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Hochreiner transparenter Quarz-Schiffchentiegel quadratisch Hochtemperaturbeständig korrosionsbeständiger Glastank

Teile zur Dünnschichtabscheidung

Hochreiner transparenter Quarz-Schiffchentiegel quadratisch Hochtemperaturbeständig korrosionsbeständiger Glastank

Artikelnummer : KT-SYZ

Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen


Materialreinheit
SiO2 > 99,99 %
Maximale Temperatur
1200 °C
Wandstärke
2,0 - 3,0 mm
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Dieses hochreine transparente Quarz-Schiffchen- und Tiegelsystem stellt einen bedeutenden Fortschritt bei Hochtemperatur-Laborverbrauchsmaterialien dar. Aus hochwertigem Quarzglas gefertigt, dient diese Ausrüstung als außergewöhnlich stabiler Behälter für Sintern, Schmelzen und chemische Reaktionen. Das strukturelle Design optimiert die Wärmeverteilung über den Probenbehälter und stellt sicher, dass Materialien einer gleichmäßigen thermischen Behandlung unterzogen werden, ohne lokale Gradientenfehler.

Hauptsächlich für Forschungslabore, Universitätschemieabteilungen und industrielle Fertigungsanlagen konzipiert, unterstützt dieses System kritische Anwendungen in der Halbleiterverarbeitung, Metallurgie und der Synthese fortschrittlicher Materialien. Zielindustrien profitieren von der hohen optischen Klarheit, die eine visuelle Überwachung thermischer Reaktionen ermöglicht, und der chemischen Trägheit, die verhindert, dass Reaktionsgefäße Verunreinigungen in die Proben auslaugen. Das System schneidet in Röhrenöfen, Muffelöfen und Kammern mit kontrollierter Atmosphäre hervorragend ab.

Für den Einsatz unter anspruchsvollen thermodynamischen Belastungen gebaut, bewahrt diese Einheit ihre strukturelle Integrität und Form bei kontinuierlich hohen Temperaturen. Die hochwertige Qualität des Quarzmaterials minimiert die Wärmeausdehnung und verringert so das Risiko von Strukturversagen oder Rissen durch thermischen Schock. Bediener können dieses Gefäß sicher für kritische gravimetrische Analysen, Kalzinierungsprozesse und Probentransport einsetzen, ohne die experimentelle Präzision oder Sicherheit zu beeinträchtigen.

Hauptmerkmale

  • Konstruktion aus hochreinem Siliziumdioxid: Hergestellt aus Quarzglas mit einem Reinheitsgrad von über 99,99 %, um sicherzustellen, dass keine Metallionen oder andere Verunreinigungen kritische Laborproben während Hochtemperaturreaktionen kontaminieren.
  • Überlegene Thermoschockbeständigkeit: Entwickelt, um schnellen Temperaturwechseln standzuhalten, sodass das Gefäß von extremer Hitze auf Umgebungstemperaturen bewegt werden kann, ohne zu reißen oder strukturelles Versagen zu erleiden.
  • Dauerbetriebstemperatur bis zu 1200°C: Die optimierte Molekularstruktur des Quarzglases ermöglicht Dauerbetrieb bei erhöhten Temperaturen und bewahrt vollständige Maßstabilität unter konstanter thermischer Belastung.
  • Hervorragende Korrosions- und Säurebeständigkeit: Bietet robuste chemische Beständigkeit gegen die meisten Säuren, Salze und organischen Verbindungen, was es für aggressive chemische Behandlungen und Säureaufschlussprozesse sehr geeignet macht.
  • Optimierte gleichmäßige Wandstärke: Standardisierte Wandstärken von 2 mm bis 3 mm gewährleisten eine gleichmäßige Wärmeleitfähigkeit auf allen Oberflächen des Schiffchens, verhindern thermische Hotspots und fördern gleichmäßige Reaktionskinetik.
  • Hohe optische Transparenz: Hochglanzpolierte transparente Oberflächen ermöglichen es Forschern, Probenveränderungen, Kristallisation und Reaktionen im Ofeninneren in Echtzeit visuell zu überwachen.
  • Flexible Anpassungsmöglichkeiten: Erhältlich mit optionalen maßgefertigten Deckeln, kundenspezifischen Abmessungen und alternativen Oberflächenbeschaffenheiten (wie matt oder gebohrt), um spezialisierten Versuchsprotokollen zu entsprechen.

Anwendungen

Anwendung Beschreibung Hauptvorteil
Halbleiter-Waferbehandlung Halten und Tragen von Siliziumwafern während Hochtemperaturausheiz-, Oxidations- und Diffusionsprozessen. Verhindert die Migration von Spurenelementen und Kreuzkontamination in Reinraumumgebungen.
Pulvermaterialkalzinierung Halten von Keramikpulvern, Katalysatorvorläufern und Batteriematerialien während Hochtemperaturkalzinierung und Sintern. Chemische Trägheit verhindert Reaktionen zwischen der Pulverprobe und den Tiegelwänden.
Hochtemperaturmetallurgie Schmelzen kleiner Mengen von Nichteisenmetallen und Legierungen zur Analyse von Strukturveränderungen und Phasendiagrammen. Hoher Schmelzpunkt und thermische Stabilität gewährleisten die Gefäßintegrität während des gesamten Schmelzprozesses.
Gravimetrische Probenanalyse Dient als gewichtsstabiler Behälter zum Testen von Gewichtsverlust und Oxidationsmassenänderung von Materialien bei hohen Temperaturen. Vernachlässigbare Gewichtsänderung des Gefäßes gewährleistet präzise Messung der Probenmassenänderungen.
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) Dient als Substratträger in Röhrenöfen für die synthetische Filmbeschichtung und das Nanomaterialwachstum. Gleichmäßige flache Oberfläche und hohe Wärmeleitfähigkeit unterstützen konsistente Abscheidungsraten.
Säureaufschluss und -verdampfung Verdampfen starker Säurelösungen oder Aufschluss fester Proben bei hohen Temperaturen für die chemische Analyse. Außergewöhnliche Beständigkeit gegen Säurekorrosion verhindert Schäden an den Gefäßwänden.

Technische Spezifikationen

Die KT-SYZ-Serie ist in mehreren Standardkonfigurationen erhältlich, kategorisiert nach Innen- und Außenabmessungen. Kundenspezifische Konfigurationen, einschließlich Quarzrohre, Quarzstäbe und Quarzplatten, können basierend auf technischen Zeichnungen oder Kundenmustern gefertigt werden.

KT-SYZ Innenabmessungs (ID) Varianten

Modellcode Innenlänge (mm) Innenbreite (mm) Innenhöhe (mm) Wandstärke (mm) Max. Temperatur (°C)
KT-SYZ-ID10 10 10 10 2 - 3 1200
KT-SYZ-ID15 15 15 15 2 - 3 1200
KT-SYZ-ID20 20 20 20 2 - 3 1200
KT-SYZ-ID30 30 30 30 2 - 3 1200
KT-SYZ-ID150 150 150 150 2 - 3 1200
KT-SYZ-ID200 200 200 200 2 - 3 1200

KT-SYZ Außenabmessungs (OD) Varianten

Modellcode Außenlänge (mm) Außenbreite (mm) Außenhöhe (mm) Wandstärke (mm) Max. Temperatur (°C)
KT-SYZ-OD5010 50 10 10 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD10010 100 10 10 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD5015 50 15 10 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD10015 100 15 10 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD5020 50 20 15 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD10020 100 20 15 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD5030 50 30 20 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD10030 100 30 20 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD5040 50 40 25 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD10040 100 40 25 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD5050A 50 50 30 2 - 3 1200
KT-SYZ1-OD10050A 100 50 30 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD5050B 50 50 50 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD100100A 100 100 30 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD100100B 100 100 50 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD100100C 100 100 100 2 - 3 1200
KT-SYZ-OD200100 200 100 50 2 - 3 1200

Kundenspezifische Quarz-Hilfsmaterialien (KT-SYZ Custom Serie)

Materialtyp Abmessungsgrenzen Optionen / Merkmale Anpassungsumfang
Quarzrohre Außendurchmesser: 2 - 450 mm; Wandstärke: 0,5 - 20 mm Klar, matte Oberfläche, polierte Enden Kundenspezifische Längen, geschlitzt, mit Flansch
Quarzstäbe Durchmesser: 1,5 - 80 mm Poliert, präzise Querschnitte Biegen, Verjüngen, Aufhängehaken
Quarzglasplatten Kundenspezifische Formen basierend auf Benutzerzeichnungen Transparent, matt, gebohrt Rund, quadratisch, kundenspezifisch gefräste Stufen
Passende Deckel Abgestimmt auf alle KT-SYZ-Schiffchen Flacher Deckel, eingelassene Lippe, Gasanschlüsse Auf Anfrage erhältlich

Handhabungs- und Wartungsrichtlinien

Um die Lebensdauer der Quarzprodukte zu maximieren, müssen Bediener strenge Reinigungs- und Handhabungsprotokolle befolgen. Das Einbringen von Alkalimetallen (z.B. von bloßen Händen) auf die Oberfläche des Quarzschiffchens wirkt als Katalysator für Entglasung bei hohen Temperaturen, was zu Trübung und schließlich struktureller Schwächung führt.

  1. Tragen Sie beim Umgang mit den Quarzgefäßen immer fusselfreie Handschuhe, um zu verhindern, dass Hautfette und Salze mit der Glasoberfläche in Kontakt kommen.
  2. Vor dem Erhitzen waschen Sie den Quarzbehälter in einem verdünnten Salpetersäurebad (ca. 5-10% Konzentration), um Oberflächenverunreinigungen zu entfernen, gefolgt von einem gründlichen Spülen mit deionisiertem Wasser.
  3. Stellen Sie sicher, dass das Quarzgefäß vollständig trocken ist, bevor Sie es in eine heiße Ofenkammer stellen. Feuchtigkeit, die in mikroskopischen Oberflächenunregelmäßigkeiten eingeschlossen ist, kann hohen Dampfdruck erzeugen, was zu Mikrorissen führt.
  4. Vermeiden Sie thermisches Zyklieren über 1200°C hinaus. Langfristige Exposition gegenüber Temperaturen nahe dem Erweichungspunkt sollte sorgfältig überwacht werden, um Verformungen zu verhindern.

Warum dieses Produkt wählen

  • Außergewöhnliche Rohmaterialstandards: Gebaut aus hochwertigem Quarzglas mit einer Reinheit von über 99,99 %, um unerwünschtes Dotieren mit Spurenelementen zu verhindern und hohe Zuverlässigkeit in akademischer und industrieller Forschung zu gewährleisten.
  • Präzisionsgefertigte Abmessungen: Hergestellt mit engen Maßtoleranzen, um einen zuverlässigen Sitz in Röhrenofenkammern, Probenhaltern und automatisierten Ladearmen zu gewährleisten.
  • Verlängerte Betriebsdauer: Die Kombination aus gleichmäßiger Wandstärke und Thermoschockbeständigkeit reduziert die Häufigkeit des Verbrauchsmaterialaustauschs und bietet niedrigere Gesamtbetriebskosten.
  • Vollständige Anpassung und technische Designunterstützung: Wir sind spezialisiert auf kundenspezifisch gefertigte Quarzartikel. Von der Musterduplikation bis zur Fertigung auf Basis von Blaupausen (einschließlich kundenspezifischer Rohre, Platten und Schiffchen mit Deckeln) kann unser Ingenieursteam kundenspezifische Geometrien mit Präzision realisieren.
  • Zertifizierte Qualitätskontrolle: Jede Charge durchläuft strenge Qualitätskontrollprüfungen, um innere Spannungen und Oberflächendefekte vor dem Versand zu identifizieren, um sicherzustellen, dass nur einwandfreie Produkte Ihr Labor erreichen.

Kontaktieren Sie KINTEK noch heute, um Ihre spezifischen Hochtemperatur-Quarzanforderungen zu besprechen oder ein individuelles Angebot für Ihre kundenspezifische Laborausstattung anzufordern.

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