Für die Abscheidung dünner Schichten gibt es zwei gängige Verfahren: die thermische Verdampfung und die Elektronenstrahlverdampfung.
5 wichtige Punkte sind zu beachten
1. Methode der Verdampfung
Bei der thermischen Verdampfung wird ein Tiegel, der das Material enthält, durch elektrischen Strom erhitzt.
Dadurch schmilzt das Material und verdampft.
Bei der Elektronenstrahlverdampfung hingegen wird das Material mit einem Strahl hochenergetischer Elektronen direkt erhitzt.
2. Eignung für Materialien
Die thermische Verdampfung eignet sich für Materialien mit niedrigerem Schmelzpunkt.
Sie führt zu weniger dichten Dünnschichten und birgt ein höheres Risiko von Verunreinigungen.
Die Elektronenstrahlverdampfung ist besonders effektiv bei Werkstoffen mit hohem Schmelzpunkt.
3. Abscheidungsraten und Reinheit
Die thermische Verdampfung bietet geringere Abscheidungsraten und kann zu weniger dichten Schichten führen.
Die Elektronenstrahlverdampfung bietet höhere Abscheidungsraten und eine bessere Reinheit der entstehenden dünnen Schichten.
4. Allgemeine Anwendungen
Die thermische Verdampfung wird üblicherweise für die Abscheidung dünner Schichten aus Metallen und Legierungen verwendet.
Dabei können Schichten mit guter Reinheit und Haftung auf dem Substrat erzeugt werden.
Die Elektronenstrahlverdampfung wird bevorzugt für die Abscheidung von dünnen Schichten aus hochschmelzenden Metallen und optischen Schichten eingesetzt.
5. Kontrolle und Vielseitigkeit
Die thermische Verdampfung ist einfacher und potenziell weniger kostspielig.
Die Anzahl der Materialien, die effektiv verarbeitet werden können, ist jedoch begrenzt.
Die Elektronenstrahlverdampfung bietet im Allgemeinen eine bessere Kontrolle, eine höhere Reinheit und kann ein breiteres Spektrum an Materialien verarbeiten.
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