Deposition ist ein Prozess, bei dem sich ein Gas direkt in einen Feststoff umwandelt und die flüssige Phase überspringt.
Dieser Prozess wird als das Gegenteil der Sublimation angesehen, bei der ein Feststoff direkt in ein Gas umgewandelt wird, ohne vorher flüssig zu werden.
5 wichtige Punkte, die zu verstehen sind
1. Abscheidungstechniken
Es gibt zwei Hauptkategorien von Abscheidungsverfahren: physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) und chemische Gasphasenabscheidung (CVD).
2. Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
Beim PVD-Verfahren besteht der Dampf aus Atomen und Molekülen, die auf dem Substrat kondensieren und einen dünnen Film bilden.
Dies kann durch Verfahren wie die Vakuumverdampfung erreicht werden, bei der ein festes Material in Dampf umgewandelt und dann auf dem Substrat kondensiert wird.
3. Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) kommt es zu einer chemischen Reaktion des Dampfes auf dem Substrat, die zur Bildung einer dünnen Schicht führt.
Bei diesem Verfahren muss das Substrat häufig eine erhöhte Temperatur aufweisen.
Zur Unterstützung des Prozesses kann auch Plasma eingesetzt werden, was eine niedrigere Substrattemperatur ermöglicht.
Beispiele für CVD-Verfahren sind die metallorganische Gasphasenepitaxie, Pyrolyse, Reduktion, Oxidation, Bildung von Verbindungen, Disproportionierung und reversibler Transfer.
4. Variationen bei den Abscheidungsmethoden
Die Abscheidungsmethoden können je nach der gewünschten Dicke der abgeschiedenen Schicht und den spezifischen Materialien variieren.
Die Dünnschichtabscheidung, bei der einzelne Atome oder Moleküle auf der Oberfläche abgeschieden werden, wird in der Regel für Schichten mit einer Dicke von weniger als einem Mikrometer verwendet.
Bei der Dickschichtabscheidung handelt es sich um die Abscheidung von Partikeln und in der Regel um dickere Schichten.
5. Zusammenfassung der Abscheidung
Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die Abscheidung ein Prozess ist, bei dem sich ein Gas direkt in einen Feststoff verwandelt.
Dies kann durch physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD) oder chemische Abscheidung aus der Gasphase (CVD) geschehen, je nachdem, ob der Prozess hauptsächlich durch physikalische oder chemische Umwandlungen angetrieben wird.
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