Die am weitesten verbreitete Methode zur Befestigung von Proben, insbesondere für die Elektronenmikroskopie, ist das Gleichstrom-Magnetron-Sputtern. Diese Methode wird bevorzugt, weil sie schnell und kostengünstig ist und sich auch für empfindliche Proben eignet, da nur wenig Wärme auf die Probe einwirkt.
Gleichstrom-Magnetron-Sputtering:
Bei diesem Verfahren wird ein Magnetron verwendet, um ein Plasma zu erzeugen, das Metall oder Kohlenstoff auf die Probe aufspritzt. Das Verfahren findet in einer Vakuumkammer statt, in der ein Zielmaterial (in der Regel Gold, Platin oder eine Gold-Palladium-Legierung) mit hochenergetischen Teilchen beschossen wird, wodurch Atome herausgeschleudert werden und sich auf der Probe ablagern. Diese Beschichtung verleiht der Probe Leitfähigkeit, was für die Elektronenmikroskopie von entscheidender Bedeutung ist, da sie Aufladung verhindert und die Qualität der Bilder verbessert.
- Vorteile des Gleichstrom-Magnetron-Sputterns:Minimale Wärmezufuhr:
- Im Gegensatz zu anderen Verfahren, die die Probe stark erhitzen können, wird beim Magnetronsputtern nur minimale Wärme zugeführt, so dass es sich für empfindliche und hitzeempfindliche Proben eignet.Gleichmäßige Beschichtung:
- Das Verfahren liefert eine sehr gleichmäßige Beschichtung, die für hochauflösende Bilder in der Elektronenmikroskopie unerlässlich ist.Vielseitigkeit:
Das Verfahren kann auf einer Vielzahl von Materialien eingesetzt werden, auch auf nicht leitenden Materialien wie Keramik und Polymeren.Andere Beschichtungsmethoden:
Das Gleichstrom-Magnetron-Sputtern ist zwar die gängigste Methode, doch werden auch andere Verfahren wie Kohlenstoff- oder Metallverdampfung, Niederwinkelabschattung, Elektronenstrahlverdampfung und Ionenstrahlsputtern eingesetzt. Diese Verfahren können jedoch teurer sein oder erfordern eine anspruchsvollere Ausrüstung.
Die Bedeutung der Beschichtung in der Elektronenmikroskopie:
