Es gibt zwei Arten von PVD (Physical Vapor Deposition): okklusiv und funktional.
Bei der okklusiven PVD wird eine sehr dünne Materialschicht durch physikalische Gasphasenabscheidung erzeugt. Es handelt sich dabei um eine breit angelegte Technik, die verschiedene spezifische Techniken umfasst. Das Ziel der okklusiven PVD ist es, eine Barriere oder Versiegelung auf der Oberfläche eines Materials zu schaffen. Diese Art der PVD-Beschichtung wird üblicherweise für Anwendungen verwendet, bei denen Korrosionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit oder chemische Beständigkeit erforderlich sind.
Bei der funktionellen PVD hingegen wird ebenfalls eine dünne Materialschicht durch physikalische Gasphasenabscheidung erzeugt. Der Zweck der funktionellen PVD ist jedoch die Verbesserung der Funktionalität oder Leistung des Materials. Dazu kann die Verbesserung der Härte, der Schmierfähigkeit oder der optischen Eigenschaften gehören. Funktionelle PVD-Beschichtungen werden häufig in Branchen wie der Automobilindustrie, der Luft- und Raumfahrt und der Elektronik eingesetzt.
Es ist wichtig zu wissen, dass PVD und CVD (Chemical Vapor Deposition) zwei unterschiedliche Verfahren zum Aufbringen von Schichten auf die Oberfläche eines Materials sind. PVD basiert auf der physikalischen Gasphasenabscheidung, während CVD auf der chemischen Gasphasenabscheidung beruht. Die Materialien, die mit diesen Verfahren abgeschieden werden können, die Bedingungen, unter denen sie angewendet werden, und die Eigenschaften der erzeugten Beschichtungen können unterschiedlich sein.
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