CVD- und PECVD-Ofen
Mehrzonen-CVD-Röhrenofenmaschine für chemische Gasphasenabscheidung
Artikelnummer : KT-CTF14
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Maximale Temperatur
- 1400 ℃
- Konstante Arbeitstemperatur
- 1300 ℃
- Ofenrohrdurchmesser
- 60 mm
- Heizzone
- 2x450 mm
- Aufheizrate
- 0-10 ℃/min
Versand:
Kontaktieren Sie uns um Versanddetails zu erhalten. Genießen Sie Garantie für pünktliche Lieferung.
Warum uns wählen
Zuverlässiger PartnerEinfacher Bestellprozess, Qualitätsprodukte und engagierter Support für Ihren Geschäftserfolg.
Einleitung
Ein Mehrzonen-CVD-Röhrenofen ist ein Laborgerät, das für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) verwendet wird. CVD ist ein Prozess, bei dem durch die chemische Reaktion eines Gases oder Dampfes ein dünner Film auf einem Substrat abgeschieden wird. Mehrzonen-CVD-Röhrenöfen verfügen über mehrere Heizzonen, die eine präzise Steuerung des Temperaturprofils innerhalb des Ofens ermöglichen. Dies ist für viele CVD-Prozesse wichtig, da die Temperatur die Eigenschaften des abgeschiedenen Films beeinflussen kann.
Mehrzonen-CVD-Röhrenöfen werden typischerweise für Forschungs- und Entwicklungszwecke eingesetzt, können aber auch in Produktionsanwendungen verwendet werden. Sie sind in verschiedenen Größen und Konfigurationen erhältlich und können an die spezifischen Anforderungen einer bestimmten Anwendung angepasst werden.
Anwendungen
Der Mehrzonen-CVD-Röhrenofen für chemische Gasphasenabscheidung wird in verschiedenen Bereichen eingesetzt, darunter:
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): Wachstum von dünnen Schichten für elektronische Geräte, Halbleiter und Solarzellen
- Diffusion: Dotierung von Halbleitern und Metallen
- Glühen: Wärmebehandlung von Materialien zur Verbesserung ihrer Eigenschaften
- Sintern: Verbindung von Materialien durch Wärme und Druck
- Wärmebehandlungen: Gesteuertes Erhitzen und Abkühlen von Materialien für verschiedene Zwecke
Details & Teile
Schematische Darstellung des typischen Reaktionskammeraufbaus von Röhren-PECVD-Geräten: 1. Abluftöffnung; 2. Endflansch; 3. End-Wasserkühlflansch; 4. End-Dichtflansch; 5. End-Befestigungsflansch; 6. Elektrode; 7. Graphittiegel; 8. Quarz-Ofenrohr; 9. Vorderer Befestigungsflansch; 10. Vorderer Wasserkühlflansch; 11. Vorderer Lufteinlassflansch; 12. Ofentür
Prinzip
Die Mehrzonen-CVD-Röhrenofenmaschine nutzt die chemische Gasphasenabscheidung (CVD), um dünne Schichten auf Substraten abzuscheiden. CVD ist ein Prozess, bei dem gasförmige Vorläufer reagieren, um ein festes Schichtmaterial zu bilden. Bei diesem Ofen sind die gasförmigen Vorläufer typischerweise metallorganische Verbindungen und/oder Hydride, die in die Ofenkammer eingeleitet werden und miteinander reagieren, um das gewünschte Schichtmaterial zu bilden. Der Ofen ist mit mehreren Heizzonen ausgestattet, die eine präzise Steuerung der Abscheidetemperatur und des Temperaturgradienten ermöglichen. Dies ermöglicht die Abscheidung hochwertiger Schichten mit maßgeschneiderten Eigenschaften wie Dicke, Zusammensetzung und Kristallinität. Der Ofen verfügt außerdem über ein Vakuumsystem, das die Entfernung von Verunreinigungen und die Kontrolle des Abscheidedrucks ermöglicht.
Merkmale
Mehrzonen-CVD-Röhrenöfen bieten eine breite Palette von Vorteilen für die Benutzer, darunter:
- Unabhängige Heizzonen: Ermöglicht die Erzeugung längerer Konstanttemperaturfelder sowie kontrollierter Temperaturgradienten. Dies ist ideal für Anwendungen, bei denen eine präzise Temperaturregelung entscheidend ist.
- PID programmierbare Temperaturregelung: Bietet eine ausgezeichnete Regelgenauigkeit und unterstützt Fern- und Zentralsteuerung. Dies erleichtert die Überwachung und Anpassung der Ofentemperatur von überall.
- Hochpräzise MFC-Massendurchflussmessersteuerung: Gewährleistet eine stabile Gaszufuhrgeschwindigkeit. Dies ist wichtig für Anwendungen, bei denen eine präzise Steuerung des Gasflusses entscheidend ist.
- Vakuumflansch aus Edelstahl mit verschiedenen Anschlussstutzen: Bietet eine gute Abdichtung und einen hohen Vakuumgrad. Dies ist ideal für Anwendungen, bei denen ein hohes Vakuum erforderlich ist.
- KT-CTF14 Pro verfügt über einen 7-Zoll-TFT-Touchscreen-Controller: Dies erleichtert die Programmeinstellung und die Analyse von historischen Daten. Dies ist ideal für Anwendungen, bei denen eine benutzerfreundliche Bedienung wichtig ist.
Vorteile
- Unabhängige Heizzonen: Erzeugen ein längeres Konstanttemperaturfeld und einen kontrollierten Temperaturgradienten.
- PID programmierbare Temperaturregelung: Ausgezeichnete Regelgenauigkeit, Unterstützung für Fern- und Zentralsteuerung.
- Hochpräzise MFC-Massendurchflussmessersteuerung: Vormischung der Quellgase und stabile Gaszufuhrgeschwindigkeit.
- Vakuumflansch aus Edelstahl: Verschiedene Anschlussstutzen für unterschiedliche Vakuum-Pumpenaufbauten, gute Abdichtung und hoher Vakuumgrad.
- KT-CTF14 Pro Controller: 7-Zoll-TFT-Touchscreen, benutzerfreundliche Programmeinstellung und Analyse von historischen Daten.
- Mehrzweck: CVD, Diffusion und andere Wärmebehandlungen unter Vakuum und Schutzgasatmosphäre.
- Energieeinsparung: Keramikfaser-Material und doppelwandige Konstruktion reduzieren die Außentemperatur.
- Lange Temperaturzone: Einfach zu bedienen.
- Zuverlässige Abdichtung: Hoher umfassender Leistungindex.
- Materialoptionen: Ofenrohr erhältlich in hitzebeständigem Stahl, Quarzglas und Keramik.
- Breite Anwendungen: Elementanalyse und -bestimmung, Härten, Glühen, Anlassen kleiner Stahlteile, elektronische Keramik und andere neue Materialien.
Technische Spezifikationen
| Ofenmodell | KT-CTF14-60 |
|---|---|
| Max. Temperatur | 1400℃ |
| Konstante Arbeitstemperatur | 1300℃ |
| Ofenrohrmaterial | Hochreines Al₂O₃-Rohr |
| Ofenrohrdurchmesser | 60mm |
| Heizzone | 2x450mm |
| Kammer-Material | Polykristalline Aluminiumoxidfaser |
| Heizelement | Siliziumkarbid |
| Aufheizrate | 0-10℃/min |
| Thermoelement | S-Typ |
| Temperaturregler | Digitaler PID-Regler/Touchscreen-PID-Regler |
| Temperaturregelgenauigkeit | ±1℃ |
| Präzise Gasregelungs-Einheit | |
| Durchflussmesser | MFC-Massendurchflussmesser |
| Gaskanäle | 4 Kanäle |
| Durchflussrate | MFC1: 0-5SCCM O₂ MFC2: 0-20SCMCH₄ MFC3: 0- 100SCCM H₂ MFC4: 0-500 SCCM N₂ |
| Linearität | ±0,5% F.S. |
| Wiederholgenauigkeit | ±0,2% F.S. |
| Rohrleitung und Ventil | Edelstahl |
| Maximaler Betriebsdruck | 0,45 MPa |
| Durchflussmesser-Regler | Digitaler Drehknopf-Regler/Touchscreen-Regler |
| Standard-Vakuum-Einheit (optional) | |
| Vakuumpumpe | Rotationsschieber-Vakuumpumpe |
| Pumpen-Durchflussrate | 4L/S |
| Vakuumansaugstutzen | KF25 |
| Vakuummeter | Pirani/Widerstands-Silizium-Vakuummeter |
| Nenndruck Vakuum | 10Pa |
| Hochvakuum-Einheit (optional) | |
| Vakuumpumpe | Rotationsschieberpumpe + Molekularpumpe |
| Pumpen-Durchflussrate | 4L/S+110L/S |
| Vakuumansaugstutzen | KF25 |
| Vakuummeter | Kombinations-Vakuummeter |
| Nenndruck Vakuum | 6x10⁻⁵Pa |
| Die oben genannten Spezifikationen und Setups können angepasst werden | |
Standardpaket
| Nr. | Beschreibung | Menge |
|---|---|---|
| 1 | Ofen | 1 |
| 2 | Quarzrohr | 1 |
| 3 | Vakuumflansch | 2 |
| 4 | Rohr-Wärmeblock | 2 |
| 5 | Rohr-Wärmeblock-Haken | 1 |
| 6 | Hitzebeständige Handschuhe | 1 |
| 7 | Präzise Gassteuerung | 1 |
| 8 | Vakuum-Einheit | 1 |
| 9 | Bedienungsanleitung | 1 |
Optionale Einrichtung
- Detektion und Überwachung von Gasen im Rohr, wie H₂, O₂ usw.
- Unabhängige Überwachung und Aufzeichnung der Ofentemperatur
- RS 485 Kommunikationsport für PC-Fernsteuerung und Datenexport
- Steuerung der Einlassgas-Durchflussrate, wie Massendurchflussmesser und Schwimmkörper-Durchflussmesser
- Touchscreen-Temperaturregler mit vielseitigen, benutzerfreundlichen Funktionen
- Hochvakuum-Pumpenaufbauten, wie Schiebervakuum-Pumpe, Molekularpumpe, Diffusionspumpe
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
Für Sie entworfen
KinTek bietet umfassenden, maßgeschneiderten Service und Ausrüstung für Kunden auf der ganzen Welt. Unsere spezialisierte Teamarbeit und unsere erfahrenen Ingenieure sind in der Lage, die kundenspezifischen Hardware- und Software-Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen und unseren Kunden beim Aufbau der exklusiven und personalisierten Ausrüstung und Lösung zu helfen!
Bitte senden Sie uns Ihre Ideen, unsere Ingenieure sind jetzt für Sie bereit!
FAQ
Was Ist Ein CVD-Ofen?
Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) handelt es sich um eine Technologie, die verschiedene Energiequellen wie Erhitzen, Plasmaanregung oder Lichtstrahlung nutzt, um gasförmige oder dampfförmige chemische Substanzen an der Gasphase oder Gas-Feststoff-Grenzfläche chemisch zu reagieren und so feste Ablagerungen im Reaktor zu bilden chemische Reaktion. Vereinfacht ausgedrückt werden zwei oder mehr gasförmige Rohstoffe in eine Reaktionskammer eingeleitet, reagieren dann miteinander, bilden ein neues Material und scheiden es auf der Substratoberfläche ab.
Der CVD-Ofen ist ein kombiniertes Ofensystem mit einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer Gassteuereinheit und einer Vakuumeinheit. Er wird häufig für Experimente und die Produktion von Verbundwerkstoffvorbereitungen, mikroelektronischen Prozessen, Halbleiter-Optoelektronik, Solarenergienutzung, Glasfaserkommunikation und Supraleitern verwendet Technologie, Schutzbeschichtungsbereich.
Was Ist Ein Rohrofen?
Der Laborrohrofen ist ein klassischer Hochtemperatur-Rohrofen mit externer Heizung, auch Heißwandheizofen genannt.
Abhängig von der unterschiedlichen Arbeitstemperatur kann das Ofenrohrmaterial normalerweise aus transparenten Quarzrohren, hochreinen Aluminiumoxid-Keramikrohren und hochfesten Metalllegierungsrohren bestehen.
Um unterschiedliche thermische Forschungszwecke zu erfüllen, können Rohröfen mit mehreren Heizzonen ausgestattet werden, um eine flexible Steuerung des Temperaturgradienten in der Rohrarbeitskammer zu ermöglichen. Das Ofenrohr kann in einer Arbeitsumgebung mit kontrollierter Atmosphäre oder in einer Hochvakuum-Arbeitsumgebung betrieben werden.
Wie Funktioniert Ein CVD-Ofen?
Das CVD-Ofensystem besteht aus einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer präzisen Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle, einer Vakuumpumpstation und entsprechenden Montageteilen.
Die Vakuumpumpe dient dazu, die Luft aus dem Reaktionsrohr zu entfernen und sicherzustellen, dass sich keine unerwünschten Gase im Reaktionsrohr befinden. Anschließend heizt der Rohrofen das Reaktionsrohr auf eine Zieltemperatur auf. Anschließend kann die präzise Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle eine andere einleiten Gase werden in einem festgelegten Verhältnis in das Ofenrohr für die chemische Reaktion eingeleitet, die chemische Gasphasenabscheidung erfolgt im CVD-Ofen.
Wie Funktioniert Ein Rohrofen?
Die Heizelemente des Rohrofens sind um den zylindrischen Hohlraum herum angeordnet. Der Ofen kann die Proben im zylindrischen Hohlraum nur durch indirekte Wärmestrahlung erwärmen, da das Ofenrohr verhindern kann, dass das Probenmaterial mit den Heizelementen und Isoliermaterialien des Ofens in Kontakt kommt, sodass der Rohrofen eine saubere Isolierung schafft Wärmekammer und verringern das Risiko einer Kontamination des Probenmaterials durch den Ofen.
Welches Gas Wird Im CVD-Prozess Verwendet?
Es gibt enorme Gasquellen, die im CVD-Prozess verwendet werden können. Zu den üblichen chemischen Reaktionen von CVD gehören Pyrolyse, Photolyse, Reduktion, Oxidation und Redox, sodass die an diesen chemischen Reaktionen beteiligten Gase im CVD-Prozess verwendet werden können.
Nehmen wir als Beispiel das CVD-Graphenwachstum. Die im CVD-Prozess verwendeten Gase sind CH4, H2, O2 und N2.
Was Ist Das Grundprinzip Von CVD?
Was Ist Die Anwendung Für Rohröfen?
Rohröfen werden hauptsächlich in der Metallurgie, Glas, Wärmebehandlung, Lithiumanoden- und -kathodenmaterialien, neuen Energien, Schleifmitteln und anderen Industrien eingesetzt und sind eine professionelle Ausrüstung zur Messung von Materialien unter bestimmten Temperaturbedingungen.
Der Rohrofen zeichnet sich durch einfache Struktur, einfache Bedienung, einfache Steuerung und kontinuierliche Produktion aus.
Rohröfen werden auch häufig in CVD-Systemen (chemische Gasphasenabscheidung) und plasmaunterstützten CVD-Systemen eingesetzt.
Was Ist Der Vorteil Des CVD-Systems?
- Es kann eine große Auswahl an Folien hergestellt werden, je nach Bedarf Metallfolien, Nichtmetallfolien und Mehrkomponenten-Legierungsfolien. Gleichzeitig können damit hochwertige Kristalle hergestellt werden, die mit anderen Methoden wie GaN, BP usw. nur schwer zu erhalten sind.
- Die Filmbildungsgeschwindigkeit ist hoch und beträgt normalerweise mehrere Mikrometer pro Minute oder sogar Hunderte Mikrometer pro Minute. Es ist möglich, große Mengen an Beschichtungen mit gleichmäßiger Zusammensetzung gleichzeitig abzuscheiden, was mit anderen Filmvorbereitungsmethoden wie Flüssigphasenepitaxie (LPE) und Molekularstrahlepitaxie (MBE) nicht zu vergleichen ist.
- Die Arbeitsbedingungen werden unter Normaldruck- oder Niedrigvakuumbedingungen durchgeführt, sodass die Beschichtung eine gute Beugung aufweist und Werkstücke mit komplexen Formen gleichmäßig beschichtet werden können, was PVD deutlich überlegen ist.
- Durch die gegenseitige Diffusion von Reaktionsgas, Reaktionsprodukt und Substrat kann eine Beschichtung mit guter Haftfestigkeit erhalten werden, die für die Herstellung oberflächenverstärkter Filme wie verschleißfester und korrosionsbeständiger Filme von entscheidender Bedeutung ist.
- Manche Filme wachsen bei einer Temperatur, die weit unter dem Schmelzpunkt des Filmmaterials liegt. Unter der Bedingung des Wachstums bei niedriger Temperatur reagieren das Reaktionsgas und die Reaktorwand sowie die darin enthaltenen Verunreinigungen nahezu nicht, sodass ein Film mit hoher Reinheit und guter Kristallinität erhalten werden kann.
- Durch chemische Gasphasenabscheidung kann eine glatte Abscheidungsoberfläche erzielt werden. Dies liegt daran, dass die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) im Vergleich zu LPE bei hoher Sättigung, mit hoher Keimbildungsrate, hoher Keimbildungsdichte und gleichmäßiger Verteilung auf der gesamten Ebene durchgeführt wird, was zu einer makroskopisch glatten Oberfläche führt. Gleichzeitig ist bei der chemischen Gasphasenabscheidung die durchschnittliche freie Weglänge von Molekülen (Atomen) viel größer als bei LPE, sodass die räumliche Verteilung der Moleküle gleichmäßiger ist, was der Bildung einer glatten Abscheidungsoberfläche förderlich ist.
- Geringe Strahlungsschäden, eine notwendige Voraussetzung für die Herstellung von Metalloxidhalbleitern (MOS) und anderen Geräten
Welche Verschiedenen Arten Von CVD-Methoden Gibt Es?
Wie Viele Verschiedene Arten Von Rohröfen Gibt Es?
Rohröfen können mit verschiedenen mechanischen Funktionen reibungslos arbeiten, daher gibt es viele verschiedene Rohrofenvarianten für verschiedene Versuchszwecke. Typische Ofenöfen sind wie folgt:
- Horizontaler Rohrofen
- Vertikaler Rohrofen
- Geteilter Rohrofen
- Drehrohrofen
- Kipprohrofen
- Schieberohrofen
- Schneller Heiz- und Kühlrohrofen
- Kontinuierlicher Zufuhr- und Abfuhrrohrofen
Wofür Steht PECVD?
PECVD ist eine Technologie, die Plasma verwendet, um Reaktionsgas zu aktivieren, chemische Reaktionen auf der Oberfläche des Substrats oder im oberflächennahen Raum zu fördern und einen festen Film zu erzeugen. Das Grundprinzip der plasmachemischen Gasphasenabscheidungstechnologie besteht darin, dass unter der Einwirkung eines elektrischen HF- oder Gleichstromfeldes das Quellgas ionisiert wird, um ein Plasma zu bilden, das Niedertemperaturplasma als Energiequelle verwendet wird und eine geeignete Menge Reaktionsgas vorhanden ist eingeführt, und die Plasmaentladung wird verwendet, um das Reaktionsgas zu aktivieren und eine chemische Gasphasenabscheidung zu realisieren.
Je nach Methode zur Plasmaerzeugung kann es in HF-Plasma, Gleichstromplasma und Mikrowellenplasma-CVD usw. unterteilt werden.
Was Ist Der Unterschied Zwischen CVD Und PECVD?
Der Unterschied zwischen PECVD und der herkömmlichen CVD-Technologie besteht darin, dass das Plasma eine große Anzahl hochenergetischer Elektronen enthält, die die im chemischen Gasphasenabscheidungsprozess erforderliche Aktivierungsenergie bereitstellen und so den Energieversorgungsmodus des Reaktionssystems ändern können. Da die Elektronentemperatur im Plasma bis zu 10.000 K beträgt, kann die Kollision zwischen Elektronen und Gasmolekülen das Aufbrechen chemischer Bindungen und die Rekombination der Reaktionsgasmoleküle fördern, um aktivere chemische Gruppen zu erzeugen, während das gesamte Reaktionssystem eine niedrigere Temperatur aufrechterhält.
Im Vergleich zum CVD-Verfahren kann PECVD also den gleichen chemischen Gasphasenabscheidungsprozess bei einer niedrigeren Temperatur durchführen.
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's CVD tube furnace is a game-changer in our lab. The precise temperature control and uniform heating ensure consistent results every time.
4.7
out of
5
The CVD machine is a highly versatile and reliable equipment. The multi-zone heating allows us to create various temperature profiles, making it suitable for a wide range of experiments.
4.9
out of
5
The speed of delivery was impressive. We received the furnace within a week of placing the order, allowing us to start our experiments promptly.
4.8
out of
5
The value for money is exceptional. KINTEK SOLUTION provides high-quality equipment at a reasonable price, making it an excellent choice for labs with budget constraints.
4.7
out of
5
The after-sales service is top-notch. The KINTEK SOLUTION team is always responsive and provides prompt support, ensuring our lab's smooth operation.
4.9
out of
5
The durability of the CVD tube furnace is remarkable. We have been using it extensively for over a year, and it continues to perform flawlessly, delivering consistent results.
4.8
out of
5
The technological advancement of this CVD machine is truly impressive. The multi-zone heating, precise temperature control, and user-friendly interface make it an invaluable asset to our lab.
4.7
out of
5
The CVD tube furnace has significantly improved the efficiency of our research. The fast heating and cooling rates allow us to conduct experiments more quickly, saving valuable time.
4.9
out of
5
The CVD machine from KINTEK SOLUTION is a reliable workhorse in our lab. It operates smoothly, providing consistent and accurate results, which are crucial for our research.
Produkte
Mehrzonen-CVD-Röhrenofenmaschine für chemische Gasphasenabscheidung
Fordern Sie ein Angebot an
Unser professionelles Team wird Ihnen innerhalb eines Werktages antworten. Sie können uns gerne kontaktieren!
Ähnliche Produkte
Geteilter Kammer-CVD-Röhrenofen mit Vakuumpumpe, Anlage für chemische Gasphasenabscheidung
Effizienter CVD-Ofen mit geteilter Kammer und Vakuumpumpe für intuitive Probenkontrolle und schnelle Kühlung. Maximale Temperatur bis 1200℃ mit präziser MFC-Massendurchflussreglersteuerung.
Wir stellen unseren schräg rotierenden PECVD-Ofen für präzise Dünnschichtabscheidung vor. Genießen Sie automatische Anpassungsquelle, programmierbare PID-Temperaturregelung und hochpräzise MFC-Massendurchflussmessersteuerung. Eingebaute Sicherheitsfunktionen für Seelenfrieden.
Vertikaler Labor-Quarzrohr-Ofen Rohr-Ofen
Verbessern Sie Ihre Experimente mit unserem vertikalen Rohr-Ofen. Das vielseitige Design ermöglicht den Betrieb in verschiedenen Umgebungen und für Wärmebehandlungsanwendungen. Bestellen Sie jetzt für präzise Ergebnisse!
Rotationsrohrofen mit geteilter Mehrfachheizzone
Rotationsrohrofen mit mehreren Zonen für hochpräzise Temperaturregelung mit 2-8 unabhängigen Heizzonen. Ideal für Elektrodenmaterialien für Lithium-Ionen-Batterien und Hochtemperaturreaktionen. Kann unter Vakuum und kontrollierter Atmosphäre arbeiten.
Vakuum-Heißpress-Ofen Beheizte Vakuum-Pressmaschine Rohröfen
Reduzieren Sie den Formdruck und verkürzen Sie die Sinterzeit mit dem Vakuum-Rohr-Heißpress-Ofen für hochdichte Materialien mit feiner Körnung. Ideal für hochschmelzende Metalle.
Hochdruck-Labor-Vakuumröhrentiegelofen Quarzrohr-Ofen
KT-PTF Hochdruck-Röhrenofen: Kompakter, geteilter Röhrenofen mit starkem Überdruckwiderstand. Arbeitstemperatur bis 1100°C und Druck bis 15 MPa. Funktioniert auch unter kontrollierter Atmosphäre oder im Hochvakuum.
Labor-Quarzrohr-Ofen Röhrenförmiger RTP-Heizofen
Erzielen Sie blitzschnelle Erwärmung mit unserem RTP-Schnellheizrohr-Ofen. Entwickelt für präzise, Hochgeschwindigkeits-Heiz- und Kühlzyklen mit praktischer Schienenführung und TFT-Touchscreen-Steuerung. Bestellen Sie jetzt für ideale thermische Prozesse!
1700℃ Labor-Quarzrohr-Ofen mit Aluminiumoxidrohr-Röhrenofen
Auf der Suche nach einem Hochtemperatur-Röhrenofen? Schauen Sie sich unseren 1700℃ Röhrenofen mit Aluminiumoxidrohr an. Perfekt für Forschungs- und Industrieanwendungen bis 1700°C.
Vakuum-Molybdän-Draht-Sinterofen zum Vakuumsintern
Ein Vakuum-Molybdän-Draht-Sinterofen ist eine vertikale oder Kammerstruktur, die sich für das Ziehen, Löten, Sintern und Entgasen von Metallmaterialien unter Hochvakuum- und Hochtemperaturbedingungen eignet. Er eignet sich auch für die Dehydratisierungsbehandlung von Quarzmaterialien.
Hochtemperatur-Aluminiumoxid (Al2O3) Ofenrohr für fortschrittliche technische Fein keramiken
Hochtemperatur-Aluminiumoxid-Ofenrohre kombinieren die Vorteile der hohen Härte von Aluminiumoxid, guter chemischer Inertheit und Stahl und weisen eine ausgezeichnete Verschleißfestigkeit, thermische Stoßfestigkeit und mechanische Stoßfestigkeit auf.
Vakuum-Heißpressmaschine für Laminierung und Heizung
Erleben Sie saubere und präzise Laminierung mit der Vakuum-Laminierpresse. Perfekt für Wafer-Bonding, Dünnschichttransformationen und LCP-Laminierung. Jetzt bestellen!
Vakuumversiegelter kontinuierlich arbeitender Drehtiegelofen Rotierender Röhrenofen
Erleben Sie effiziente Materialverarbeitung mit unserem vakuumversiegelten Drehtiegelofen. Perfekt für Experimente oder industrielle Produktion, ausgestattet mit optionalen Funktionen für kontrollierte Zufuhr und optimierte Ergebnisse. Jetzt bestellen.
Labor-Vakuum-Kipp-Drehrohröfen Drehrohröfen
Entdecken Sie die Vielseitigkeit von Labor-Drehrohröfen: Ideal für Kalzinierung, Trocknung, Sintern und Hochtemperaturreaktionen. Einstellbare Dreh- und Kippfunktionen für optimale Erwärmung. Geeignet für Vakuum- und kontrollierte Atmosphären. Jetzt mehr erfahren!
Kammerofen mit Bandförderer für kontrollierte Atmosphäre
Entdecken Sie unseren KT-MB Bandförderer-Sinterofen – perfekt für Hochtemperatursintern von elektronischen Bauteilen und Glasisolatoren. Erhältlich für Umgebungen mit offener Luft oder kontrollierter Atmosphäre.
Hochtemperatur-Muffelofen für Laborentbinderung und Vorsintern
KT-MD Hochtemperatur-Entbindungs- und Vorsinterofen für keramische Werkstoffe mit verschiedenen Formgebungsverfahren. Ideal für elektronische Bauteile wie MLCC und NFC.
Horizontaler Hochtemperatur-Graphit-Vakuum-Graphitierungs-Ofen
Horizontaler Graphitierungs-Ofen: Dieser Ofentyp ist horizontal mit Heizelementen ausgelegt, was eine gleichmäßige Erwärmung der Probe ermöglicht. Er eignet sich gut für die Graphitierung großer oder sperriger Proben, die eine präzise Temperaturkontrolle und Gleichmäßigkeit erfordern.
Großer vertikaler Graphit-Vakuumgraphitierungs-Ofen
Ein großer vertikaler Hochtemperatur-Graphitierungs-Ofen ist eine Art Industrieofen, der zur Graphitierung von Kohlenstoffmaterialien wie Kohlefaser und Ruß verwendet wird. Es handelt sich um einen Hochtemperatur-Ofen, der Temperaturen von bis zu 3100 °C erreichen kann.
Vakuumlichtbogen-Induktionsofen
Entdecken Sie die Leistung des Vakuumlichtbogenofens zum Schmelzen von aktiven und feuerfesten Metallen. Hohe Geschwindigkeit, bemerkenswerter Entgasungseffekt und frei von Verunreinigungen. Erfahren Sie jetzt mehr!
Vakuumwärmebehandlungs- und Sinterofen mit 9 MPa Luftdruck
Der Luftdrucksinterofen ist ein Hightech-Gerät, das häufig zum Sintern von fortschrittlichen Keramikmaterialien verwendet wird. Er kombiniert Vakuumsintern und Drucksintern, um hochdichte und hochfeste Keramiken zu erzielen.
Ähnliche Artikel
Die Architektur des Unsichtbaren: Beherrschen des CVD-Röhrenofens
Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) wandelt Gas mit atomarer Präzision in Feststoff um. Erfahren Sie, wie dieses komplexe Reaktorsystem funktioniert und warum es die moderne Materialwissenschaft definiert.
CVD-Ofen für das Wachstum von Kohlenstoffnanoröhren
Die Ofentechnologie der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) ist eine weit verbreitete Methode zum Züchten von Kohlenstoffnanoröhren.
Vorteile der Verwendung eines CVD-Rohrofens zur Beschichtung
CVD-Beschichtungen haben gegenüber anderen Beschichtungsmethoden mehrere Vorteile, wie z. B. hohe Reinheit, Dichte und Gleichmäßigkeit, was sie ideal für viele Anwendungen in verschiedenen Branchen macht.
Vorstellung der Labor-Vakuum-Röhrenöfen
Ein Vakuumröhrenofen ist ein Ofentyp, der Vakuum verwendet, um die Prozessatmosphäre von der Außenatmosphäre zu isolieren.
Erforschung von Wolfram-Vakuumöfen: Betrieb, Anwendungen und Vorteile
Entdecken Sie den Betrieb, die Anwendungen und die Vorteile von Wolfram-Vakuumöfen in Laborumgebungen. Erfahren Sie mehr über die fortschrittlichen Funktionen von KinTek, die Kontrollmechanismen und den Einsatz von Wolfram in Hochtemperaturumgebungen.
Erkundung der wichtigsten Eigenschaften von Rohrheizöfen
Ein Rohrheizofen ist ein spezieller Industrieofentyp, der in verschiedenen Branchen zum Erhitzen von Stoffen durch Brennstoffverbrennung eingesetzt wird.
PECVD-Ofen Eine Lösung mit geringem Stromverbrauch und niedriger Temperatur für weiche Materie
PECVD-Öfen (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) haben sich zu einer beliebten Lösung für die Abscheidung dünner Filme auf Oberflächen weicher Materie entwickelt.
Die Vielseitigkeit von Rohröfen: Ein Leitfaden zu ihren Anwendungen und Vorteilen
Ein Laborrohrofen ist ein spezielles Heizgerät, das in wissenschaftlichen und industriellen Labors für eine Vielzahl von Anwendungen eingesetzt wird.
Umfassender Leitfaden für Rohröfen: Typen, Anwendungen und Überlegungen
Tauchen Sie ein in die Welt der Rohröfen, erforschen Sie ihre Typen, die verschiedenen Anwendungen in Industrie und Labor und die entscheidenden Faktoren, die für eine optimale Nutzung zu beachten sind.
Erforschung von Drehrohröfen: Ein umfassender Leitfaden
Entdecken Sie die Funktionsweise von Drehrohröfen, ihre vielfältigen Anwendungen und wichtigsten Vorteile. Erfahren Sie, wie diese Öfen funktionieren, wie sie sich für verschiedene Prozesse eignen und welche Faktoren bei der Auswahl eines Ofens zu beachten sind. Finden Sie heraus, warum Drehrohröfen in der modernen Materialverarbeitung bevorzugt werden.
CVD-Maschinen für die Dünnschichtabscheidung
Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist eine weit verbreitete Technik zur Abscheidung dünner Filme auf verschiedenen Substraten.
Ein umfassender Leitfaden für Spaltrohröfen: Anwendungen, Funktionen
Es stimmt, dass es sich bei einem Spaltrohrofen um eine Art Laborgerät handelt, das aus einem Hohlrohr oder einer Kammer besteht, die geöffnet werden kann, um das Einsetzen und Entfernen von Proben oder zu erhitzenden Materialien zu ermöglichen.