Rohrofen
Vertikaler Labortiegelofen
Artikelnummer : KT-VTF
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Maximale Temperatur
- 1800℃
- Ofenrohrdurchmesser
- 50 / 60 / 80 / 100 mm
- Heizzonenlänge
- 300 / 450 / 600 / 800 mm
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Einleitung
Vertikale Tiegelöfen sind Hochleistungs-Laborgeräte, die für die präzise Hochtemperaturverarbeitung unter kontrollierten atmosphärischen Bedingungen eingesetzt werden. Sie bestehen aus einem vertikal ausgerichteten Keramik- oder Quarzprozessrohr, das von einer Heizkammer umschlossen ist. Dieses Design optimiert den Platzbedarf und verhindert ein Durchhängen des Rohrs bei extremen Temperaturen. Diese Öfen werden häufig für spezielle Anwendungen eingesetzt, darunter Wärmebehandlung, schwerkraftgestütztes Abschrecken, Glühen, Kristallwachstum und chemische Gasphasenabscheidung (CVD). Mit fortschrittlichen Funktionen wie programmierbaren PID-Reglern, Vakuumversiegelung und kundenspezifischen Flanschen für gasphasenbasierte Reaktionen bieten vertikale Tiegelöfen außergewöhnliche Vielseitigkeit und Genauigkeit. Ihre Fähigkeit, eine hohe thermische Gleichmäßigkeit und kontrollierte Atmosphären aufrechtzuerhalten, macht sie zu unverzichtbaren Werkzeugen in der Halbleiterforschung, der Materialwissenschaft und der fortschrittlichen industriellen F&E.
Anwendungen
Vertikale Tiegelöfen sind vielseitige Heizgeräte mit einer breiten Palette von Anwendungen in verschiedenen Branchen und Laboreinrichtungen. Sie sind besonders nützlich für Prozesse, die eine präzise Temperaturregelung und die Fähigkeit erfordern, unter Vakuum oder kontrollierten Gasatmosphären zu arbeiten.
- Gasabschrecktests: Vertikale Tiegelöfen werden häufig für Gasabschrecktests verwendet, bei denen Proben von hohen Temperaturen schnell in ein Abschreckmedium wie Eiswasser oder Öl abgekühlt werden. Dies ermöglicht es den Forschern, Materialphasenübergänge und die Auswirkungen schneller Abkühlung auf die Materialeigenschaften zu untersuchen.
- Wärmebehandlung: Vertikale Tiegelöfen werden für eine Vielzahl von Wärmebehandlungsprozessen eingesetzt, darunter Glühen, Anlassen und Spannungsarmglühen. Diese Prozesse können die mechanischen Eigenschaften von Materialien verbessern, wie z. B. ihre Festigkeit, Härte und Duktilität.
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): Vertikale Tiegelöfen werden für CVD-Prozesse verwendet, bei denen durch chemische Reaktionen in einer gasförmigen Umgebung ein dünner Film auf einem Substrat abgeschieden wird. Diese Technik wird häufig in der Halbleiterindustrie zur Herstellung elektronischer Geräte eingesetzt.
- Kristallwachstum: Vertikale Tiegelöfen werden für das Kristallwachstum verwendet, bei dem Kristalle aus einer geschmolzenen oder gasförmigen Phase wachsen. Diese Technik wird zur Herstellung hochwertiger Kristalle für die Optik, Elektronik und andere Anwendungen eingesetzt.
- Materialprüfung: Vertikale Tiegelöfen werden für Materialprüfungen verwendet, wie z. B. Messungen der Wärmeleitfähigkeit, Bestimmung des Schmelzpunkts und Phasenübergänge. Diese Tests liefern wertvolle Informationen über die Eigenschaften von Materialien.
- Weitere Anwendungen: Vertikale Tiegelöfen werden auch in verschiedenen anderen Anwendungen eingesetzt, darunter:
- Sintern
- Hartlöten
- Kalzinieren
- Keramik
- Glasbearbeitung
- Laborforschung
- Pulververarbeitung
Details & Teile
2. Elektronisches Digitalanzeigefeld: präzise Temperaturregelung, voreingestellter mehrstufiger Wärmebehandlungsprozess.
3. Aluminiumoxid-Polykristallfaser-Herd: hochtemperaturbeständig, lange Nutzung ohne Verformung, keine Rissbildung.
Prinzip
Vertikale Tiegelöfen arbeiten nach dem Prinzip der Wärmestrahlung. Das Heizelement, typischerweise aus Molybdändisilicid (MoSi2) oder Siliziumkarbid (SiC) gefertigt, befindet sich um das vertikale Rohr und emittiert Infrarotstrahlung, die von der Probe im Inneren absorbiert wird. Diese Strahlung erwärmt die Probe gleichmäßig und sorgt für eine präzise und effiziente Temperaturregelung. Das Design des Ofens ermöglicht schnelle Aufheiz- und Abkühlraten, was ihn für verschiedene Anwendungen geeignet macht, darunter Materialsynthese, Wärmebehandlung und Temperaturmessungen.
Vorteile
- Vertikale Tiegelöfen sind vielseitige Heizgeräte mit einer breiten Palette von Anwendungen in verschiedenen Branchen und Laboreinrichtungen. Sie sind besonders nützlich für Prozesse, die eine präzise Temperaturregelung und die Fähigkeit erfordern, unter Vakuum oder kontrollierten Gasatmosphären zu arbeiten.
- Abschrecktests: Vertikale Tiegelöfen werden häufig für Abschrecktests verwendet, bei denen Proben von hohen Temperaturen schnell in ein Abschreckmedium (wie Gas, Eiswasser oder Öl) abgekühlt werden. Dies ermöglicht es den Forschern, Materialphasenübergänge und die Auswirkungen schneller Abkühlung auf die Materialeigenschaften zu untersuchen.
- Wärmebehandlung: Vertikale Tiegelöfen werden für eine Vielzahl von Wärmebehandlungsprozessen eingesetzt, darunter Glühen, Anlassen und Spannungsarmglühen. Diese Prozesse können die mechanischen Eigenschaften von Materialien verbessern, wie z. B. ihre Festigkeit, Härte und Duktilität.
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): Vertikale Tiegelöfen werden für CVD-Prozesse verwendet, bei denen durch chemische Reaktionen in einer gasförmigen Umgebung ein dünner Film auf einem Substrat abgeschieden wird. Diese Technik wird häufig in der Halbleiterindustrie zur Herstellung elektronischer Geräte eingesetzt.
- Kristallwachstum: Vertikale Tiegelöfen sind ideal für das Kristallwachstum, insbesondere nach der Bridgman-Methode. Kristalle wachsen aus einer geschmolzenen oder gasförmigen Phase. Diese Technik liefert hochwertige Einkristalle, die für Optik, Elektronik und Halbleiteranwendungen unerlässlich sind.
- Materialprüfung: Vertikale Tiegelöfen werden für Materialprüfungen verwendet, wie z. B. Messungen der Wärmeleitfähigkeit, Bestimmung des Schmelzpunkts und Phasenübergänge. Diese Tests liefern wertvolle Informationen über die Eigenschaften von Materialien.
- Weitere Anwendungen: Vertikale Tiegelöfen werden auch verwendet für:
- Sintern
- Hartlöten
- Kalzinieren
- Keramikbrennen
- Glasbearbeitung
- Laborforschung
- Pulververarbeitung
- Wirbelschichtexperimente
Sicherheitsvorteile
- KINTEK Tiegelöfen verfügen über Überstromschutz und Übertemperaturalarmfunktionen. Der Ofen schaltet die Stromversorgung automatisch ab, sobald ein Überstrom erkannt wird.
- Der Ofen verfügt über eine integrierte Thermoelement-Erkennungsfunktion. Der Ofen stoppt die Heizung und der Alarm wird ausgelöst, sobald ein Bruch oder Ausfall des Thermoelements erkannt wird.
- VTF Pro unterstützt die Funktion zum Neustart nach Stromausfall. Der Ofen setzt das Heizprogramm des Ofens fort, wenn nach einem Ausfall wieder Strom anliegt.
Technische Spezifikationen
| Ofenmodell | KT-VTF | KT-VTF PRO |
|---|---|---|
| Temperaturregler | Digitaler PID-Regler | Touchscreen-PID-Regler |
| Mehrfachprogramm-Voreinstellung | nein | ja |
| Neustart nach Stromausfall | nein | ja |
| Max. Temperatur | 1800℃ | |
| Ofenrohrmaterial | Hochwertiger Quarz / Aluminiumoxid Al2O3 | |
| Ofenrohrdurchmesser | 50 / 60 / 80 / 100 mm | |
| Heizzonenlänge | 300 / 450 / 600 / 800 mm | |
| Vakuumversiegelungslösung | Flansch aus SS 304 mit massivem Kupfer-Dichtring | |
| Nenndruck Vakuum | 0,001 Pa / 10E5 Torr | |
| Kammer material | Japanisches Aluminiumoxidfaser Al2O3 | |
| Heizelement | Cr2Al2Mo2 Drahtspule / SiC / MoSi2 | |
| Thermoelement | Typ K / S / B | |
| Temperaturregelgenauigkeit | ±1℃ | |
| Stromversorgung | AC110-220V, 50/60HZ | |
| Andere Ofenrohrgrößen und Heizzonenlängen können angepasst werden | ||
Standardpaket
| Nr. | Beschreibung | Menge |
|---|---|---|
| 1 | Ofen | 1 |
| 2 | Aluminiumoxidrohr | 1 |
| 3 | Vakuumflansch | 2 |
| 4 | Rohr-Wärmeblock | 2 |
| 5 | Haken für Rohr-Wärmeblock | 1 |
| 6 | Hitzebeständige Handschuhe | 1 |
| 7 | Bedienungsanleitung | 1 |
Optionale Einrichtung
- Erkennung und Überwachung von Gasen im Rohr, wie H2, O2 und so weiter
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485 Kommunikationsport für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Steuerung des Gaszuführungsflusses, wie Massendurchflussmesser und Schwimmermessgerät
- Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, benutzerfreundlichen Funktionen
- Hochvakuum-Pumpenstation-Aufbauten, wie Drehschieberpumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
Für Sie entworfen
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Vertraut von Branchenführern
FAQ
Was Ist Ein Rohrofen?
Der Laborrohrofen ist ein klassischer Hochtemperatur-Rohrofen mit externer Heizung, auch Heißwandheizofen genannt.
Abhängig von der unterschiedlichen Arbeitstemperatur kann das Ofenrohrmaterial normalerweise aus transparenten Quarzrohren, hochreinen Aluminiumoxid-Keramikrohren und hochfesten Metalllegierungsrohren bestehen.
Um unterschiedliche thermische Forschungszwecke zu erfüllen, können Rohröfen mit mehreren Heizzonen ausgestattet werden, um eine flexible Steuerung des Temperaturgradienten in der Rohrarbeitskammer zu ermöglichen. Das Ofenrohr kann in einer Arbeitsumgebung mit kontrollierter Atmosphäre oder in einer Hochvakuum-Arbeitsumgebung betrieben werden.
Was Ist Ein CVD-Ofen?
Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) handelt es sich um eine Technologie, die verschiedene Energiequellen wie Erhitzen, Plasmaanregung oder Lichtstrahlung nutzt, um gasförmige oder dampfförmige chemische Substanzen an der Gasphase oder Gas-Feststoff-Grenzfläche chemisch zu reagieren und so feste Ablagerungen im Reaktor zu bilden chemische Reaktion. Vereinfacht ausgedrückt werden zwei oder mehr gasförmige Rohstoffe in eine Reaktionskammer eingeleitet, reagieren dann miteinander, bilden ein neues Material und scheiden es auf der Substratoberfläche ab.
Der CVD-Ofen ist ein kombiniertes Ofensystem mit einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer Gassteuereinheit und einer Vakuumeinheit. Er wird häufig für Experimente und die Produktion von Verbundwerkstoffvorbereitungen, mikroelektronischen Prozessen, Halbleiter-Optoelektronik, Solarenergienutzung, Glasfaserkommunikation und Supraleitern verwendet Technologie, Schutzbeschichtungsbereich.
Wie Funktioniert Ein Rohrofen?
Die Heizelemente des Rohrofens sind um den zylindrischen Hohlraum herum angeordnet. Der Ofen kann die Proben im zylindrischen Hohlraum nur durch indirekte Wärmestrahlung erwärmen, da das Ofenrohr verhindern kann, dass das Probenmaterial mit den Heizelementen und Isoliermaterialien des Ofens in Kontakt kommt, sodass der Rohrofen eine saubere Isolierung schafft Wärmekammer und verringern das Risiko einer Kontamination des Probenmaterials durch den Ofen.
Wie Funktioniert Ein CVD-Ofen?
Das CVD-Ofensystem besteht aus einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer präzisen Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle, einer Vakuumpumpstation und entsprechenden Montageteilen.
Die Vakuumpumpe dient dazu, die Luft aus dem Reaktionsrohr zu entfernen und sicherzustellen, dass sich keine unerwünschten Gase im Reaktionsrohr befinden. Anschließend heizt der Rohrofen das Reaktionsrohr auf eine Zieltemperatur auf. Anschließend kann die präzise Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle eine andere einleiten Gase werden in einem festgelegten Verhältnis in das Ofenrohr für die chemische Reaktion eingeleitet, die chemische Gasphasenabscheidung erfolgt im CVD-Ofen.
Was Ist Ein Drehrohrofen?
Was Ist Die Anwendung Für Rohröfen?
Rohröfen werden hauptsächlich in der Metallurgie, Glas, Wärmebehandlung, Lithiumanoden- und -kathodenmaterialien, neuen Energien, Schleifmitteln und anderen Industrien eingesetzt und sind eine professionelle Ausrüstung zur Messung von Materialien unter bestimmten Temperaturbedingungen.
Der Rohrofen zeichnet sich durch einfache Struktur, einfache Bedienung, einfache Steuerung und kontinuierliche Produktion aus.
Rohröfen werden auch häufig in CVD-Systemen (chemische Gasphasenabscheidung) und plasmaunterstützten CVD-Systemen eingesetzt.
Welches Gas Wird Im CVD-Prozess Verwendet?
Es gibt enorme Gasquellen, die im CVD-Prozess verwendet werden können. Zu den üblichen chemischen Reaktionen von CVD gehören Pyrolyse, Photolyse, Reduktion, Oxidation und Redox, sodass die an diesen chemischen Reaktionen beteiligten Gase im CVD-Prozess verwendet werden können.
Nehmen wir als Beispiel das CVD-Graphenwachstum. Die im CVD-Prozess verwendeten Gase sind CH4, H2, O2 und N2.
Wie Funktioniert Ein Drehrohrofen?
Wie Viele Verschiedene Arten Von Rohröfen Gibt Es?
Rohröfen können mit verschiedenen mechanischen Funktionen reibungslos arbeiten, daher gibt es viele verschiedene Rohrofenvarianten für verschiedene Versuchszwecke. Typische Ofenöfen sind wie folgt:
- Horizontaler Rohrofen
- Vertikaler Rohrofen
- Geteilter Rohrofen
- Drehrohrofen
- Kipprohrofen
- Schieberohrofen
- Schneller Heiz- und Kühlrohrofen
- Kontinuierlicher Zufuhr- und Abfuhrrohrofen
Was Ist Der Vorteil Des CVD-Systems?
- Es kann eine große Auswahl an Folien hergestellt werden, je nach Bedarf Metallfolien, Nichtmetallfolien und Mehrkomponenten-Legierungsfolien. Gleichzeitig können damit hochwertige Kristalle hergestellt werden, die mit anderen Methoden wie GaN, BP usw. nur schwer zu erhalten sind.
- Die Filmbildungsgeschwindigkeit ist hoch und beträgt normalerweise mehrere Mikrometer pro Minute oder sogar Hunderte Mikrometer pro Minute. Es ist möglich, große Mengen an Beschichtungen mit gleichmäßiger Zusammensetzung gleichzeitig abzuscheiden, was mit anderen Filmvorbereitungsmethoden wie Flüssigphasenepitaxie (LPE) und Molekularstrahlepitaxie (MBE) nicht zu vergleichen ist.
- Die Arbeitsbedingungen werden unter Normaldruck- oder Niedrigvakuumbedingungen durchgeführt, sodass die Beschichtung eine gute Beugung aufweist und Werkstücke mit komplexen Formen gleichmäßig beschichtet werden können, was PVD deutlich überlegen ist.
- Durch die gegenseitige Diffusion von Reaktionsgas, Reaktionsprodukt und Substrat kann eine Beschichtung mit guter Haftfestigkeit erhalten werden, die für die Herstellung oberflächenverstärkter Filme wie verschleißfester und korrosionsbeständiger Filme von entscheidender Bedeutung ist.
- Manche Filme wachsen bei einer Temperatur, die weit unter dem Schmelzpunkt des Filmmaterials liegt. Unter der Bedingung des Wachstums bei niedriger Temperatur reagieren das Reaktionsgas und die Reaktorwand sowie die darin enthaltenen Verunreinigungen nahezu nicht, sodass ein Film mit hoher Reinheit und guter Kristallinität erhalten werden kann.
- Durch chemische Gasphasenabscheidung kann eine glatte Abscheidungsoberfläche erzielt werden. Dies liegt daran, dass die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) im Vergleich zu LPE bei hoher Sättigung, mit hoher Keimbildungsrate, hoher Keimbildungsdichte und gleichmäßiger Verteilung auf der gesamten Ebene durchgeführt wird, was zu einer makroskopisch glatten Oberfläche führt. Gleichzeitig ist bei der chemischen Gasphasenabscheidung die durchschnittliche freie Weglänge von Molekülen (Atomen) viel größer als bei LPE, sodass die räumliche Verteilung der Moleküle gleichmäßiger ist, was der Bildung einer glatten Abscheidungsoberfläche förderlich ist.
- Geringe Strahlungsschäden, eine notwendige Voraussetzung für die Herstellung von Metalloxidhalbleitern (MOS) und anderen Geräten
Welche Vorteile Bietet Ein Drehrohrofen?
Welche Funktion Hat Ein Drehrohrofen?
Wofür Steht PECVD?
PECVD ist eine Technologie, die Plasma verwendet, um Reaktionsgas zu aktivieren, chemische Reaktionen auf der Oberfläche des Substrats oder im oberflächennahen Raum zu fördern und einen festen Film zu erzeugen. Das Grundprinzip der plasmachemischen Gasphasenabscheidungstechnologie besteht darin, dass unter der Einwirkung eines elektrischen HF- oder Gleichstromfeldes das Quellgas ionisiert wird, um ein Plasma zu bilden, das Niedertemperaturplasma als Energiequelle verwendet wird und eine geeignete Menge Reaktionsgas vorhanden ist eingeführt, und die Plasmaentladung wird verwendet, um das Reaktionsgas zu aktivieren und eine chemische Gasphasenabscheidung zu realisieren.
Je nach Methode zur Plasmaerzeugung kann es in HF-Plasma, Gleichstromplasma und Mikrowellenplasma-CVD usw. unterteilt werden.
Was Sind Die Vorteile Eines Drehrohrofens?
Was Ist Der Unterschied Zwischen CVD Und PECVD?
Der Unterschied zwischen PECVD und der herkömmlichen CVD-Technologie besteht darin, dass das Plasma eine große Anzahl hochenergetischer Elektronen enthält, die die im chemischen Gasphasenabscheidungsprozess erforderliche Aktivierungsenergie bereitstellen und so den Energieversorgungsmodus des Reaktionssystems ändern können. Da die Elektronentemperatur im Plasma bis zu 10.000 K beträgt, kann die Kollision zwischen Elektronen und Gasmolekülen das Aufbrechen chemischer Bindungen und die Rekombination der Reaktionsgasmoleküle fördern, um aktivere chemische Gruppen zu erzeugen, während das gesamte Reaktionssystem eine niedrigere Temperatur aufrechterhält.
Im Vergleich zum CVD-Verfahren kann PECVD also den gleichen chemischen Gasphasenabscheidungsprozess bei einer niedrigeren Temperatur durchführen.
4.9 / 5
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