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Quarzglas-Reduzierrohr – Hitzebeständiger Quarz-Reduzieradapter hoher Reinheit für Labor-Rohröfen und die Halbleiterfertigung
Artikelnummer : KT-SYG
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Materialzusammensetzung
- Hochreines Quarzglas (SiO2 ≥ 99,99 %)
- Betriebstemperatur
- 1100 °C Dauerbetrieb / 1250 °C kurzfristige Spitze
- Temperaturwechselbeständigkeit
- Wasserabschreckung von 1100 °C auf 20 °C ohne Bruch
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Produktübersicht
Das hochreine Quarzglas-Reduzierrohr dient als Präzisions-Übergangskupplung, die entwickelt wurde, um ungleiche Rohrdurchmesser in Hochtemperaturöfen, Vakuumnetzwerken und Prozessleitungen zu verbinden. Hergestellt aus raffiniertem Quarzglas mit einem Siliziumdioxidgehalt von über 99,99 %, bietet dieses Bauteil eine herausragende thermische Belastbarkeit, optische Klarheit und chemische Inertheit und gewährleistet zuverlässige Volumenstromübergänge ohne Totzonen oder strukturelle Ausfälle.
Dieser Adapter wird häufig in der Halbleiterfertigung, der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), der Photovoltaikforschung und in analytischen pyrotechnischen Labors eingesetzt und verbindet primäre Ofenkammern mit Gasversorgungsmannigfolgen, Abluftwäschern und Vakuumarmaturen. Er eliminiert geometrische Schnittstellen-Fehlanpassungen in rauen Thermosystemen, in denen Elastomer- oder Metallkupplungen aufgrund von thermischem Abbau oder Kontaminationsrisiken ungeeignet sind.
Das für den Dauerbetrieb bei 1100 °C und kurzzeitige Spitzenwerte bis 1250 °C ausgelegte Bauteil weist einen außergewöhnlich niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten auf, der bei aggressiven Ofenzyklen absolute Immunität gegen plötzliche Thermoschocks garantiert. Eine gleichmäßige Wandstärke, präzise Konzentrizität und vollständige Ofengetreidung (Tempern) gewährleisten langfristige mechanische Festigkeit unter strengen Vakuum- und Überdruckbedingungen.
Hauptmerkmale
- Ultrasreiche Materialreinheit: Ausschließlich aus Premium-Quarzglas mit einem SiO2-Reinheitsgrad von über 99,99 % und metallischen Spurenverunreinigungen von insgesamt unter 20 ppm hergestellt. Dies gewährleistet null Risiko einer Substratkontamination bei ultrasauberen Halbleiter-, Solarzellen- und Dünnschichtabscheidungsprozessen.
- Überlegen Widerstandsfähigkeit gegen Thermoschocks: Verfügt über einen extrem niedrigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten von 5,5 × 10⁻⁷ /°C von Umgebungstemperatur bis 1000 °C, was die direkte Aussetzung gegenüber starken thermischen Gradienten und das sofortige Abschrecken mit Wasser von 1100 °C ohne Mikrorisse, Rissbildung oder katastrophalen thermischen Bruch ermöglicht.
- Präzise, auf Drehmaschinen geformte Geometrie: Hergestellt auf computersynchronisierten Quarzglas-Drehmaschinen, um eine enge Konzentrizität, glatte Übergangskegel und eine gleichmäßige Wandstärke sowohl im Haupt- als auch im Nebenbohrungsabschnitt aufrechtzuerhalten, wodurch lokale thermische Belastungen und turbulente Gasrückströmungen verhindert werden.
- Chemische Inertheit über ein breites Spektrum: Weist eine nahezu absolute Beständigkeit gegenüber korrosiven Säuren, einschließlich konzentrierter Salpeter-, Schwefel- und Salzsäure bei Siedetemperaturen sowie trockenen Halogenen und flüchtigen Vorläuferdämpfen (Precursors), auf und schützt so die Integrität der Prozesstechnik in anspruchsvollen chemischen Umgebungen.
- Strukturelle Steifigkeit bei hohen Temperaturen: Behält außergewöhnliche mechanische Stabilität unter kontinuierlichen Betriebsbedingungen bei 1100 °C und intermittierenden Spitzentemperaturen bis zu 1250 °C bei und widersteht Verformungen, Erweichungen oder Vakuumeinschlüssen unter tiefen Unterdruckregimes.
- Optische Transparenz und Prozesssichtbarkeit: Bietet eine hohe spektrale Transmission im ultravioletten, sichtbaren und nahinfraroten Spektrum von 260 nm bis 2500 nm, was eine klare visuelle Überwachung von Plasmaentladungen, Vorläuferflüssen und Dampfkondensationszonen während der thermischen Verarbeitung ermöglicht.
- Anpassbare Endabschlüsse und Verbindungsschnittstellen: Entwickelt mit vielseitigen Anschlusskonfigurationen, einschließlich präzise feuerpolierter glatter Enden, standardmäßiger geschliffener Kegelverbindungen, kugelförmiger Kugel-Pfannen-Kupplungen oder gebördelter Schnellflansch-Profile, um sich nahtlos in verschiedene Apparateaufbauten zu integrieren.
- Kontrolliertes Ofentempern: Durchläuft ein mehrstufiges programmiertes Zyklustempern, um verbleibende innere Spannungen zu beseitigen, die beim mechanischen Ziehen und Heißverjüngen entstanden sind. Dies wird durch optische Polariskoptests überprüft, um eine zuverlässige physikalische Haltbarkeit während des Betriebs zu gewährleisten.
Anwendungen
| Anwendung | Beschreibung | Hauptvorteil |
|---|---|---|
| Halbleiter-Diffusion und -Oxidation | Verbindet großkalibrige Prozessrohre mit kleineren Reaktivgas-Zufuhrinjektoren oder Vorvakuuflanschen in Hochtemperatur-Diffusionsöfen. | Verhindert metallische Kontamination, hält ultrasaubere atmosphärische Dichtungen aufrecht und hält kontinuierlichen 1100-°C-Prozesszyklen ohne Entglasung stand. |
| Chemische Gasphasenabscheidung (CVD / PECVD) | Dient als primärer Gasstrom-Reduzierer, der die Reagenzien-Zufuhrleitungen mit der Hauptvakuum-Abscheidekammer in horizontalen oder vertikalen Rohrsystemen verbindet. | Beseitigt turbulente Rezirkulationszones durch glatte Kegelgeometrie und sorgt so für laminare Precursor-Strömung und gleichmäßiges Dünnschichtwachstum. |
| Hochvakuum-Auspuff- und Vorleitungsübergänge | Überbrückt überdimensionierte Prozesskammern mit standardmäßigen Vakuumpumpleitungen, Kühlfallen und Diagnose-Drucksensoren in Hochvakuumanlagen. | Liefert vernachlässigbare Ausgasungsraten unter Ultrahochvakuumbedingungen bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung tiefer Vakuumdifferentiale ohne strukturelles Knicken. |
| Wäscher für korrosive Gase und Entlüftungsleitungen | Verbindet korrosive Abgasströme, die Chlor, Fluorverbindungen oder saure Nebenprodukte enthalten, mit Kondensationsfallen und Neutralisationstürmen. | Unempfindlich gegen Säurenebel und Halogene bei erhöhten Abgastemperaturen, wodurch vorzeitige Kupplungskorrosion und katastrophale Abgaslecks verhindert werden. |
| Bohrungsreduzierung von Labor-Rohröfen | Erleichtert die dimensionale Umwandlung zwischen großen Ofenheizrohren und standardisierten Laborglaswaren oder analytischen Sonden-Einführungsöffnungen. | Ermöglicht Forschern die Anpassung herkömmlicher Ofenrohrdurchmesser an modulare Apparaturen, ohne teure Ofenendkappen maßschneidern zu müssen. |
| Photovoltaik-Siliziumwafer-Verarbeitung | Dient als Übergangsleitung für die Zufuhr von Phosphoroxychlorid- oder Bortribromid-Dotierungsdampf in Solarzellen-Emitterschicht-Diffusionsreaktoren. | Widersteht aggressiver Dotierungsträgerdampf-Korrosion und bewahrt gleichzeitig die extreme chemische Reinheit, die für eine hohe Trägerlebensdauer-Effizienz entscheidend ist. |
| Pyrometrische und thermische Analyse | Koppelt Hochtemperatur-Verbrennungsschiffchen oder Reaktionsrohre direkt an Massenspektrometer, optische Gasanalysatoren und Kondensatorschlangen. | Bietet inerte Strömungswege, die Probenadsorption, katalytische Nebenreaktionen oder Signalverzerrungen bei empfindlichen analytischen Auswertungen verhindern. |
| Abscheidung von Glasfaser-Vorformen (MCVD) | Verbindet rotierende Quarz-Startrohre mit Chemikalien-Zufuhrverteilern und Abluftgebläsen während der modifizierten chemischen Gasphasenabscheidung für Faserkerne. | Gewährleistet eine hohe Rotationskonzentrizität und mechanische Festigkeit unter intensiver Sauerstoff-Wasserstoff-Flamme, die sich entlang der Vorformachse bewegt. |
Technische Spezifikationen
Standard-Abmessungsvarianten
| Produktmodell | Großer Außendurchmesser (OD1) | Klinker Außendurchmesser (OD2) | Wandstärke (W) | Kegellänge (L1) | Gesamtlänge (L) | Übergangsgeometrie |
|---|---|---|---|---|---|---|
| KT-SYG-2515 | 25 mm (±0,3 mm) | 15 mm (±0,3 mm) | 2,0 mm (±0,2 mm) | 30 mm | 150 mm | Konzentrisch |
| KT-SYG-3825 | 38 mm (±0,5 mm) | 25 mm (±0,3 mm) | 2,5 mm (±0,3 mm) | 40 mm | 180 mm | Konzentrisch |
| KT-SYG-5025 | 50 mm (±0,5 mm) | 25 mm (±0,3 mm) | 3,0 mm (±0,3 mm) | 50 mm | 200 mm | Konzentrisch |
| KT-SYG-6040 | 60 mm (±0,5 mm) | 40 mm (±0,5 mm) | 3,0 mm (±0,3 mm) | 50 mm | 220 mm | Konzentrisch |
| KT-SYG-8050 | 80 mm (±0,8 mm) | 50 mm (±0,5 mm) | 3,5 mm (±0,3 mm) | 60 mm | 250 mm | Konzentrisch |
| KT-SYG-10060 | 100 mm (±0,8 mm) | 60 mm (±0,5 mm) | 4,0 mm (±0,4 mm) | 80 mm | 300 mm | Konzentrisch |
| KT-SYG-12080 | 120 mm (±1,0 mm) | 80 mm (±0,8 mm) | 4,5 mm (±0,4 mm) | 90 mm | 320 mm | Konzentrisch |
| KT-SYG-150100 | 150 mm (±1,2 mm) | 100 mm (±0,8 mm) | 5,0 mm (±0,5 mm) | 100 mm | 350 mm | Konzentrisch |
| KT-SYG-5025E | 50 mm (±0,5 mm) | 25 mm (±0,3 mm) | 3,0 mm (±0,3 mm) | 55 mm | 200 mm | Exzentrisch mit flachem Boden |
| KT-SYG-8050E | 80 mm (±0,8 mm) | 50 mm (±0,5 mm) | 3,5 mm (±0,3 mm) | 65 mm | 250 mm | Exzentrisch mit flachem Boden |
| KT-SYG-10060E | 100 mm (±0,8 mm) | 60 mm (±0,5 mm) | 4,0 mm (±0,4 mm) | 85 mm | 300 mm | Exzentrisch mit flachem Boden |
| KT-SYG-CUSTOM | 10 mm – 450 mm | 5 mm – 350 mm | 1,5 mm – 10,0 mm | Benutzerdefiniert | 50 mm – 1200 mm | Konzentrisch / Exzentrisch |
Physikalische und thermische Materialeigenschaften
| Parameter | Prüfnorm / Einheit | Wert / Eigenschaft |
|---|---|---|
| Chemische Zusammensetzung | Spektroskopie | Hochreines Quarzglas (SiO2 ≥ 99,99 %) |
| Materialdichte | Archimedes / g/cm³ | 2,20 g/cm³ |
| Kontinuierliche Betriebstemperatur | Thermische Betriebsgrenze | 1100 °C |
| Maximale kurzfristige Betriebsgrenze | Spitzenexkursionsschwelle | 1250 °C |
| Erweichungspunkt | ASTM C338 | 1730 °C |
| Temperpunkt (Annealing Point) | ASTM C336 | 1180 °C |
| Kühlgrenzpunkt (Strain Point) | ASTM C336 | 1120 °C |
| Wärmeausdehnungskoeffizient (CTE) | Dilatometrie (20 °C – 1000 °C) | 5,5 × 10⁻⁷ /°C |
| Thermoschockbeständigkeit | Wasserabschrecktest | 1100 °C bis 20 °C ohne Bruch |
| Wärmeleitfähigkeit | 20 °C / W/(m·K) | 1,4 W/(m·K) |
| Zugfestigkeit | Mechanischer Test / MPa | 48 MPa |
| Druckfestigkeit | Mechanischer Test / MPa | 1100 MPa |
| Elastizitätsmodul (Young-Modul) | Akustische Resonanz / GPa | 72 GPa |
| Poissonsche Zahl | Mechanisch / Dimensionslos | 0,17 |
| Dielektrizitätskonstante | 1 MHz bei 25 °C | 3,75 |
| Brechungsindex (nD) | Optische Natrium-D-Linie (589,3 nm) | 1,4585 |
| Optische Transmitanz | 260 nm – 2500 nm Spektrometrie | > 90 % |
Typisches chemisches Spurenverunreinigungsprofil
| Element | Symbol | Konzentration (ppm nach Gewicht) |
|---|---|---|
| Aluminium | Al | 12,0 – 16,0 |
| Eisen | Fe | 0,2 – 0,6 |
| Kalzium | Ca | 0,4 – 0,9 |
| Magnesium | Mg | 0,1 – 0,4 |
| Natrium | Na | 0,5 – 1,2 |
| Kalium | K | 0,4 – 0,8 |
| Lithium | Li | 0,2 – 0,5 |
| Kupfer | Cu | < 0,05 |
| Metallische Verunreinigungen insgesamt | Gesamtmetallgehalt | < 20,0 ppm |
Endabschlüsse und Anschlussoptionen
| Anschlussart | Standardmäßig verfügbar | Typischer Anwendungsanschluss |
|---|---|---|
| Feuerpolierte glatte Enden | Standardmäßig glatt geschnitten und flammenpoliert | Ultra-Torr-Verschraubungen, Kompressions-O-Ring-Dichtungen, Ofenendflansche |
| Geschliffene Glasschleifverbindungen | Normschliff ST 14/23, 19/26, 24/29, 29/32, 45/40 | Direkt austauschbare Glaswarenverbindungen ohne Polymeradapter |
| Sphärische Kugel-Pfannen-Verbindungen | Halbkugelverbindungen S13, S19, S28, S35, S50 | Winkelverstellbare Leitungen, spannungsfreie Dehnungsausgleicher |
| Gebördelte Schnellflanschenden | Gebördelte Quarzenden für O-Ring-Klemmen | Vakuumrohrschellenkupplungen, hochreine Vorleitungskrümmer |
| Flansche aus Quarzglas | Polierte Flachseiten mit Schraubenlöchern oder geschlitzten Kanten | Direkte Verschraubung an Vakuumbaugruppen aus Metall oder Reaktor-Sichtfenstern |
Warum dieses Produkt wählen?
- Präzise Heißformungstechnologie auf Drehmaschinen: Fortgeschrittene automatisierte Glasbearbeitungsdrehmaschinen steuern die Reduzierung der Wandstärke über die konische Übergangszone hinweg und eliminieren so strukturelle Schwachstellen und ungleichmäßige thermische Belastungen, die bei manuell gezogenen Reduzierstücken häufig auftreten.
- Kompromisslose Chemie- und Matrixreinheit: Streng aus raffiniertem, elektrisch geschmolzenem Quarz bezogen, der weniger als 20 ppm kumulierte metallische Verunreinigungen enthält. Dadurch werden empfindliche Waferserien, Katalysatorbetten und CVD-Dünnschichtabscheidungen vor elementarer Kreuzkontamination geschützt.
- Validiertes spannungsfreies Tempern: Jedes Stück wird einem automatisierten Ofenrampen-Tempern unterzogen, gefolgt von umfassenden polariskopischen Spannungsprüfungen, wodurch eine Restmechanikspannung von null und eine vollständige Beständigkeit gegen Thermoschocks gewährleistet wird.
- Konzentrische und exzentrische Layout-Konstruktion: Sowohl in standardmäßigen konzentrischen Formen für symmetrische Strömungsdynamiken als auch in exzentrischen Konfigurationen mit flachem Boden erhältlich, die Flüssigkeitsansammlungen in horizontalen Abgas- und Rückgewinnungsleitungen verhindern.
- Umfassende maßliche Anpassung: Wir entwickeln kundenspezifische Durchmesserverhältnisse, einzigartige Übergangswinkel, verlängerte Schenkellängen und maßgeschneiderte Anschlussflansche, die genau auf proprietäre Prozesswerkzeuge und herkömmliche Rohröfen abgestimmt sind.
Kontaktieren Sie noch heute unser technisches Ingenieurteam, um Ihre Maßangaben zu besprechen, maßgeschneiderte Glasbläserlösungen zu erörtern oder ein wettbewerbsfähiges Angebot für eine sofortige Lieferung anzufordern.
Vertraut von Branchenführern
Produktdatenblatt
Quarzglas-Reduzierrohr – Hitzebeständiger Quarz-Reduzieradapter hoher Reinheit für Labor-Rohröfen und die Halbleiterfertigung
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