Die physikalische Gasphasenabscheidung (Physical Vapor Deposition, PVD) ist ein wichtiges Verfahren in verschiedenen Industriezweigen und bietet zwei Haupttypen: okklusiv und funktional.
Was sind die zwei Arten von PVD? (Erklärt in 4 Schlüsselpunkten)
1. Okklusives PVD
Beim okklusiven PVD wird eine sehr dünne Materialschicht durch physikalische Gasphasenabscheidung erzeugt.
Diese Technik ist breit gefächert und umfasst verschiedene spezifische Methoden.
Das Hauptziel der okklusiven PVD ist die Schaffung einer Barriere oder Versiegelung auf der Oberfläche eines Materials.
Diese Art der PVD-Beschichtung wird üblicherweise für Anwendungen verwendet, die Korrosionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit oder chemische Beständigkeit erfordern.
2. Funktionelles PVD
Bei der funktionellen PVD wird ebenfalls eine dünne Materialschicht durch physikalische Gasphasenabscheidung erzeugt.
Der Zweck des funktionellen PVD besteht jedoch darin, die Funktionalität oder Leistung des Materials zu verbessern.
Dazu kann die Verbesserung der Härte, der Schmierfähigkeit oder der optischen Eigenschaften gehören.
Funktionelle PVD-Beschichtungen werden häufig in Branchen wie der Automobilindustrie, der Luft- und Raumfahrt und der Elektronik eingesetzt.
3. PVD vs. CVD
Es ist wichtig zu wissen, dass PVD und CVD (Chemical Vapor Deposition) zwei unterschiedliche Methoden sind, um Beschichtungen auf die Oberfläche eines Materials aufzubringen.
PVD basiert auf der physikalischen Gasphasenabscheidung, während CVD auf der chemischen Gasphasenabscheidung beruht.
Die Materialien, die abgeschieden werden können, die Bedingungen, unter denen sie angewendet werden, und die Eigenschaften der Beschichtungen, die sie erzeugen, können unterschiedlich sein.
4. Anwendungen und Vorteile
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