügt über einen Überstromschutz und eine Übertemperaturalarmfunktion; der Ofen schaltet den Strom automatisch ab
• Eingebaute Thermoelement-Erkennungsfunktion: Der Ofen stoppt das Heizen und ein Alarm wird ausgelöst, sobald ein Bruch oder Fehler erkannt wird
• PE Pro unterstützt die Neustartfunktion nach Stromausfall: Der Ofen setzt das Heizprogramm fort, wenn der Strom nach einem Ausfall wiederkehrt

Technische Spezifikationen

Standardpaket

Optionales Setup

• Gaserkennung und -überwachung im Rohr, z. B. H2, O2 usw.
• Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
• RS 485 Kommunikationsanschluss für PC-Fernsteuerung und Datenexport
• Regelung der Zufuhrrate von Einsatzgasen, wie Massenflussmesser und Schwebekörper-Durchflussmesser
• Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, bedienerfreundlichen Funktionen
• Hochvakuumpumpstation-Setups, wie Drehschieber-Vakuumpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe

Warnungen

Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.

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