Wissen Was sind Plasmabeschichtungsreaktoren und warum werden sie verwendet? 4 wichtige Punkte erklärt
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 3 Wochen

Was sind Plasmabeschichtungsreaktoren und warum werden sie verwendet? 4 wichtige Punkte erklärt

Plasmaabscheidungsreaktoren sind hochentwickelte Geräte, die hochenergetische geladene Teilchen aus einem Plasma verwenden, um Atome aus einem Zielmaterial freizusetzen. Diese Atome werden dann auf einem Substrat abgeschieden und bilden eine dünne Schicht. Dieses Verfahren ist äußerst vielseitig und ermöglicht eine präzise Steuerung von Eigenschaften wie Dicke, Härte und Brechungsindex.

4 wichtige Punkte erklärt

Was sind Plasmabeschichtungsreaktoren und warum werden sie verwendet? 4 wichtige Punkte erklärt

1. Erzeugung von Plasma

Ein Plasma wird in der Regel durch eine elektrische Entladung zwischen Elektroden erzeugt. Diese Entladung bildet einen glühenden Mantel um das Substrat, der zur thermischen Energie beiträgt, die für chemische Reaktionen benötigt wird.

Zu den verschiedenen Methoden der Plasmaerzeugung gehören kapazitive Plasmen, induktive Entladungen, Elektronenzyklotronresonanzreaktoren und Helikonwellenantennen. Jede Methode hat ihre eigene, einzigartige Plasmadichte und Dissoziationseffizienz der Ausgangsstoffe.

2. Abscheidungsprozess

Das Plasma setzt Atome aus dem Zielmaterial frei. Diese neutralen Atome können den starken elektromagnetischen Feldern innerhalb des Plasmas entkommen und mit dem Substrat kollidieren. Dieser Zusammenstoß führt zur Bildung einer dünnen Schicht.

Chemische Reaktionen, die im Plasma durch den Zusammenstoß von Vorläufergasmolekülen mit angeregten Elektronen ausgelöst werden, setzen sich fort, während das Gas zum Substrat strömt. Diese Reaktionen sind entscheidend für das Wachstum der Schicht.

3. Arten von Plasmabeschichtungsreaktoren

Direkter PECVD-Reaktor: Bei diesem Aufbau kommt das Plasma direkt mit den Substraten in der Beschichtungskammer in Kontakt. Diese direkte Interaktion kann manchmal zu einer Beschädigung des Substrats aufgrund von Ionenbeschuss und Elektrodenverunreinigungen führen.

Ferngesteuerter PECVD-Reaktor: Bei dieser Methode wird die direkte Wechselwirkung zwischen dem Plasma und den Substraten vermieden, was zu einem saubereren Beschichtungsprozess mit weniger Verunreinigungen führt.

4. Kontrolle der Abscheidungseigenschaften

Die Eigenschaften der abgeschiedenen Schicht, wie z. B. Dicke, Härte oder Brechungsindex, lassen sich durch Anpassung der Gasdurchflussraten und Betriebstemperaturen im Reaktor genau steuern.

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