CVD- und PECVD-Ofen
Schiebe-PECVD-Rohrofen mit Flüssigvergaser-PECVD-Maschine
Artikelnummer : KT-PE12
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Max. Temperatur
- 1200 ℃
- Konstante Arbeitstemperatur
- 1100 ℃
- Durchmesser des Ofenrohrs
- 60 mm
- Länge der Heizzone
- 1x450 mm
- Erwärmungsrate
- 0-20 ℃/min
- Gleitstrecke
- 600mm
Versand:
Kontaktieren Sie uns um Versanddetails zu erhalten. Genießen Sie Garantie für pünktliche Lieferung.
Fordern Sie Ihr individuelles Angebot an 👋
Holen Sie sich jetzt Ihr Angebot! Eine Nachricht hinterlassen Schnell Angebot einholen Via WhatsappAnwendungen
Das KT-PE12 Slide PECVD-System mit Flüssigvergaser besteht aus einer 500-W-RF-Plasmaquelle, einem TF-1200-Schiebeofen, 4 MFC-Gas-Präzisionssteuereinheiten und einer Standard-Vakuumstation. Ofenkammerschienen-Schiebesystem, das den Zweck des schnellen Aufheizens und schnellen Abkühlens realisieren kann; optional kann ein zusätzlicher Umluftventilator installiert werden, um die Abkühlrate zu beschleunigen; optionale Schiebebewegung automatisch funktionierend; max. Die Arbeitstemperatur beträgt bis zu 1200 °C, das Ofenrohr besteht aus einem Quarzrohr mit 60 mm Durchmesser. 4-Kanal-MFC-Massendurchflussmesser mit den Gasquellen CH4, H2, O2 und N2; Die Vakuumstation ist eine 4L/S-Drehschieber-Vakuumpumpe, max. Der Vakuumdruck beträgt bis zu 10 Pa.
Vorteile
- Automatische HF-Plasma-Anpassungsquelle, breiter Ausgangsleistungsbereich von 5–500 W, stabile Leistung
- Es stehen ein Ofenkammer-Schiebesystem für Hochgeschwindigkeitsheizen und Kurzzeitkühlen, zusätzliches Schnellkühlen und automatische Schiebebewegung zur Verfügung
- PID-programmierbare Temperaturregelung, hervorragende Regelgenauigkeit und Unterstützung für Fernsteuerung und zentrale Steuerung
- Hochpräzise Steuerung des MFC-Massendurchflussmessers, Vormischung der Quellgase und stabile Gaszufuhrgeschwindigkeit
- Edelstahl-Vakuumflansch mit verschiedenen Adapteranschlüssen für unterschiedliche Konfigurationen von Vakuumpumpstationen, gute Abdichtung und hoher Vakuumgrad
- CTF Pro verfügt über einen 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller, benutzerfreundlichere Programmeinstellungen und Verlaufsdatenanalyse
Verschiedene Temperatur- und Setup-CVD-Systeme verfügbar
Sicherheitsvorteil
- Der Kindle Tech-Röhrenofen verfügt über einen Überstromschutz und eine Übertemperatur-Alarmfunktion. Der Ofen schaltet den Strom automatisch ab
- Der eingebaute Ofen verfügt über eine Funktion zur Erkennung von thermischen Paaren. Der Ofen stoppt das Heizen und der Alarm wird aktiviert, sobald ein Defekt oder ein Fehler erkannt wird
- PE Pro unterstützt die Neustartfunktion bei Stromausfall. Der Ofen nimmt das Ofenheizprogramm wieder auf, wenn nach einem Stromausfall Strom anliegt
Technische Spezifikationen
| Ofenmodell | KT-PE12-60 |
| Max. Temperatur | 1200℃ |
| Konstante Arbeitstemperatur | 1100℃ |
| Ofenrohrmaterial | Hochreiner Quarz |
| Durchmesser des Ofenrohrs | 60mm |
| Länge der Heizzone | 1x450mm |
| Kammermaterial | Japanische Aluminiumoxidfaser |
| Heizkörper | Cr2Al2Mo2-Drahtspule |
| Erwärmungsrate | 0-20℃/min |
| Wärmepaar | Eingebaut im K-Typ |
| Temperaturregler | Digitaler PID-Regler/Touchscreen-PID-Regler |
| Genauigkeit der Temperaturregelung | ±1℃ |
| Gleitstrecke | 600mm |
| RF-Plasma-Einheit | |
| Ausgangsleistung | 5–500 W einstellbar mit ± 1 % Stabilität |
| HF-Frequenz | 13,56 MHz ±0,005 % Stabilität |
| Reflexionskraft | 350W max. |
| Passend | Automatisch |
| Lärm | <50 dB |
| Kühlung | Luftkühlung. |
| Gaspräzises Steuergerät | |
| Durchflussmesser | MFC-Massendurchflussmesser |
| Gaskanäle | 4 Kanäle |
| Fließrate | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearität | ±0,5 % FS |
| Wiederholbarkeit | ±0,2 % FS |
| Rohrleitung und Ventil | Edelstahl |
| Maximaler Betriebsdruck | 0,45 MPa |
| Durchflussmesser-Controller | Digitaler Knopf-Controller/Touchscreen-Controller |
| Standard-Vakuumeinheit (optional) | |
| Vakuumpumpe | Drehschieber-Vakuumpumpe |
| Fördermenge der Pumpe | 4L/S |
| Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
| Vakuummessgerät | Pirani/Resistance-Silizium-Vakuummeter |
| Nennvakuumdruck | 10Pa |
| Hochvakuumeinheit (optional) | |
| Vakuumpumpe | Drehschieberpumpe+Molekularpumpe |
| Fördermenge der Pumpe | 4L/S+110L/S |
| Vakuum-Sauganschluss | KF25 |
| Vakuummessgerät | Verbundvakuummeter |
| Nennvakuumdruck | 6x10-5Pa |
| Die oben genannten Spezifikationen und Setups können individuell angepasst werden | |
Standardpaket
| NEIN. | Beschreibung | Menge |
| 1 | Ofen | 1 |
| 2 | Quarzrohr | 1 |
| 3 | Vakuumflansch | 2 |
| 4 | Rohr-Thermoblock | 2 |
| 5 | Rohr-Thermoblockhaken | 1 |
| 6 | Hitzebeständiger Handschuh | 1 |
| 7 | RF-Plasmaquelle | 1 |
| 8 | Präzise Gassteuerung | 1 |
| 9 | Vakuumeinheit | 1 |
| 10 | Bedienungsanleitung | 1 |
Optionales Setup
- Erkennung und Überwachung von Rohrgasen wie H2, O2 usw
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485-Kommunikationsanschluss für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Fügen Sie Gase ein, die die Durchflussmenge steuern, z. B. Massendurchflussmesser und Schwebekörper-Durchflussmesser
- Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, bedienerfreundlichen Funktionen
- Hochvakuumpumpstationsaufbauten, wie Flügelzellenvakuumpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
Für Sie entworfen
KinTek bietet umfassenden, maßgeschneiderten Service und Ausrüstung für Kunden auf der ganzen Welt. Unsere spezialisierte Teamarbeit und unsere erfahrenen Ingenieure sind in der Lage, die kundenspezifischen Hardware- und Software-Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen und unseren Kunden beim Aufbau der exklusiven und personalisierten Ausrüstung und Lösung zu helfen!
Bitte senden Sie uns Ihre Ideen, unsere Ingenieure sind jetzt für Sie bereit!
FAQ
Was Ist Die PECVD-Methode?
Was Ist Mpcvd?
Wofür Wird PECVD Verwendet?
Was Ist Eine Mpcvd-Maschine?
Was Sind Die Vorteile Von PECVD?
Was Sind Die Vorteile Von Mpcvd?
Was Ist Der Unterschied Zwischen ALD Und PECVD?
Sind CVD-Diamanten Echt Oder Gefälscht?
Was Ist Der Unterschied Zwischen PECVD Und Sputtern?
4.9
out of
5
I'm amazed by the quick delivery and the quality of the product. It's a game-changer for our lab.
4.8
out of
5
The Slide PECVD tube furnace has exceeded our expectations. It's a valuable addition to our research facility.
4.7
out of
5
This PECVD machine is a lifesaver! It has helped us achieve remarkable results in our research.
4.9
out of
5
The durability of this product is exceptional. It has withstood rigorous use in our lab.
4.8
out of
5
The technological advancements in this PECVD system have revolutionized our research capabilities.
4.7
out of
5
I highly recommend this product. It's worth every penny and has enhanced our research efficiency.
4.9
out of
5
The Slide PECVD tube furnace is a fantastic investment. It has accelerated our research progress significantly.
4.8
out of
5
This PECVD system is user-friendly and has simplified our research procedures.
4.7
out of
5
The technical support provided by KINTEK SOLUTION is outstanding. They're always ready to assist us.
4.9
out of
5
The Slide PECVD tube furnace has revolutionized our research methodology. It's a must-have for any lab.
4.8
out of
5
This PECVD machine is a game-changer. It has enabled us to achieve groundbreaking results in our research.
PDF - Schiebe-PECVD-Rohrofen mit Flüssigvergaser-PECVD-Maschine
HerunterladenKatalog von Cvd- Und Pecvd-Ofen
HerunterladenKatalog von Pecvd-Maschine
HerunterladenKatalog von Mpcvd-Maschine
HerunterladenFordern Sie ein Angebot an
Unser professionelles Team wird Ihnen innerhalb eines Werktages antworten. Sie können uns gerne kontaktieren!
Ähnliche Produkte
Vom Kunden gefertigte, vielseitige CVD-Rohrofen-CVD-Maschine
Holen Sie sich Ihren exklusiven CVD-Ofen mit dem kundenspezifischen vielseitigen Ofen KT-CTF16. Anpassbare Schiebe-, Dreh- und Neigefunktionen für präzise Reaktionen. Jetzt bestellen!
RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung
RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.
Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum
Informieren Sie sich über die MPCVD-Maschine mit zylindrischem Resonator, das Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma, das für die Herstellung von Diamantsteinen und -filmen in der Schmuck- und Halbleiterindustrie verwendet wird. Entdecken Sie die kosteneffektiven Vorteile gegenüber den traditionellen HPHT-Methoden.
915MHz MPCVD-Diamant-Maschine und seine Multi-Kristall effektives Wachstum, die maximale Fläche kann 8 Zoll erreichen, die maximale effektive Wachstumsfläche von Einkristall kann 5 Zoll erreichen. Diese Ausrüstung wird hauptsächlich für die Produktion von großformatigen polykristallinen Diamantfilmen, das Wachstum von langen Einkristalldiamanten, das Niedertemperaturwachstum von hochwertigem Graphen und anderen Materialien verwendet, die Energie benötigen, die durch Mikrowellenplasma für das Wachstum bereitgestellt wird.
Erleben Sie eine effiziente und hochwertige 5-Liter-Kurzwegdestillation mit unserem langlebigen Borosilikatglas, dem schnell aufheizenden Mantel und der feinen Montagevorrichtung. Extrahieren und reinigen Sie Ihre gemischten Zielflüssigkeiten problemlos unter Hochvakuumbedingungen. Erfahren Sie jetzt mehr über seine Vorteile!
Entdecken Sie die Vorteile eines Vakuum-Heißpressofens! Stellen Sie dichte hochschmelzende Metalle und Verbindungen, Keramik und Verbundwerkstoffe unter hohen Temperaturen und Druck her.
Ofen mit Wasserstoffatmosphäre
KT-AH Wasserstoffatmosphärenofen – Induktionsgasofen zum Sintern/Glühen mit integrierten Sicherheitsfunktionen, Doppelmantelkonstruktion und energiesparender Effizienz. Ideal für den Einsatz im Labor und in der Industrie.
Automatische Hochtemperatur-Heißpressmaschine
Die Hochtemperatur-Heißpresse ist eine Maschine, die speziell für das Pressen, Sintern und Verarbeiten von Materialien in einer Hochtemperaturumgebung entwickelt wurde. Sie ist in der Lage, im Bereich von Hunderten bis Tausenden von Grad Celsius für eine Vielzahl von Hochtemperaturprozessanforderungen zu arbeiten.
0.5-1L Rotationsverdampfer für Extraktion, Molekularkochen, Gastronomie und Labor
Suchen Sie einen zuverlässigen und effizienten Rotationsverdampfer? Unser 0,5-1-Liter-Rotationsverdampfer nutzt eine konstante Temperaturerwärmung und Dünnschichtverdampfung, um eine Reihe von Vorgängen durchzuführen, einschließlich der Entfernung und Trennung von Lösungsmitteln. Mit hochwertigen Materialien und Sicherheitsmerkmalen eignet es sich perfekt für Labore in der pharmazeutischen, chemischen und biologischen Industrie.
Manuelle Hochtemperatur-Heizpresse
Die Hochtemperatur-Heißpresse ist eine Maschine, die speziell für das Pressen, Sintern und Verarbeiten von Materialien in einer Hochtemperaturumgebung entwickelt wurde. Sie ist in der Lage, im Bereich von Hunderten bis Tausenden von Grad Celsius für eine Vielzahl von Hochtemperaturprozessanforderungen zu arbeiten.
Vakuum-Drucksinteröfen sind für Hochtemperatur-Heißpressanwendungen beim Sintern von Metall und Keramik konzipiert. Seine fortschrittlichen Funktionen gewährleisten eine präzise Temperaturregelung, zuverlässige Druckhaltung und ein robustes Design für einen reibungslosen Betrieb.
Wasserstoffperoxid-Weltraumsterilisator
Ein Wasserstoffperoxid-Raumsterilisator ist ein Gerät, das verdampftes Wasserstoffperoxid zur Dekontamination geschlossener Räume verwendet. Es tötet Mikroorganismen ab, indem es deren Zellbestandteile und genetisches Material schädigt.
Spark-Plasma-Sinterofen SPS-Ofen
Entdecken Sie die Vorteile von Spark-Plasma-Sinteröfen für die schnelle Materialvorbereitung bei niedrigen Temperaturen. Gleichmäßige Erwärmung, niedrige Kosten und umweltfreundlich.
1200℃ Ofen mit kontrollierter Atmosphäre
Entdecken Sie unseren KT-12A Pro Ofen mit kontrollierter Atmosphäre - hochpräzise, hochbelastbare Vakuumkammer, vielseitiger intelligenter Touchscreen-Controller und hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit bis zu 1200°C. Ideal für Labor- und Industrieanwendungen.
Nicht verbrauchbarer Vakuum-Lichtbogenofen. Induktionsschmelzofen
Entdecken Sie die Vorteile eines nicht verbrauchbaren Vakuum-Lichtbogenofens mit Elektroden mit hohem Schmelzpunkt. Klein, einfach zu bedienen und umweltfreundlich. Ideal für die Laborforschung zu hochschmelzenden Metallen und Karbiden.
Extrahieren und reinigen Sie gemischte Flüssigkeiten ganz einfach mit unserem 10-Liter-Kurzwegdestillationssystem. Hochvakuum und Niedertemperaturheizung für optimale Ergebnisse.
Mit unserem 2-Liter-Kurzwegdestillationskit können Sie ganz einfach extrahieren und reinigen. Unsere robusten Borosilikatglasgeräte, der schnelle Heizmantel und die empfindliche Montagevorrichtung sorgen für eine effiziente und qualitativ hochwertige Destillation. Entdecken Sie noch heute die Vorteile!
0.5-4L Rotationsverdampfer für Extraktion, Molekularkochen, Gastronomie und Labor
Trennen Sie „niedrig siedende“ Lösungsmittel effizient mit einem 0,5–4-Liter-Rotationsverdampfer. Entwickelt mit hochwertigen Materialien, Telfon+Viton-Vakuumdichtung und PTFE-Ventilen für einen kontaminationsfreien Betrieb.
Ähnliche Artikel
Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD): Ein umfassender Leitfaden
Erfahren Sie alles, was Sie über die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) wissen müssen, eine in der Halbleiterindustrie verwendete Technik zur Abscheidung dünner Schichten. Erforschen Sie die Prinzipien, Anwendungen und Vorteile dieser Technik.
PECVD verstehen: Ein Leitfaden zur plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung
PECVD ist eine nützliche Technik zur Herstellung dünner Filmbeschichtungen, da sie die Abscheidung einer Vielzahl von Materialien, einschließlich Oxiden, Nitriden und Karbiden, ermöglicht.
PECVD-Ofen Eine Lösung mit geringem Stromverbrauch und niedriger Temperatur für weiche Materie
PECVD-Öfen (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) haben sich zu einer beliebten Lösung für die Abscheidung dünner Filme auf Oberflächen weicher Materie entwickelt.
Vorteile der Verwendung eines CVD-Rohrofens zur Beschichtung
CVD-Beschichtungen haben gegenüber anderen Beschichtungsmethoden mehrere Vorteile, wie z. B. hohe Reinheit, Dichte und Gleichmäßigkeit, was sie ideal für viele Anwendungen in verschiedenen Branchen macht.
Eine Schritt-für-Schritt-Anleitung zum PECVD-Prozess
PECVD ist eine Art chemisches Gasphasenabscheidungsverfahren, bei dem Plasma verwendet wird, um die chemischen Reaktionen zwischen den Gasphasenvorläufern und dem Substrat zu verstärken.
Die Rolle von Plasma in PECVD-Beschichtungen
PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) ist eine Art Dünnschichtabscheidungsverfahren, das häufig zur Herstellung von Beschichtungen auf verschiedenen Substraten eingesetzt wird. Bei diesem Verfahren werden mithilfe eines Plasmas dünne Filme aus verschiedenen Materialien auf einem Substrat abgeschieden.
Ein umfassender Leitfaden zur Wartung von PECVD-Geräten
Die ordnungsgemäße Wartung von PECVD-Geräten ist entscheidend, um deren optimale Leistung, Langlebigkeit und Sicherheit zu gewährleisten.
Vergleich der Leistung von PECVD und HPCVD in Beschichtungsanwendungen
Obwohl sowohl PECVD als auch HFCVD für Beschichtungsanwendungen verwendet werden, unterscheiden sie sich hinsichtlich der Abscheidungsmethoden, der Leistung und der Eignung für bestimmte Anwendungen.
Die PECVD-Methode verstehen
PECVD ist ein plasmaunterstütztes chemisches Gasphasenabscheidungsverfahren, das häufig bei der Herstellung dünner Schichten für verschiedene Anwendungen eingesetzt wird.
Ein umfassender Leitfaden für Spaltrohröfen: Anwendungen, Funktionen
Es stimmt, dass es sich bei einem Spaltrohrofen um eine Art Laborgerät handelt, das aus einem Hohlrohr oder einer Kammer besteht, die geöffnet werden kann, um das Einsetzen und Entfernen von Proben oder zu erhitzenden Materialien zu ermöglichen.
Warum PECVD für die Herstellung mikroelektronischer Geräte unerlässlich ist
PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition) ist eine beliebte Technik zur Dünnschichtabscheidung, die bei der Herstellung mikroelektronischer Geräte eingesetzt wird.
Ein Leitfaden für Einsteiger zu MPCVD-Maschinen
MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition) ist ein Verfahren zur Abscheidung dünner Materialfilme auf einem Substrat mithilfe von durch Mikrowellen erzeugtem Plasma.