Wissen Wie hoch ist der Druck bei der chemischen Gasphasenabscheidung?
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Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 3 Monaten

Wie hoch ist der Druck bei der chemischen Gasphasenabscheidung?

Der Druck bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) kann je nach der verwendeten Methode variieren.

Bei der CVD-Diamantenzüchtung findet der Prozess in der Regel unter niedrigem Druck statt, der zwischen 1-27 kPa (0,145-3,926 psi; 7,5-203 Torr) liegt. Diese Niederdruckumgebung ermöglicht die Zufuhr von Gasen in eine Kammer, die dann mit Energie versorgt werden, um die Bedingungen für das Diamantwachstum auf dem Substrat zu schaffen.

Die chemische Gasphasenabscheidung bei niedrigem Druck (LPCVD) ist ein weiteres CVD-Verfahren. Sie wird bei einem Druck von 0,1-10 Torr und Temperaturen von 200-800°C durchgeführt. Bei der LPCVD werden die Reaktanten mit Hilfe eines speziellen Brausekopfes für die Zuführung der Ausgangsstoffe in die Kammer gegeben. Die Kammerwände und der Duschkopf werden gekühlt, während das Substrat erhitzt wird. Dies fördert die heterogenen Oberflächenreaktionen. Sobald die Reaktion abgeschlossen ist, werden die Nebenprodukte mit Hilfe von Vakuumpumpen entfernt.

Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) ist eine weitere Variante der CVD, bei der die für den Abscheidungsprozess erforderliche Energie durch ein Plasma bereitgestellt wird. PECVD wird bei einem Druck von 2-10 Torr und relativ niedrigen Temperaturen von 200-400°C durchgeführt. Mit Hilfe von elektrischer Energie wird ein neutrales Gasplasma erzeugt, das die für die Abscheidung erforderlichen chemischen Reaktionen ermöglicht.

Weitere CVD-Varianten sind HDP CVD und SACVD. Bei HDP CVD wird ein Plasma mit höherer Dichte verwendet, das eine Abscheidung bei niedrigeren Temperaturen (zwischen 80 und 150 °C) in der Kammer ermöglicht. SACVD hingegen findet unterhalb des normalen Raumdrucks statt und verwendet Ozon (O3) als Katalysator für die Reaktion. Der Druck bei SACVD liegt zwischen 13.300 und 80.000 Pa, mit einer hohen Abscheidungsrate, die sich mit steigender Temperatur bis etwa 490 °C verbessert.

Insgesamt kann der Druck für die chemische Gasphasenabscheidung je nach der verwendeten Methode variieren und von niedrigen Drücken von einigen Torr bis zu höheren Drücken von Tausenden von Pa reichen.

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