Die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist ein Verfahren zur Herstellung dünner Schichten auf verschiedenen Materialien.
Die PVD-Rate ist jedoch keine feste Zahl und kann erheblich schwanken.
Wie hoch ist die Rate der physikalischen Gasphasenabscheidung? (4 zu berücksichtigende Schlüsselfaktoren)
1. Der Prozess der PVD
Beim PVD-Verfahren werden dünne Schichten mit einer Dicke von 1 bis 10 Mikrometern (µm) abgeschieden.
2. Faktoren, die die PVD-Rate beeinflussen
Die Abscheiderate hängt von mehreren Faktoren ab:
- Dem verwendeten PVD-Verfahren.
- Das abzuscheidende Material.
- Von der verwendeten Ausrüstung.
- Die Bedingungen in der Beschichtungskammer, wie Temperatur, Druck und das Vorhandensein von reaktiven Gasen.
3. Berechnung der PVD-Rate
Um die PVD-Rate zu bestimmen, muss die Zeit berücksichtigt werden, die benötigt wird, um die gewünschte Schichtdicke zu erreichen.
Wenn zum Beispiel ein PVD-Verfahren eine Schicht mit einer Rate von 1 µm pro Stunde abscheidet, würde das Erreichen einer Schichtdicke von 5 µm etwa 5 Stunden dauern.
4. Experimentelle Bestimmung
Ohne spezifische Daten über die Abscheiderate für ein bestimmtes PVD-Verfahren und Material kann keine genaue Rate angegeben werden.
Die tatsächliche Rate müsste experimentell ermittelt oder vom Hersteller der PVD-Anlage für eine bestimmte Anwendung angegeben werden.
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