Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist ein komplexes Verfahren zur Herstellung dünner Schichten auf verschiedenen Substraten.
5 Schlüsselschritte der CVD-Reaktion
1) Einführung von chemischen Vorläufersubstanzen
Die Vorläuferchemikalien werden in den CVD-Reaktor eingeleitet.
Diese Chemikalien sind die Ausgangsstoffe, die reagieren, um die gewünschte Dünnschicht zu bilden.
2) Transport der Vorläufermoleküle
Sobald sich die Vorläufermoleküle im Reaktor befinden, müssen sie zur Substratoberfläche transportiert werden.
Dies wird in der Regel durch eine Kombination aus Flüssigkeitstransport und Diffusion erreicht.
3) Adsorption an der Substratoberfläche
Die Vorläufermoleküle, die die Substratoberfläche erreichen, müssen dann adsorbiert werden.
Unter Adsorption versteht man die Anlagerung dieser Moleküle an die Oberfläche des Substrats.
Dieser Schritt ist entscheidend für die nachfolgenden Reaktionen.
4) Chemische Reaktionen
Nach der Adsorption reagieren die Vorläufermoleküle mit der Substratoberfläche und bilden den gewünschten dünnen Film.
Bei diesen Reaktionen kann es sich entweder um homogene Gasphasenreaktionen oder um heterogene Reaktionen handeln, die auf/neben der erhitzten Oberfläche des Substrats ablaufen.
5) Desorption von Nebenprodukten
Während der chemischen Reaktionen bilden sich Nebenproduktmoleküle.
Diese Nebenprodukte müssen von der Substratoberfläche desorbiert werden, um Platz für weitere eintreffende Vorläufermoleküle zu schaffen.
Unter Desorption versteht man die Freisetzung dieser Moleküle in die Gasphase.
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