Der Hauptunterschied zwischen der thermischen Verdampfung und der Elektronenstrahlverdampfung ist die Methode, mit der das Material verdampft wird.
Bei der thermischen Verdampfung wird ein Material durch Wärme verdampft. Ein Tiegel, der das Material enthält, wird auf eine hohe Temperatur erhitzt, wodurch das Material verdampft. Diese Methode eignet sich gut für Metalle und nichtmetallische Werkstoffe, die eine niedrigere Schmelztemperatur benötigen. Durch thermisches Verdampfen können dünne Schichten mit guter Reinheit und Haftung auf dem Substrat erzeugt werden, aber es kann zu weniger dichten Beschichtungen und einem größeren Risiko von Verunreinigungen kommen, da der Tiegel erhitzt wird.
Bei der Elektronenstrahlverdampfung handelt es sich dagegen um ein physikalisches Aufdampfverfahren, bei dem ein Strahl hochenergetischer Elektronen zur Verdampfung des Materials eingesetzt wird. Das verdampfte Material kondensiert dann auf einem Substrat und bildet eine dünne Schicht. Bei der Elektronenstrahlverdampfung können Materialien mit höheren Temperaturen, z. B. Oxide, verarbeitet werden, und es können Schichten mit hoher Reinheit und guter Haftung auf dem Substrat erzeugt werden. Außerdem ist die Abscheidungsrate höher als bei der thermischen Verdampfung.
Zusammenfassend lässt sich sagen, dass bei der thermischen Verdampfung Wärme zur Verdampfung des Materials eingesetzt wird, während bei der Elektronenstrahlverdampfung ein Strahl hochenergetischer Elektronen verwendet wird. Die Wahl zwischen den beiden Verfahren hängt von den spezifischen Anforderungen an das abzuscheidende Material und den gewünschten Eigenschaften der Dünnschicht ab.
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