Die chemische Badabscheidung ist auch bekannt alsCBD (Chemical Bath Deposition) oder manchmal auch bezeichnet alsChemische Lösungsabscheidung (CSD).
Bei dieser Methode wird ein Substrat in eine chemische Lösung getaucht, in der sich durch chemische Reaktionen in der Lösung eine dünne Schicht abscheidet.
CBD zeichnet sich durch seine Einfachheit und Kosteneffizienz aus, da es keine teuren Vakuumsysteme oder hohe Temperaturen erfordert.
Bei diesem Verfahren wird das Substrat in ein Bad getaucht, das Vorläuferstoffe enthält, die reagieren, um die gewünschte Schicht auf der Substratoberfläche zu bilden.
Diese Methode eignet sich besonders für die Abscheidung dünner Schichten von Materialien, die mit physikalischen Methoden nur schwer zu erreichen sind, da sie komplexe Formen gleichmäßig beschichten kann.
Chemische Lösungsabscheidung (CSD)ähnelt zwar dem CBD-Verfahren, umfasst jedoch in der Regel die Verwendung eines organischen Lösungsmittels und metallorganischer Pulver, die in dem Lösungsmittel gelöst oder suspendiert werden.
Das Substrat wird dann in diese Lösung getaucht, und durch chemische Reaktionen wird ein dünner Film abgeschieden.
CSD wird oft mit der Galvanotechnik verglichen, ist aber im Allgemeinen einfacher und kostengünstiger und bietet vergleichbare Ergebnisse in Bezug auf Schichtqualität und Gleichmäßigkeit.
Sowohl CBD als auch CSD sind Teil der umfassenderen Kategorie derChemischen Abscheidungsverfahrendie im Gegensatz zu denPhysikalischen Abscheideverfahren wie Verdampfung und Sputtern.
Chemische Beschichtungsverfahren werden wegen ihrer geringeren Kosten und ihrer einfachen Anwendung bevorzugt, insbesondere bei Anwendungen, die einen hohen Durchsatz und eine gleichmäßige Beschichtung erfordern.
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