![Hochreines Vanadiumoxid (V2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/246/1e43baf8d392bb0301d016507bd96cd7.jpg)
Labormaterialien
Hochreines Vanadiumoxid (V2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-V2O3
Preis variiert je nach specs and customizations
- Chemische Formel
- V2O3
- Reinheit
- 4N
- Form
![ISO & CE icon](https://image.kindle-tech.com/images/settings/88c5b6b35f5516e5b3502703a528d94f.png)
Versand:
Kontaktieren Sie uns um Versanddetails zu erhalten. Genießen Sie On-time Dispatch Guarantee.
Fordern Sie Ihr individuelles Angebot an 👋
Holen Sie sich jetzt Ihr Angebot! Leave a Message Schnell Angebot einholen Via WhatsappZu angemessenen Preisen bieten wir Vanadiumoxid (V2O3)-Materialien für den Laborgebrauch an. Unsere Expertise liegt in der Herstellung und kundenspezifischen Anpassung von Vanadiumoxid (V2O3)-Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden.
Wir bieten eine vielfältige Auswahl an Spezifikationen und Größen für verschiedene Arten von Sputtertargets (rund, quadratisch, röhrenförmig, unregelmäßig), Beschichtungsmaterialien, Zylinder, Kegel, Partikel, Folien, Pulver, 3D-Druckpulver, Nanometerpulver, Walzdrähte, Barren, und Blöcke, unter anderem.
Einzelheiten
![Vanadiumoxid (V2O3) Sputtertarget](https://image.kindle-tech.com/images/products/246/a630d3a81ab3adec88afb7a4d97e31d7.webp)
Über Vanadiumoxid (V2O3)
Vanadium(III)-oxid (Vanadiumsesquioxid) ist eine Form von Vanadiumoxid, die für verschiedene Anwendungen in Glas, Optik und Keramik geeignet ist. Während Oxidverbindungen im Allgemeinen nicht elektrisch leitend sind, sind bestimmte Oxide mit Perowskitstruktur elektronisch leitfähig und werden in der Kathode von Festoxid-Brennstoffzellen und Sauerstofferzeugungssystemen verwendet.
Oxidverbindungen enthalten typischerweise mindestens ein Sauerstoffanion und ein Metallkation. Sie sind in wässrigen Lösungen unlöslich und äußerst stabil, was sie für eine Reihe von Anwendungen nützlich macht, von der Herstellung von Tonschalen bis hin zu fortschrittlicher Elektronik und leichten Strukturkomponenten in der Luft- und Raumfahrt sowie elektrochemischen Systemen wie Brennstoffzellen, in denen sie ionische Leitfähigkeit aufweisen.
Metalloxidverbindungen sind basische Anhydride und können in Redoxreaktionen mit Säuren und starken Reduktionsmitteln reagieren. Vanadiumoxid ist im Allgemeinen in den meisten Mengen verfügbar, aber auch hochreine, Submikron- und Nanopulverformen können in Betracht gezogen werden.
Qualitätskontrolle der Inhaltsstoffe
- Analyse der Rohstoffzusammensetzung
- Durch den Einsatz von Geräten wie ICP und GDMS wird der Gehalt an Metallverunreinigungen erfasst und analysiert, um sicherzustellen, dass er dem Reinheitsstandard entspricht;
Nichtmetallische Verunreinigungen werden mit Geräten wie Kohlenstoff- und Schwefelanalysatoren sowie Stickstoff- und Sauerstoffanalysatoren erkannt. - Metallografische Fehlererkennungsanalyse
- Das Zielmaterial wird mithilfe von Fehlererkennungsgeräten überprüft, um sicherzustellen, dass im Produkt keine Mängel oder Schrumpfungslöcher vorhanden sind.
Durch metallografische Tests wird die innere Kornstruktur des Zielmaterials analysiert, um sicherzustellen, dass die Körner fein und dicht sind. - Aussehens- und Maßprüfung
- Die Produktabmessungen werden mithilfe von Mikrometern und Präzisionsmessschiebern gemessen, um die Übereinstimmung mit den Zeichnungen sicherzustellen.
Die Oberflächenbeschaffenheit und Sauberkeit des Produkts werden mit einem Oberflächenreinheitsmessgerät gemessen.
Konventionelle Sputtertargetgrößen
- Vorbereitungsprozess
- heißisostatisches Pressen, Vakuumschmelzen usw.
- Sputtertargetform
- flaches Sputtertarget, Multi-Arc-Sputtertarget, Stufen-Sputtertarget, speziell geformtes Sputtertarget
- Runde Sputtertargetgröße
- Durchmesser: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Dicke: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Größe kann individuell angepasst werden. - Quadratische Sputtertargetgröße
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, Größe kann individuell angepasst werden
Verfügbare Metallformen
Details zu Metallformen
Wir stellen fast alle im Periodensystem aufgeführten Metalle in den unterschiedlichsten Formen und Reinheiten sowie in Standardgrößen und -abmessungen her. Wir können auch maßgeschneiderte Produkte herstellen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen, wie z. B. Größe, Form, Oberfläche, Zusammensetzung und mehr. Die folgende Liste stellt eine Auswahl der von uns angebotenen Formulare dar, erhebt jedoch keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Wenn Sie Laborverbrauchsmaterialien benötigen, wenden Sie sich bitte direkt an uns, um ein Angebot anzufordern.
- Flache/planare Formen: Karton, Film, Folie, Mikrofolie, Mikroblatt, Papier, Platte, Band, Bogen, Streifen, Band, Wafer
- Vorgeformte Formen: Anoden, Kugeln, Bänder, Stäbe, Boote, Bolzen, Briketts, Kathoden, Kreise, Spulen, Tiegel, Kristalle, Würfel, Tassen, Zylinder, Scheiben, Elektroden, Fasern, Filamente, Flansche, Gitter, Linsen, Dorne, Muttern , Teile, Prismen, Pucks, Ringe, Stäbe, Formen, Schilde, Hülsen, Federn, Quadrate, Sputtertargets, Stäbe, Rohre, Unterlegscheiben, Fenster, Drähte
- Mikrogrößen: Perlen, Bits, Kapseln, Chips, Münzen, Staub, Flocken, Körner, Granulat, Mikropulver, Nadeln, Partikel, Kieselsteine, Pellets, Stifte, Pillen, Pulver, Späne, Schrot, Schnecken, Kugeln, Tabletten
- Makrogrößen: Knüppel, Brocken, Stecklinge, Fragmente, Barren, Klumpen, Nuggets, Stücke, Stanzteile, Steine, Reste, Segmente, Drehspäne
- Porös und halbporös: Stoff, Schaum, Gaze, Wabe, Netz, Schwamm, Wolle
- Nanoskalig: Nanopartikel, Nanopulver, Nanofolien, Nanoröhren, Nanostäbe, Nanoprismen
- Andere: Konzentrat, Tinte, Paste, Niederschlag, Rückstände, Proben, Proben
KinTek ist auf die Herstellung hochreiner und ultrahochreiner Materialien mit einem Reinheitsbereich von 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) und in einigen Fällen bis zu 99,99999 % (7N) spezialisiert ). Unsere Materialien sind in bestimmten Qualitäten erhältlich, darunter UP/UHP-, Halbleiter-, Elektronik-, Abscheidungs-, Glasfaser- und MBE-Qualitäten. Unsere hochreinen Metalle, Oxide und Verbindungen werden speziell für die hohen Anforderungen hochtechnologischer Anwendungen hergestellt und eignen sich ideal für den Einsatz als Dotierstoffe und Vorläufermaterialien für die Dünnschichtabscheidung, das Kristallwachstum von Halbleitern und die Synthese von Nanomaterialien. Diese Materialien finden Verwendung in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Solarzellen, Brennstoffzellen, optischen Materialien und anderen hochmodernen Anwendungen.
Verpackung
Wir verwenden Vakuumverpackungen für unsere hochreinen Materialien und jedes Material verfügt über eine spezifische Verpackung, die auf seine einzigartigen Eigenschaften zugeschnitten ist. Beispielsweise ist unser HF-Sputtertarget extern markiert und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu ermöglichen. Wir legen großen Wert darauf, Schäden zu vermeiden, die bei der Lagerung oder dem Transport entstehen könnten.
FAQ
Was ist physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)?
Was ist ein Sputtertarget?
Was sind hochreine Materialien?
Was ist Magnetronsputtern?
Wie werden Sputtertargets hergestellt?
Warum Magnetronsputtern?
Wofür wird ein Sputtertarget verwendet?
Welche Materialien werden bei der Dünnschichtabscheidung verwendet?
Bei der Dünnschichtabscheidung werden üblicherweise Metalle, Oxide und Verbindungen als Materialien verwendet, von denen jedes seine eigenen Vor- und Nachteile hat. Metalle werden aufgrund ihrer Haltbarkeit und einfachen Abscheidung bevorzugt, sind jedoch relativ teuer. Oxide sind sehr langlebig, halten hohen Temperaturen stand und können bei niedrigen Temperaturen abgeschieden werden, können jedoch spröde und schwierig zu verarbeiten sein. Verbindungen bieten Festigkeit und Haltbarkeit, können bei niedrigen Temperaturen aufgetragen und auf bestimmte Eigenschaften zugeschnitten werden.
Die Auswahl des Materials für eine Dünnfilmbeschichtung hängt von den Anwendungsanforderungen ab. Metalle sind ideal für die thermische und elektrische Leitung, während Oxide einen wirksamen Schutz bieten. Die Verbindungen können individuell auf die jeweiligen Anforderungen zugeschnitten werden. Letztendlich hängt das beste Material für ein bestimmtes Projekt von den spezifischen Anforderungen der Anwendung ab.
Was sind Sputtertargets für die Elektronik?
Welche Methoden gibt es, um eine optimale Dünnschichtabscheidung zu erreichen?
Um dünne Filme mit den gewünschten Eigenschaften zu erzielen, sind hochwertige Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien unerlässlich. Die Qualität dieser Materialien kann durch verschiedene Faktoren wie Reinheit, Korngröße und Oberflächenbeschaffenheit beeinflusst werden.
Die Reinheit von Sputtertargets oder Verdampfungsmaterialien spielt eine entscheidende Rolle, da Verunreinigungen zu Defekten im resultierenden Dünnfilm führen können. Auch die Korngröße beeinflusst die Qualität des dünnen Films, wobei größere Körner zu schlechten Filmeigenschaften führen. Darüber hinaus ist die Oberflächenbeschaffenheit von entscheidender Bedeutung, da raue Oberflächen zu Defekten in der Folie führen können.
Um Sputtertargets und Verdampfungsmaterialien von höchster Qualität zu erhalten, ist es entscheidend, Materialien auszuwählen, die eine hohe Reinheit, kleine Korngröße und glatte Oberflächen aufweisen.
Verwendungsmöglichkeiten der Dünnschichtabscheidung
Dünnfilme auf Zinkoxidbasis
ZnO-Dünnfilme finden in verschiedenen Branchen Anwendung, beispielsweise in der thermischen, optischen, magnetischen und elektrischen Industrie. Ihre Hauptanwendung liegt jedoch in Beschichtungen und Halbleiterbauelementen.
Dünnschichtwiderstände
Dünnschichtwiderstände sind für die moderne Technologie von entscheidender Bedeutung und werden in Funkempfängern, Leiterplatten, Computern, Hochfrequenzgeräten, Monitoren, WLAN-Routern, Bluetooth-Modulen und Mobiltelefonempfängern verwendet.
Magnetische Dünnfilme
Magnetische Dünnfilme werden in der Elektronik, Datenspeicherung, Radiofrequenzidentifikation, Mikrowellengeräten, Displays, Leiterplatten und Optoelektronik als Schlüsselkomponenten eingesetzt.
Optische Dünnfilme
Optische Beschichtungen und Optoelektronik sind Standardanwendungen optischer Dünnschichten. Durch Molekularstrahlepitaxie können optoelektronische Dünnschichtbauelemente (Halbleiter) hergestellt werden, bei denen epitaktische Filme Atom für Atom auf dem Substrat abgeschieden werden.
Polymer-Dünnfilme
Polymerdünnfilme werden in Speicherchips, Solarzellen und elektronischen Geräten verwendet. Chemische Abscheidungstechniken (CVD) ermöglichen eine präzise Kontrolle von Polymerfilmbeschichtungen, einschließlich Konformität und Beschichtungsdicke.
Dünnschichtbatterien
Dünnschichtbatterien versorgen elektronische Geräte wie implantierbare medizinische Geräte mit Strom, und die Lithium-Ionen-Batterie hat dank der Verwendung dünner Schichten erhebliche Fortschritte gemacht.
Dünnschichtbeschichtungen
Dünnschichtbeschichtungen verbessern die chemischen und mechanischen Eigenschaften von Zielmaterialien in verschiedenen Industrien und Technologiebereichen. Gängige Beispiele sind Antireflexbeschichtungen, Anti-Ultraviolett- oder Anti-Infrarot-Beschichtungen, Anti-Kratz-Beschichtungen und Linsenpolarisation.
Dünnschichtsolarzellen
Dünnschichtsolarzellen sind für die Solarenergieindustrie unverzichtbar und ermöglichen die Produktion relativ günstiger und sauberer Elektrizität. Photovoltaikanlagen und Wärmeenergie sind die beiden wichtigsten anwendbaren Technologien.
Wie hoch ist die Lebensdauer eines Sputtertargets?
Faktoren und Parameter, die die Abscheidung dünner Schichten beeinflussen
Abscheidungsrate:
Die Geschwindigkeit, mit der die Folie produziert wird, typischerweise gemessen in Dicke dividiert durch Zeit, ist entscheidend für die Auswahl einer für die Anwendung geeigneten Technologie. Für dünne Filme genügen mäßige Abscheideraten, für dicke Filme sind schnelle Abscheideraten erforderlich. Es ist wichtig, ein Gleichgewicht zwischen Geschwindigkeit und präziser Filmdickensteuerung zu finden.
Gleichmäßigkeit:
Die Konsistenz des Films über das Substrat wird als Gleichmäßigkeit bezeichnet, die sich normalerweise auf die Filmdicke bezieht, sich aber auch auf andere Eigenschaften wie den Brechungsindex beziehen kann. Es ist wichtig, die Anwendung gut zu verstehen, um eine Unter- oder Überspezifikation der Einheitlichkeit zu vermeiden.
Füllfähigkeit:
Die Füllfähigkeit oder Stufenabdeckung bezieht sich darauf, wie gut der Abscheidungsprozess die Topographie des Substrats abdeckt. Die verwendete Abscheidungsmethode (z. B. CVD, PVD, IBD oder ALD) hat einen erheblichen Einfluss auf die Stufenabdeckung und -füllung.
Filmeigenschaften:
Die Eigenschaften des Films hängen von den Anforderungen der Anwendung ab, die in photonische, optische, elektronische, mechanische oder chemische Anforderungen eingeteilt werden können. Die meisten Filme müssen Anforderungen in mehr als einer Kategorie erfüllen.
Prozesstemperatur:
Die Filmeigenschaften werden erheblich von der Prozesstemperatur beeinflusst, die durch die Anwendung eingeschränkt sein kann.
Schaden:
Jede Abscheidungstechnologie birgt das Potenzial, das Material, auf dem sie abgeschieden wird, zu beschädigen, wobei kleinere Strukturen anfälliger für Prozessschäden sind. Zu den potenziellen Schadensquellen zählen Umweltverschmutzung, UV-Strahlung und Ionenbeschuss. Es ist wichtig, die Grenzen der Materialien und Werkzeuge zu verstehen.
4.9
out of
5
KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is a lifesaver. It's so pure and consistent that it's made our thin film deposition process so much easier.
4.8
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for years, and they've never let me down. The quality is always top-notch, and the prices are unbeatable.
4.7
out of
5
KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is the best I've ever used. It's so easy to work with, and the results are always amazing.
4.9
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.8
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.7
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.9
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
4.8
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.7
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.9
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.8
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
4.7
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.9
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.8
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.7
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
4.9
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.8
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.7
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.9
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
PDF of LM-V2O3
HerunterladenKatalog von Labormaterialien
HerunterladenKatalog von Sputtertargets
HerunterladenKatalog von Hochreine Materialien
HerunterladenKatalog von Dünnschichtabscheidungsmaterialien
HerunterladenFordern Sie ein Angebot an
Unser professionelles Team wird Ihnen innerhalb eines Werktages antworten. Sie können uns gerne kontaktieren!
Ähnliche Produkte
![Hochreines Vanadium (V)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/211/42d6ef5ca7f9d3ea1e1086317f6ca8fb-small.jpg)
Hochreines Vanadium (V)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Vanadium (V)-Materialien für Ihr Labor? Wir bieten eine breite Palette anpassbarer Optionen an, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden, darunter Sputtertargets, Pulver und mehr. Kontaktieren Sie uns noch heute für wettbewerbsfähige Preise.
![Hochreines Wolframoxid (WO3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/235/c02166c7d5abfeab8889f2ef20247048-small.jpg)
Hochreines Wolframoxid (WO3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Wolframoxid (WO3)-Materialien? Unsere Produkte in Laborqualität sind auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten und stehen in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen zur Verfügung. Kaufen Sie Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien und mehr.
![Hochreines Chromoxid (Cr2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/244/527ce41e0bcdad7e541e06bff7d6950e-small.jpg)
Hochreines Chromoxid (Cr2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Chromoxidmaterialien für Ihr Labor? Unser Sortiment umfasst Sputtertargets, Pulver, Folien und mehr, maßgeschneidert auf Ihre Bedürfnisse. Kaufen Sie jetzt zu günstigen Preisen.
![Hochreines Yttriumoxid (Y2O3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/247/e29737593ec726c93d1784be5bfbab40-small.jpg)
Hochreines Yttriumoxid (Y2O3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Erhalten Sie hochwertige Yttriumoxid (Y2O3)-Materialien, die auf Ihre individuellen Laboranforderungen zugeschnitten sind. Unser Sortiment umfasst Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr zu angemessenen Preisen.
![Hochreines Molybdänoxid (MoO3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/238/1178fe053151a798b4721b853bfb0959-small.jpg)
Hochreines Molybdänoxid (MoO3) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Molybdänoxid (MoO3)-Materialien für Ihren Laborbedarf? Unser Unternehmen bietet maßgeschneiderte Lösungen zu angemessenen Preisen. Wir bieten eine große Auswahl an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr. Kontaktiere uns heute!
![Hochreines Tantaloxid (Ta2O5) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/237/2ee56e2ec652bfd61376490df478ac24-small.jpg)
Hochreines Tantaloxid (Ta2O5) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Finden Sie hochwertige Tantaloxid-Materialien (Ta2O5) für Ihren Laborbedarf zu erschwinglichen Preisen. Unsere Experten können Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe an Ihre spezifischen Anforderungen anpassen. Schauen Sie sich unser Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr an.
![Hochreines Zinkoxid (ZnO) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/241/2c3440b6dd1b83937422f025ea44efe7-small.jpg)
Hochreines Zinkoxid (ZnO) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Finden Sie hochwertige Zinkoxidmaterialien (ZnO) für Ihren Laborbedarf zu günstigen Preisen. Unser Expertenteam produziert maßgeschneiderte Materialien in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen, darunter Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr. Jetzt einkaufen!
![Hochreines Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/240/c77c17462a8e94628e9a90ab803280ad-small.jpg)
Hochreines Aluminiumoxid (Al2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach Aluminiumoxidmaterialien für Ihr Labor? Wir bieten hochwertige Al2O3-Produkte zu erschwinglichen Preisen mit anpassbaren Formen und Größen, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden. Finden Sie Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr.
![Hochreines Neodymoxid (Nd2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/253/fd9e20ab6f7c987a71696300b19dd641-small.jpg)
Hochreines Neodymoxid (Nd2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Kaufen Sie hochwertige Neodymoxid-Materialien für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Produkte sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Sputtertargets, Pulvern und mehr.
![Hochreines Eisenoxid (Fe3O4) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/254/add200f8210d9406323b95bd88818dae-small.jpg)
Hochreines Eisenoxid (Fe3O4) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Erhalten Sie Eisenoxidmaterialien (Fe3O4) in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen für den Laborgebrauch. Unser Sortiment umfasst Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver, Walzdrähte und mehr. Kontaktiere uns jetzt.
![Hochreines Wismutoxid (Bi2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/243/a700d5a419098f4acbb8c7eff12094eb-small.jpg)
Hochreines Wismutoxid (Bi2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Erhalten Sie hochwertige Wismutoxid-Materialien (Bi2O3) für den Laborgebrauch zu angemessenen Preisen. Wählen Sie aus einer großen Auswahl an Größen und Formen, um Ihren individuellen Bedürfnissen gerecht zu werden. Jetzt bestellen!
![CVD-bordotierter Diamant](https://image.kindle-tech.com/images/products/504/80cad871bb01c649bed46f08f439e374-small.jpg)
CVD-bordotierter Diamant: Ein vielseitiges Material, das maßgeschneiderte elektrische Leitfähigkeit, optische Transparenz und außergewöhnliche thermische Eigenschaften für Anwendungen in der Elektronik, Optik, Sensorik und Quantentechnologie ermöglicht.
![Hochreines Zirkoniumoxid (ZrO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/234/84557107b59cb9f44f572c79bfe6c164-small.jpg)
Hochreines Zirkoniumoxid (ZrO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Erhalten Sie hochwertige Zirkoniumoxid (ZrO2)-Materialien, die auf Ihre Bedürfnisse zugeschnitten sind. Wir bieten eine Vielzahl von Formen und Größen, einschließlich Sputtertargets, Pulver und mehr, zu erschwinglichen Preisen.
![Iridiumdioxid IrO2 zur Elektrolyse von Wasser](https://image.kindle-tech.com/images/products/488/3dbbf50a9476d07df3bec68b962b41b6-small.jpg)
Iridiumdioxid IrO2 zur Elektrolyse von Wasser
Iridiumdioxid, dessen Kristallgitter eine Rutilstruktur hat. Iridiumdioxid und andere seltene Metalloxide können in Anodenelektroden für die industrielle Elektrolyse und Mikroelektroden für die elektrophysiologische Forschung verwendet werden.
![Hochreines Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/231/bf042af6bd9cd08350f76aba31ff98c4-small.jpg)
Hochreines Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach Siliziumdioxid-Materialien für Ihr Labor? Unsere fachmännisch maßgeschneiderten SiO2-Materialien sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich. Stöbern Sie noch heute in unserem breiten Angebot an Spezifikationen!
![Hochreines Samariumoxid (Sm2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/252/454552102a258a049bd56008f9895b70-small.jpg)
Hochreines Samariumoxid (Sm2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Erhalten Sie hochwertige Materialien aus Samariumoxid (Sm2O3) für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Unsere fachmännisch hergestellten und maßgeschneiderten Materialien sind in verschiedenen Formen und Größen erhältlich, um Ihren Anforderungen gerecht zu werden. Stöbern Sie in unserem Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr.
![CVD-Diamantbeschichtung](https://image.kindle-tech.com/images/products/502/ce05ce06d530144b3a0c8e786f454035-small.png)
CVD-Diamantbeschichtung: Überlegene Wärmeleitfähigkeit, Kristallqualität und Haftung für Schneidwerkzeuge, Reibung und akustische Anwendungen
![Hochreines Scandiumoxid (Sc2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat](https://image.kindle-tech.com/images/products/239/5c06431017373ebb662c345e50fd8e23-small.jpg)
Hochreines Scandiumoxid (Sc2O3) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Finden Sie hochwertige Scandiumoxid-Materialien (Sc2O3) für den Laborgebrauch zu angemessenen Preisen. Unsere maßgeschneiderten Lösungen passen unterschiedliche Reinheiten, Formen und Größen an Ihre Anforderungen an. Schauen Sie sich unser Sortiment an Sputtertargets, Pulvern, Folien und mehr an.
![Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch](https://image.kindle-tech.com/images/products/377/af1f1f8f737b0edba060d3333914c9e6-small.jpg)
Kohlenstoffgraphitplatte – isostatisch
Isostatischer Kohlenstoffgraphit wird aus hochreinem Graphit gepresst. Es ist ein ausgezeichnetes Material für die Herstellung von Raketendüsen, Verzögerungsmaterialien und reflektierenden Graphitmaterialien für Reaktoren.