Rohrofen
Vertikaler Rohrofen
Artikelnummer : KT-VTF
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Max. Temperatur
- 1800℃
- Durchmesser des Ofenrohrs
- 50 / 60 / 80 / 100 mm
- Länge der Heizzone
- 300 / 450 / 600 / 800 mm
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Vertikalrohröfen sind Laborgeräte, die für die Hochtemperaturverarbeitung von Materialien unter kontrollierten atmosphärischen Bedingungen eingesetzt werden. Sie bestehen aus einem vertikal ausgerichteten Quarzrohr, das von einer Heizkammer umschlossen ist, die eine präzise Temperaturregelung und gleichmäßige Wärmeverteilung ermöglicht. Diese Öfen werden in der Regel für verschiedene Anwendungen eingesetzt, z. B. für die Wärmebehandlung, das Abschrecken, das Glühen, die Kristallzüchtung und die Beschichtung durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD). Mit fortschrittlichen Funktionen wie programmierbaren Temperaturreglern, Vakuumversiegelungsmöglichkeiten und speziellem Zubehör für die Probenmanipulation bieten Vertikalrohröfen Vielseitigkeit und Genauigkeit bei der Materialverarbeitung. Ihre Fähigkeit, kontrollierte Atmosphären zu schaffen und hohe Temperaturen zu erreichen, macht sie zu unverzichtbaren Werkzeugen in Forschung und Entwicklung, Materialwissenschaft und industriellen Anwendungen.
Anwendungen
Vertikalrohröfen sind vielseitige Heizgeräte mit einer breiten Palette von Anwendungen in verschiedenen Industriezweigen und Laboratorien. Sie sind besonders nützlich für Prozesse, die eine präzise Temperaturregelung und die Möglichkeit zum Betrieb unter Vakuum oder kontrollierter Gasatmosphäre erfordern.
- Gasabschreckungstests: Vertikalrohröfen werden häufig für Gasabschreckungstests verwendet, bei denen Proben schnell von hohen Temperaturen in ein Abschreckmedium wie Eiswasser oder Öl abgekühlt werden. Auf diese Weise können Forscher die Phasenübergänge von Materialien und die Auswirkungen der schnellen Abkühlung auf die Materialeigenschaften untersuchen.
- Wärmebehandlung: Vertikalrohröfen werden für eine Vielzahl von Wärmebehandlungsverfahren eingesetzt, darunter Glühen, Anlassen und Spannungsarmglühen. Diese Verfahren können die mechanischen Eigenschaften von Werkstoffen verbessern, z. B. ihre Festigkeit, Härte und Duktilität.
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): Vertikale Rohröfen werden für CVD-Verfahren verwendet, bei denen eine dünne Schicht durch chemische Reaktionen in einer gasförmigen Umgebung auf einem Substrat abgeschieden wird. Diese Technik wird häufig in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von elektronischen Geräten eingesetzt.
- Kristallzüchtung: Vertikale Rohröfen werden für die Kristallzüchtung verwendet, bei der Kristalle aus einer geschmolzenen oder dampfförmigen Phase gezüchtet werden. Mit dieser Technik werden hochwertige Kristalle für den Einsatz in der Optik, Elektronik und anderen Anwendungen hergestellt.
- Materialprüfung: Vertikalrohröfen werden für Materialprüfungen eingesetzt, z. B. zur Messung der Wärmeleitfähigkeit, zur Bestimmung des Schmelzpunkts und für Phasenübergänge. Diese Tests liefern wertvolle Informationen über die Eigenschaften von Materialien.
- Andere Anwendungen: Vertikalrohröfen werden auch in verschiedenen anderen Anwendungen eingesetzt, darunter:
- Sintern
- Hartlöten
- Kalzinieren
- Keramische Erzeugnisse
- Glasbearbeitung
- Forschung im Labor
Verarbeitung von Pulvern
3. Aluminiumoxid polykristalline Faser Herd: hohe Temperaturbeständigkeit, lange Nutzung ohne Verformung, keine Rissbildung.
Prinzip
Vertikale Rohröfen arbeiten nach dem Prinzip der Strahlungswärmeübertragung. Das Heizelement, das in der Regel aus Molybdändisilicid (MoSi2) oder Siliciumcarbid (SiC) besteht, ist um das Vertikalrohr herum angeordnet und sendet Infrarotstrahlung aus, die von der Probe im Inneren absorbiert wird. Diese Strahlung erwärmt die Probe gleichmäßig und ermöglicht eine präzise und effiziente Temperaturkontrolle. Die Konstruktion des Ofens ermöglicht schnelle Aufheiz- und Abkühlgeschwindigkeiten, so dass er sich für verschiedene Anwendungen eignet, darunter Materialsynthese, Wärmebehandlung und Temperaturmessungen.
- Vorteile
- Vertikale oder schräg gestellte Ofenkammer: Dies ermöglicht die Durchführung verschiedener Experimente, einschließlich Fließbetterwärmung, Kristallziehwachstum, Abschrecken und mehr.
- Vielfältige mechanische Funktionen: Zu diesen Funktionen gehören das Aufhängen, Ziehen, Drehen und Freigeben von Proben, was die Vielseitigkeit der Versuchsaufbauten erhöht.
- Großer Arbeitstemperaturbereich: Max. Temperatur von bis zu 1800℃ ermöglicht ein breites Spektrum an Anwendungen.
- Spezialisierte Kutte Ausrüstung Anpassung: Ermöglicht die Anpassung des Ofens an spezifische experimentelle Anforderungen.
- Doppelte Ofenmantelkonstruktion: Ein erzwungener Luftstrom zwischen Innen- und Außenmantel sorgt für eine niedrige Oberflächentemperatur des Ofens und damit für Sicherheit.
- PID-programmierbare Temperaturregelung: Hervorragende Regelgenauigkeit und stabile Heizleistung, mit Fern- und Zentralsteuerungsoptionen.
- VTF Pro Touchscreen-Steuerung: Benutzerfreundliche Programmeinstellung, Datenanalyse und Rezeptverwaltung.
- Sicherheitsfunktionen: Überstromschutz, Übertemperaturalarm und thermische Kopplungserkennung für erhöhte Sicherheit.
Neustartfunktion bei Stromausfall: Setzt das Heizprogramm nach einem Stromausfall fort und gewährleistet so die Kontinuität des Experiments.
- Sicherheitsvorteil
- Der Kindle Tech Rohrofen verfügt über einen Überstromschutz und eine Übertemperaturalarmfunktion, der Ofen schaltet sich automatisch aus, sobald ein Überstrom erkannt wird
- Der Ofen verfügt über eine Funktion zur Erkennung von thermischen Kopplungen, der Ofen stoppt die Heizung und ein Alarm wird ausgelöst, sobald eine thermische Kopplung unterbrochen oder ein Fehler erkannt wird
VTF Pro unterstützt die Neustartfunktion bei Stromausfall, der Ofen nimmt das Heizprogramm wieder auf, wenn die Stromversorgung nach dem Ausfall wiederhergestellt ist.
Technische Daten | Modell des Ofens | KT-VTF |
---|---|---|
KT-VTF PRO | Temperaturregler | Digitaler PID-Regler |
PID-Regler mit Touchscreen | Multi-Programm-Voreinstellung | nein |
ja | Neustart bei Stromausfall | nein |
ja | Max. Temperatur | |
1800℃ | Material des Ofenrohrs | |
Hochwertiger Quarz/Al2O3-Tonerde | Durchmesser des Ofenrohrs | |
50 / 60 / 80 / 100 mm | Länge der Heizzone | |
300/450/600/800 mm | Lösung für die Vakuumversiegelung | |
SS 304 Flansch mit massivem Kupferdichtring | Nennvakuumdruck | |
0,001Pa/10E5 Torr | Material der Kammer | |
Japanische Al2O3-Tonerde-Faser | Heizelement | |
Cr2Al2Mo2-Drahtspule/SiC/MoSi2 | Thermisches Paar | |
Typ K /S/B | Genauigkeit der Temperaturregelung | |
±1℃ | Elektrische Energieversorgung | |
AC110-220V,50/60HZ |
Andere Ofenrohrgröße und Heizzonenlänge können angepasst werden
Standard-Paket | Nr. | Beschreibung |
---|---|---|
Menge | 1 | Ofen |
1 | 2 | Tonerde-Rohr |
1 | 3 | Vakuumflansch |
2 | 4 | Thermoblock der Röhre |
2 | 5 | Rohr Thermoblockhaken |
1 | 6 | Hitzebeständiger Handschuh |
1 | 7 | Betriebshandbuch |
1
- Optionale Einrichtung
- Erkennung und Überwachung von Gasen im Rohr, wie H2, O2 und so weiter
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485 Kommunikationsanschluss für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Kontrolle der Gaszufuhr, wie Massedurchflussmesser und Schwebekörper-Durchflussmesser
- Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen bedienerfreundlichen Funktionen
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
Für Sie entworfen
KinTek bietet umfassenden, maßgeschneiderten Service und Ausrüstung für Kunden auf der ganzen Welt. Unsere spezialisierte Teamarbeit und unsere erfahrenen Ingenieure sind in der Lage, die kundenspezifischen Hardware- und Software-Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen und unseren Kunden beim Aufbau der exklusiven und personalisierten Ausrüstung und Lösung zu helfen!
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FAQ
Was ist ein Rohrofen?
Der Laborrohrofen ist ein klassischer Hochtemperatur-Rohrofen mit externer Heizung, auch Heißwandheizofen genannt.
Abhängig von der unterschiedlichen Arbeitstemperatur kann das Ofenrohrmaterial normalerweise aus transparenten Quarzrohren, hochreinen Aluminiumoxid-Keramikrohren und hochfesten Metalllegierungsrohren bestehen.
Um unterschiedliche thermische Forschungszwecke zu erfüllen, können Rohröfen mit mehreren Heizzonen ausgestattet werden, um eine flexible Steuerung des Temperaturgradienten in der Rohrarbeitskammer zu ermöglichen. Das Ofenrohr kann in einer Arbeitsumgebung mit kontrollierter Atmosphäre oder in einer Hochvakuum-Arbeitsumgebung betrieben werden.
Was ist ein CVD-Ofen?
Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) handelt es sich um eine Technologie, die verschiedene Energiequellen wie Erhitzen, Plasmaanregung oder Lichtstrahlung nutzt, um gasförmige oder dampfförmige chemische Substanzen an der Gasphase oder Gas-Feststoff-Grenzfläche chemisch zu reagieren und so feste Ablagerungen im Reaktor zu bilden chemische Reaktion. Vereinfacht ausgedrückt werden zwei oder mehr gasförmige Rohstoffe in eine Reaktionskammer eingeleitet, reagieren dann miteinander, bilden ein neues Material und scheiden es auf der Substratoberfläche ab.
Der CVD-Ofen ist ein kombiniertes Ofensystem mit einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer Gassteuereinheit und einer Vakuumeinheit. Er wird häufig für Experimente und die Produktion von Verbundwerkstoffvorbereitungen, mikroelektronischen Prozessen, Halbleiter-Optoelektronik, Solarenergienutzung, Glasfaserkommunikation und Supraleitern verwendet Technologie, Schutzbeschichtungsbereich.
Was ist ein Drehrohrofen?
Wie funktioniert ein Rohrofen?
Die Heizelemente des Rohrofens sind um den zylindrischen Hohlraum herum angeordnet. Der Ofen kann die Proben im zylindrischen Hohlraum nur durch indirekte Wärmestrahlung erwärmen, da das Ofenrohr verhindern kann, dass das Probenmaterial mit den Heizelementen und Isoliermaterialien des Ofens in Kontakt kommt, sodass der Rohrofen eine saubere Isolierung schafft Wärmekammer und verringern das Risiko einer Kontamination des Probenmaterials durch den Ofen.
Wie funktioniert ein CVD-Ofen?
Das CVD-Ofensystem besteht aus einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer präzisen Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle, einer Vakuumpumpstation und entsprechenden Montageteilen.
Die Vakuumpumpe dient dazu, die Luft aus dem Reaktionsrohr zu entfernen und sicherzustellen, dass sich keine unerwünschten Gase im Reaktionsrohr befinden. Anschließend heizt der Rohrofen das Reaktionsrohr auf eine Zieltemperatur auf. Anschließend kann die präzise Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle eine andere einleiten Gase werden in einem festgelegten Verhältnis in das Ofenrohr für die chemische Reaktion eingeleitet, die chemische Gasphasenabscheidung erfolgt im CVD-Ofen.
Was ist ein atmosphärischer Ofen?
Wie funktioniert ein Drehrohrofen?
Was ist die Anwendung für Rohröfen?
Rohröfen werden hauptsächlich in der Metallurgie, Glas, Wärmebehandlung, Lithiumanoden- und -kathodenmaterialien, neuen Energien, Schleifmitteln und anderen Industrien eingesetzt und sind eine professionelle Ausrüstung zur Messung von Materialien unter bestimmten Temperaturbedingungen.
Der Rohrofen zeichnet sich durch einfache Struktur, einfache Bedienung, einfache Steuerung und kontinuierliche Produktion aus.
Rohröfen werden auch häufig in CVD-Systemen (chemische Gasphasenabscheidung) und plasmaunterstützten CVD-Systemen eingesetzt.
Welches Gas wird im CVD-Prozess verwendet?
Es gibt enorme Gasquellen, die im CVD-Prozess verwendet werden können. Zu den üblichen chemischen Reaktionen von CVD gehören Pyrolyse, Photolyse, Reduktion, Oxidation und Redox, sodass die an diesen chemischen Reaktionen beteiligten Gase im CVD-Prozess verwendet werden können.
Nehmen wir als Beispiel das CVD-Graphenwachstum. Die im CVD-Prozess verwendeten Gase sind CH4, H2, O2 und N2.
Wozu dient ein Atmosphärenofen?
Welche Drehofentypen gibt es?
Welche Vorteile bietet ein Drehrohrofen?
Welche Funktion hat ein Drehrohrofen?
Wie viele verschiedene Arten von Rohröfen gibt es?
Rohröfen können mit verschiedenen mechanischen Funktionen reibungslos arbeiten, daher gibt es viele verschiedene Rohrofenvarianten für verschiedene Versuchszwecke. Typische Ofenöfen sind wie folgt:
- Horizontaler Rohrofen
- Vertikaler Rohrofen
- Geteilter Rohrofen
- Drehrohrofen
- Kipprohrofen
- Schieberohrofen
- Schneller Heiz- und Kühlrohrofen
- Kontinuierlicher Zufuhr- und Abfuhrrohrofen
Was ist der Vorteil des CVD-Systems?
- Es kann eine große Auswahl an Folien hergestellt werden, je nach Bedarf Metallfolien, Nichtmetallfolien und Mehrkomponenten-Legierungsfolien. Gleichzeitig können damit hochwertige Kristalle hergestellt werden, die mit anderen Methoden wie GaN, BP usw. nur schwer zu erhalten sind.
- Die Filmbildungsgeschwindigkeit ist hoch und beträgt normalerweise mehrere Mikrometer pro Minute oder sogar Hunderte Mikrometer pro Minute. Es ist möglich, große Mengen an Beschichtungen mit gleichmäßiger Zusammensetzung gleichzeitig abzuscheiden, was mit anderen Filmvorbereitungsmethoden wie Flüssigphasenepitaxie (LPE) und Molekularstrahlepitaxie (MBE) nicht zu vergleichen ist.
- Die Arbeitsbedingungen werden unter Normaldruck- oder Niedrigvakuumbedingungen durchgeführt, sodass die Beschichtung eine gute Beugung aufweist und Werkstücke mit komplexen Formen gleichmäßig beschichtet werden können, was PVD deutlich überlegen ist.
- Durch die gegenseitige Diffusion von Reaktionsgas, Reaktionsprodukt und Substrat kann eine Beschichtung mit guter Haftfestigkeit erhalten werden, die für die Herstellung oberflächenverstärkter Filme wie verschleißfester und korrosionsbeständiger Filme von entscheidender Bedeutung ist.
- Manche Filme wachsen bei einer Temperatur, die weit unter dem Schmelzpunkt des Filmmaterials liegt. Unter der Bedingung des Wachstums bei niedriger Temperatur reagieren das Reaktionsgas und die Reaktorwand sowie die darin enthaltenen Verunreinigungen nahezu nicht, sodass ein Film mit hoher Reinheit und guter Kristallinität erhalten werden kann.
- Durch chemische Gasphasenabscheidung kann eine glatte Abscheidungsoberfläche erzielt werden. Dies liegt daran, dass die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) im Vergleich zu LPE bei hoher Sättigung, mit hoher Keimbildungsrate, hoher Keimbildungsdichte und gleichmäßiger Verteilung auf der gesamten Ebene durchgeführt wird, was zu einer makroskopisch glatten Oberfläche führt. Gleichzeitig ist bei der chemischen Gasphasenabscheidung die durchschnittliche freie Weglänge von Molekülen (Atomen) viel größer als bei LPE, sodass die räumliche Verteilung der Moleküle gleichmäßiger ist, was der Bildung einer glatten Abscheidungsoberfläche förderlich ist.
- Geringe Strahlungsschäden, eine notwendige Voraussetzung für die Herstellung von Metalloxidhalbleitern (MOS) und anderen Geräten
Was sind die Vorteile eines Rotorofens?
Was sind die Vorteile eines Drehrohrofens?
Wofür steht PECVD?
PECVD ist eine Technologie, die Plasma verwendet, um Reaktionsgas zu aktivieren, chemische Reaktionen auf der Oberfläche des Substrats oder im oberflächennahen Raum zu fördern und einen festen Film zu erzeugen. Das Grundprinzip der plasmachemischen Gasphasenabscheidungstechnologie besteht darin, dass unter der Einwirkung eines elektrischen HF- oder Gleichstromfeldes das Quellgas ionisiert wird, um ein Plasma zu bilden, das Niedertemperaturplasma als Energiequelle verwendet wird und eine geeignete Menge Reaktionsgas vorhanden ist eingeführt, und die Plasmaentladung wird verwendet, um das Reaktionsgas zu aktivieren und eine chemische Gasphasenabscheidung zu realisieren.
Je nach Methode zur Plasmaerzeugung kann es in HF-Plasma, Gleichstromplasma und Mikrowellenplasma-CVD usw. unterteilt werden.
Wie hoch ist der Wirkungsgrad eines Drehrohrofens?
Was ist der Unterschied zwischen CVD und PECVD?
Der Unterschied zwischen PECVD und der herkömmlichen CVD-Technologie besteht darin, dass das Plasma eine große Anzahl hochenergetischer Elektronen enthält, die die im chemischen Gasphasenabscheidungsprozess erforderliche Aktivierungsenergie bereitstellen und so den Energieversorgungsmodus des Reaktionssystems ändern können. Da die Elektronentemperatur im Plasma bis zu 10.000 K beträgt, kann die Kollision zwischen Elektronen und Gasmolekülen das Aufbrechen chemischer Bindungen und die Rekombination der Reaktionsgasmoleküle fördern, um aktivere chemische Gruppen zu erzeugen, während das gesamte Reaktionssystem eine niedrigere Temperatur aufrechterhält.
Im Vergleich zum CVD-Verfahren kann PECVD also den gleichen chemischen Gasphasenabscheidungsprozess bei einer niedrigeren Temperatur durchführen.
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