Wissen Was ist das Verfahren der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD)? 5 wichtige Punkte zu wissen
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Monat

Was ist das Verfahren der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD)? 5 wichtige Punkte zu wissen

Die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist ein Verfahren zur Herstellung dünner Schichten.

Dabei wird ein festes Material in einen Dampf verwandelt.

Dieser Dampf wird dann durch einen Niederdruckbereich transportiert.

Schließlich kondensiert der Dampf auf einem Substrat und bildet eine dünne Schicht.

Dieser Prozess findet in der Regel unter Vakuumbedingungen statt.

5 wichtige Punkte, die Sie über die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) wissen sollten

Was ist das Verfahren der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD)? 5 wichtige Punkte zu wissen

1. Prozess-Schritte

Der Prozess umfasst mehrere Schritte.

Zunächst wird das Ausgangsmaterial vergast.

Anschließend wird der Dampf transportiert.

Schließlich kondensiert er auf dem Substrat.

2. Vakuumbedingungen

PVD wird normalerweise unter Vakuumbedingungen durchgeführt.

Dies trägt dazu bei, die Reinheit und Qualität der Dünnschicht zu erhalten.

3. Breite industrielle Nutzung

PVD wird in verschiedenen Industriezweigen eingesetzt.

Es erzeugt harte, korrosionsbeständige Beschichtungen.

Diese Beschichtungen haben eine hohe Temperaturtoleranz und eine starke Haftung.

4. Gängige PVD-Verfahren

Die gängigsten PVD-Methoden sind Sputtern und Verdampfen.

Diese Verfahren unterscheiden sich von der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD).

Bei PVD kommen physikalische Prozesse zum Einsatz, nicht chemische.

5. Umweltfreundlichkeit

PVD gilt als umweltfreundlich.

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