Labormaterialien
Hochreines Silizium (Si)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Artikelnummer : LM-SI
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Chemische Formel
- Und
- Reinheit
- 5N-6N
- Form
- Scheiben / Draht / Block / Pulver / Platten / Säulentargets / Stufentargets / Sonderanfertigungen
Versand:
Kontaktieren Sie uns um Versanddetails zu erhalten. Genießen Sie Garantie für pünktliche Lieferung.
Fordern Sie Ihr individuelles Angebot an 👋
Holen Sie sich jetzt Ihr Angebot! Eine Nachricht hinterlassen Schnell Angebot einholen Via Online-ChatWir freuen uns, Silizium (Si)-Materialien für den Laborgebrauch zu wettbewerbsfähigen Preisen anbieten zu können. Unsere Spezialität liegt in der Herstellung und kundenspezifischen Anpassung von Silizium (Si)-Materialien mit verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden.
Wir bieten eine vielfältige Auswahl an Spezifikationen und Größen für Sputtertargets (rund, quadratisch, röhrenförmig, unregelmäßig), Beschichtungsmaterialien, Zylinder, Kegel, Partikel, Folien, Pulver, 3D-Druckpulver, Nanometerpulver, Walzdrähte, Barren und Blöcke. unter anderen.
Einzelheiten
Über Silizium (Si)
Siliziumdioxid in Form von Sand ist ein wesentlicher Bestandteil von Glas, das hervorragende mechanische, optische, thermische und elektrische Eigenschaften aufweist.
In der Elektronikindustrie wird mit Bor, Gallium, Phosphor oder Arsen dotiertes ultrahochreines Silizium in großem Umfang zur Herstellung von Transistoren, Solarzellen, Gleichrichtern und anderen Festkörpergeräten verwendet.
Silikone, eine breite Palette synthetischer Polymere, sind wichtige Silikonprodukte in verschiedenen Formen, von Flüssigkeiten bis hin zu harten, glasartigen Feststoffen mit vielen vorteilhaften Eigenschaften.
Metallisches Silizium ist in verschiedenen Reinheiten von 99 % bis 99,999 % (ACS-Qualität bis ultrahohe Reinheit) in Formen wie Pellets, Stäben, Drähten und Granulat als Verdampfungsquellenmaterialien erhältlich.
Siliziumoxid ist in Pulver- und dichten Pelletform für Anwendungen wie optische Beschichtungen und Dünnschichtanwendungen erhältlich. Siliziumfluorid ist unlöslich und frei von Oxiden und eignet sich ideal für die Metallurgie, physikalische und chemische Gasphasenabscheidung sowie bestimmte optische Beschichtungen.
Lösliche Formen von Silizium, wie Chloride und Acetate, können als Lösungen in bestimmten Stöchiometrien synthetisiert werden.
Qualitätskontrolle der Inhaltsstoffe
- Analyse der Rohstoffzusammensetzung
- Durch den Einsatz von Geräten wie ICP und GDMS wird der Gehalt an Metallverunreinigungen erfasst und analysiert, um sicherzustellen, dass er dem Reinheitsstandard entspricht;
Nichtmetallische Verunreinigungen werden mit Geräten wie Kohlenstoff- und Schwefelanalysatoren sowie Stickstoff- und Sauerstoffanalysatoren erkannt. - Metallografische Fehlererkennungsanalyse
- Das Zielmaterial wird mithilfe von Fehlererkennungsgeräten überprüft, um sicherzustellen, dass im Produkt keine Mängel oder Schrumpfungslöcher vorhanden sind.
Durch metallografische Tests wird die innere Kornstruktur des Zielmaterials analysiert, um sicherzustellen, dass die Körner fein und dicht sind. - Aussehens- und Maßprüfung
- Die Produktabmessungen werden mithilfe von Mikrometern und Präzisionsmessschiebern gemessen, um die Übereinstimmung mit den Zeichnungen sicherzustellen.
Die Oberflächenbeschaffenheit und Sauberkeit des Produkts werden mit einem Oberflächenreinheitsmessgerät gemessen.
Konventionelle Sputtertargetgrößen
- Vorbereitungsprozess
- heißisostatisches Pressen, Vakuumschmelzen usw.
- Sputtertargetform
- flaches Sputtertarget, Multi-Arc-Sputtertarget, Stufen-Sputtertarget, speziell geformtes Sputtertarget
- Runde Sputtertargetgröße
- Durchmesser: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Dicke: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Größe kann individuell angepasst werden. - Quadratische Sputtertargetgröße
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, Größe kann individuell angepasst werden
Verfügbare Metallformen
Details zu Metallformen
Wir stellen fast alle im Periodensystem aufgeführten Metalle in den unterschiedlichsten Formen und Reinheiten sowie in Standardgrößen und -abmessungen her. Wir können auch maßgeschneiderte Produkte herstellen, um spezifische Kundenanforderungen zu erfüllen, wie z. B. Größe, Form, Oberfläche, Zusammensetzung und mehr. Die folgende Liste stellt eine Auswahl der von uns angebotenen Formulare dar, erhebt jedoch keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Wenn Sie Laborverbrauchsmaterialien benötigen, wenden Sie sich bitte direkt an uns, um ein Angebot anzufordern.
- Flache/planare Formen: Karton, Film, Folie, Mikrofolie, Mikroblatt, Papier, Platte, Band, Bogen, Streifen, Band, Wafer
- Vorgeformte Formen: Anoden, Kugeln, Bänder, Stäbe, Boote, Bolzen, Briketts, Kathoden, Kreise, Spulen, Tiegel, Kristalle, Würfel, Tassen, Zylinder, Scheiben, Elektroden, Fasern, Filamente, Flansche, Gitter, Linsen, Dorne, Muttern , Teile, Prismen, Pucks, Ringe, Stäbe, Formen, Schilde, Hülsen, Federn, Quadrate, Sputtertargets, Stäbe, Rohre, Unterlegscheiben, Fenster, Drähte
- Mikrogrößen: Perlen, Bits, Kapseln, Chips, Münzen, Staub, Flocken, Körner, Granulat, Mikropulver, Nadeln, Partikel, Kieselsteine, Pellets, Stifte, Pillen, Pulver, Späne, Schrot, Schnecken, Kugeln, Tabletten
- Makrogrößen: Knüppel, Brocken, Stecklinge, Fragmente, Barren, Klumpen, Nuggets, Stücke, Stanzteile, Steine, Reste, Segmente, Drehspäne
- Porös und halbporös: Stoff, Schaum, Gaze, Wabe, Netz, Schwamm, Wolle
- Nanoskalig: Nanopartikel, Nanopulver, Nanofolien, Nanoröhren, Nanostäbe, Nanoprismen
- Andere: Konzentrat, Tinte, Paste, Niederschlag, Rückstände, Proben, Proben
KinTek ist auf die Herstellung hochreiner und ultrahochreiner Materialien mit einem Reinheitsbereich von 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) und in einigen Fällen bis zu 99,99999 % (7N) spezialisiert ). Unsere Materialien sind in bestimmten Qualitäten erhältlich, darunter UP/UHP-, Halbleiter-, Elektronik-, Abscheidungs-, Glasfaser- und MBE-Qualitäten. Unsere hochreinen Metalle, Oxide und Verbindungen werden speziell für die hohen Anforderungen hochtechnologischer Anwendungen hergestellt und eignen sich ideal für den Einsatz als Dotierstoffe und Vorläufermaterialien für die Dünnschichtabscheidung, das Kristallwachstum von Halbleitern und die Synthese von Nanomaterialien. Diese Materialien finden Verwendung in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Solarzellen, Brennstoffzellen, optischen Materialien und anderen hochmodernen Anwendungen.
Verpackung
Wir verwenden Vakuumverpackungen für unsere hochreinen Materialien und jedes Material verfügt über eine spezifische Verpackung, die auf seine einzigartigen Eigenschaften zugeschnitten ist. Beispielsweise ist unser HF-Sputtertarget extern markiert und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu ermöglichen. Wir legen großen Wert darauf, Schäden zu vermeiden, die bei der Lagerung oder dem Transport entstehen könnten.
FAQ
Was Sind Hochreine Materialien?
Was Sind Hochreine Metalle?
Was Ist RF-PECVD?
Was Ist Ein Sputtertarget?
Wofür Werden Hochreine Metalle Verwendet?
Wie Werden Sputtertargets Hergestellt?
Wofür Wird Ein Sputtertarget Verwendet?
Was Sind Sputtertargets Für Die Elektronik?
Wie Hoch Ist Die Lebensdauer Eines Sputtertargets?
4.8
out of
5
The quality of the silicon sputtering targets is excellent. The delivery was very quick and the customer service was responsive and helpful.
4.7
out of
5
Kintek Solution's silicon sputtering targets are of the highest quality. They are durable and provide excellent results.
4.9
out of
5
I have been using Kintek Solution's silicon sputtering targets for years and have always been impressed with their quality and performance. They are a great value for the price.
4.6
out of
5
Kintek Solution's silicon sputtering targets are very reliable and have a long lifespan. I highly recommend them to anyone in need of high-quality sputtering targets.
4.8
out of
5
Kintek Solution's silicon sputtering targets are a great choice for researchers and engineers who need high-quality materials. They are easy to use and provide excellent results.
4.7
out of
5
I have been using Kintek Solution's silicon sputtering targets for my research for several years. They are consistently high quality and have helped me to achieve excellent results.
4.9
out of
5
Kintek Solution's silicon sputtering targets are the best I have ever used. They are incredibly durable and produce very consistent results.
4.7
out of
5
I am very satisfied with Kintek Solution's silicon sputtering targets. They are a great value for the price and have helped me to improve the quality of my research.
4.8
out of
5
Kintek Solution's silicon sputtering targets are an essential part of my research. They are very reliable and have helped me to achieve breakthroughs in my field.
4.6
out of
5
I have been using Kintek Solution's silicon sputtering targets for years and have always been impressed with their quality and performance. They are a great choice for anyone looking for high-quality sputtering targets.
4.7
out of
5
Kintek Solution's silicon sputtering targets are the best I have ever used. They are very durable and have helped me to save time and money in my research.
4.9
out of
5
I am very happy with Kintek Solution's silicon sputtering targets. They are a great value for the price and have helped me to improve the quality of my work.
PDF - Hochreines Silizium (Si)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Labormaterialien
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Hochreine Materialien
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Reine Metalle
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Rf Pecvd
disabled = false, 3000)"> HerunterladenKatalog von Sputtertargets
disabled = false, 3000)"> HerunterladenFordern Sie ein Angebot an
Unser professionelles Team wird Ihnen innerhalb eines Werktages antworten. Sie können uns gerne kontaktieren!
Ähnliche Produkte
Hochreines Siliziumdioxid (SiO2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach Siliziumdioxid-Materialien für Ihr Labor? Unsere fachmännisch maßgeschneiderten SiO2-Materialien sind in verschiedenen Reinheiten, Formen und Größen erhältlich. Stöbern Sie noch heute in unserem breiten Angebot an Spezifikationen!
Siliziumkarbid (SiC) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Materialien aus Siliziumkarbid (SiC) für Ihr Labor? Suchen Sie nicht weiter! Unser Expertenteam produziert und passt SiC-Materialien genau auf Ihre Bedürfnisse zu angemessenen Preisen an. Stöbern Sie noch heute in unserem Angebot an Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr.
Siliziumnitrid (Si3N4) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Erhalten Sie erschwingliche Materialien aus Siliziumnitrid (Si3N4) für Ihren Laborbedarf. Wir produzieren und passen verschiedene Formen, Größen und Reinheiten entsprechend Ihren Anforderungen an. Stöbern Sie in unserem Sortiment an Sputtertargets, Pulvern und mehr.
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Titan-Silizium-Legierung (TiSi).
Entdecken Sie unsere erschwinglichen Materialien aus Titan-Silizium-Legierung (TiSi) für den Laborgebrauch. Unsere kundenspezifische Produktion bietet verschiedene Reinheiten, Formen und Größen für Sputtertargets, Beschichtungen, Pulver und mehr. Finden Sie die perfekte Lösung für Ihre individuellen Bedürfnisse.
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Silizium-Legierung (NiSi).
Suchen Sie nach Nickel-Silizium-Legierungsmaterialien für Ihr Labor? Unsere fachmännisch hergestellten und maßgeschneiderten Materialien sind in verschiedenen Formen und Größen erhältlich, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Erhalten Sie Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr zu günstigen Preisen.
Infrarot-Silizium / hochbeständiges Silizium / Einkristall-Siliziumlinse
Silizium (Si) gilt weithin als eines der langlebigsten mineralischen und optischen Materialien für Anwendungen im Nahinfrarotbereich (NIR), etwa 1 μm bis 6 μm.
Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Zirkonium-Silizium-Legierung (ZrSi).
Entdecken Sie unsere Materialien aus Zirkonium-Silizium-Legierungen (ZrSi) für den Laborgebrauch zu erschwinglichen Preisen. Wir produzieren maßgeschneiderte Materialien, die Ihren individuellen Anforderungen entsprechen, und bieten eine breite Palette an Spezifikationen und Größen für Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr.
Kobaltsilizid (CoSi2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach erschwinglichen Kobaltsilizid-Materialien für Ihre Laborforschung? Wir bieten maßgeschneiderte Lösungen unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe, einschließlich Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien und mehr. Entdecken Sie jetzt unser Sortiment!
Siliziumnitrid (SiNi) Keramische Bleche Präzisionsbearbeitung Keramik
Siliciumnitridplatten sind aufgrund ihrer gleichmäßigen Leistung bei hohen Temperaturen ein häufig verwendetes keramisches Material in der metallurgischen Industrie.
Hochreines Wolfram (W)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Finden Sie hochwertige Wolfram (W)-Materialien für Ihren Laborbedarf zu erschwinglichen Preisen. Wir bieten maßgeschneiderte Reinheiten, Formen und Größen von Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.
Hochreines Antimon (Sb) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Erhalten Sie hochwertige Antimon (Sb)-Materialien, die auf Ihre spezifischen Anforderungen zugeschnitten sind. Wir bieten eine große Auswahl an Formen und Größen zu günstigen Preisen. Durchsuchen Sie unsere Sputtertargets, Pulver, Folien und mehr.
Calciumfluorid (CaF2) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Calciumfluorid-Materialien für den Laborgebrauch? Unser Expertenteam passt verschiedene Reinheitsgrade, Formen und Größen an, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden. Stöbern Sie in unserem Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr. Holen Sie sich noch heute ein Angebot ein.
Hochreines Selen (Se)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach erschwinglichen Selen (Se)-Materialien für den Laborgebrauch? Wir sind auf die Herstellung und Anpassung von Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe spezialisiert, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Entdecken Sie unser Sortiment an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.
Siliziumkarbid (SIC)-Keramikplatte
Siliziumnitrid (sic)-Keramik ist eine Keramik aus anorganischem Material, die beim Sintern nicht schrumpft. Es handelt sich um eine hochfeste kovalente Bindungsverbindung mit geringer Dichte und hoher Temperaturbeständigkeit.
Natriumfluorid (NaF) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach Materialien aus Natriumfluorid (NaF)? Wir bieten maßgeschneiderte Lösungen unterschiedlicher Reinheiten, Formen und Größen zu erschwinglichen Preisen. Finden Sie Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulver und mehr. Kontaktiere uns heute.
Siliziumkarbid (SIC) Keramische Platten, verschleißfest
Siliziumkarbid-Keramikplatten bestehen aus hochreinem Siliziumkarbid und ultrafeinem Pulver, das durch Vibrationsformen und Hochtemperatursintern hergestellt wird.
Zinksulfid (ZnS) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Erhalten Sie erschwingliche Materialien aus Zinksulfid (ZnS) für Ihren Laborbedarf. Wir produzieren und passen ZnS-Materialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe an. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Sputtertargets, Beschichtungsmaterialien, Pulvern und mehr.
CaF2-Substrat / Fenster / Linse
Ein CaF2-Fenster ist ein optisches Fenster aus kristallinem Calciumfluorid. Diese Fenster sind vielseitig, umweltbeständig und resistent gegen Laserschäden und weisen eine hohe, stabile Transmission von 200 nm bis etwa 7 μm auf.
Hochreines Indium (In) Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat
Suchen Sie nach hochwertigen Indium-Materialien für den Laborgebrauch? Suchen Sie nicht weiter! Unsere Expertise liegt in der Herstellung maßgeschneiderter Indiummaterialien unterschiedlicher Reinheit, Form und Größe. Wir bieten eine breite Palette an Indium-Produkten an, die Ihren individuellen Anforderungen gerecht werden. Bestellen Sie jetzt zu günstigen Preisen!
Reinigungsgestell für leitfähiges PTFE-Glassubstrat
Das Reinigungsgestell für leitfähige PTFE-Glassubstrate wird als Träger des quadratischen Solarzellen-Siliziumwafers verwendet, um eine effiziente und schadstofffreie Handhabung während des Reinigungsprozesses zu gewährleisten.
Strontiumfluorid (SrF2) Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat
Suchen Sie nach Strontiumfluorid (SrF2)-Materialien für Ihr Labor? Suchen Sie nicht weiter! Wir bieten eine Reihe von Größen und Reinheiten an, darunter Sputtertargets, Beschichtungen und mehr. Bestellen Sie jetzt zu günstigen Preisen.
Ähnliche Artikel
Spark Plasma Sintering Furnace: Der ultimative Leitfaden für SPS-Öfen
Entdecken Sie die Welt der Spark Plasma Sintering Furnaces (SPS). Dieser umfassende Leitfaden deckt alles ab, von den Vorteilen und Anwendungen bis hin zu Verfahren und Ausrüstung. Erfahren Sie, wie SPS-Öfen Ihren Sinterbetrieb revolutionieren können.
Vorsichtsmaßnahmen bei der Installation von Siliziumkarbidstiften
Vorsichtsmaßnahmen für den Einbau von Siliziumkarbid-Stickstoff.
Das wissenschaftliche Prinzip des Siebens: Verständnis der Partikelgrößenverteilung und Laborprüfsiebe
Erfahren Sie mehr über das wissenschaftliche Prinzip des Siebens, einschließlich des Verfahrens zur Trennung von Partikeln nach Größe und der Arten von Labortestsieben. Entdecken Sie, wie sich das Sieben auf verschiedene Branchen auswirkt und wie genau die Partikelgröße gemessen werden kann.
Eine eingehende Analyse von kaltisostatischen Pressdiensten
Kaltisostatisches Pressen (CIP) nutzt extrem hohe Drücke, um Produkte oder Kaltkompaktpulver zu sterilisieren. CIP ist besonders effektiv bei der Herstellung komplexer Formen und der Erhöhung der Enddichte von Materialien.
Technischer Überblick über die mit dem CVD-Verfahren hergestellten Silizium-Kohlenstoff-Anodenmaterialien
In diesem Artikel werden die wichtigsten technischen Aspekte der mittels CVD hergestellten Silizium-Kohlenstoff-Anodenmaterialien erörtert, wobei der Schwerpunkt auf ihrer Synthese, ihren Leistungsverbesserungen und ihrem industriellen Anwendungspotenzial liegt.
Carbon Coating for Surface Modification of Silicon-Based Materials in Lithium-Ion Batteries
This article discusses the application of carbon coatings to improve the performance of silicon-based anode materials in lithium-ion batteries.
Farbkontrolle und Anwendungen von aufgedampften Siliziumoxidschichten
Erforschung von Farbvariationen, Kontrollmethoden und praktischen Anwendungen von Siliziumoxid-Dünnschichten.
Häufige abnormale Ursachen und Lösungen für die PECVD-Beschichtung von kristallinen Silizium-Solarzellen
Analysiert häufige Probleme bei der PECVD-Beschichtung von Solarzellen und bietet Lösungen zur Qualitätsverbesserung und Kostensenkung.
PECVD-Technologie: Prinzipien, Materialien, Vorteile und Anwendungen
Eine eingehende Analyse der PECVD-Technologie, ihrer Prinzipien, Materialien, Prozessparameter, Vorteile und Anwendungen in verschiedenen Branchen.
Anwendung von isostatischem Graphit in der Photovoltaik-Industrie
Ein Überblick über die Verwendung von isostatischem Graphit in verschiedenen Phasen der Photovoltaik-Produktion und seine Marktnachfrage.
PVD-Sputter-Targets und heißisostatisches Pressen: Teil 2
Dieser Artikel befasst sich mit der Herstellung und Optimierung von PVD-Sputtertargets, wobei der Schwerpunkt auf Techniken wie dem heißisostatischen Pressen und der Hochdruckwärmebehandlung liegt.
Vakuum-Induktionsschmelzen: Prinzipien, Prozesse und Anwendungen
Ein ausführlicher Überblick über das Vakuum-Induktionsschmelzverfahren, seine Merkmale, Anwendungen und den Aufbau der Anlagen.