Wissen Welche Materialien werden bei der PVD-Beschichtung verwendet?
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 1 Woche

Welche Materialien werden bei der PVD-Beschichtung verwendet?

Bei der PVD-Beschichtung wird eine Vielzahl von Materialien verwendet, darunter Titan, Zirkonium, Aluminium, Edelstahl, Kupfer und verschiedene Verbindungen wie Titannitrid, Aluminiumoxid und diamantähnlicher Kohlenstoff. Diese Materialien werden aufgrund ihrer Langlebigkeit, Verschleißfestigkeit und ihrer Fähigkeit, die Leistung des Substrats, auf das sie aufgebracht werden, zu verbessern, ausgewählt.

Titan und Titan-Verbindungen: Titan ist aufgrund seiner Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit ein häufig verwendetes Material für die PVD-Beschichtung. Titannitrid (TiN) ist besonders beliebt für den Verschleißschutz und wird häufig für Anwendungen wie die Beschichtung von Werkzeugmaschinen verwendet. Titankarbid (TiC) und Titancarbonitrid (TiCN) werden ebenfalls wegen ihrer Härte und Verschleißfestigkeit verwendet.

Zirkonium und Zirkonium-Verbindungen: Zirkonium und seine Verbindungen wie Zirkoniumnitrid (ZrN) und Zirkoniumoxid (ZrO2) werden in PVD-Beschichtungen wegen ihrer Hochtemperaturstabilität und ihrer Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit verwendet. Diese Materialien werden häufig in Anwendungen eingesetzt, bei denen eine hohe Haltbarkeit erforderlich ist, wie z. B. in der Luft- und Raumfahrt und in der Automobilindustrie.

Aluminium und Aluminium-Verbindungen: Aluminium und Aluminiumoxid (Al2O3) werden aufgrund ihrer hervorragenden elektrischen und thermischen Eigenschaften in PVD-Beschichtungen verwendet. Aluminium wird aufgrund seiner Leitfähigkeit häufig in elektronischen Schaltkreisen eingesetzt, während Aluminiumoxid wegen seiner isolierenden Eigenschaften und seiner Haltbarkeit verwendet wird.

Rostfreier Stahl und Kupfer: Edelstahl und Kupfer werden wegen ihrer ästhetischen Qualitäten und Korrosionsbeständigkeit für PVD-Beschichtungen verwendet. Edelstahl wird häufig in dekorativen Anwendungen eingesetzt, während Kupfer wegen seiner hohen Leitfähigkeit in der Elektronik verwendet wird.

Diamantähnlicher Kohlenstoff (DLC): DLC-Beschichtungen sind für ihre extreme Härte und ihren niedrigen Reibungskoeffizienten bekannt. Sie eignen sich daher ideal für Anwendungen, die eine hohe Verschleißfestigkeit und geringe Reibung erfordern, wie z. B. bei Automobilkomponenten und Schneidwerkzeugen.

Andere Werkstoffe: Zu den anderen Werkstoffen, die bei der PVD-Beschichtung verwendet werden, gehören MCrAlYs (eine Klasse von Superlegierungen für Hochtemperaturanwendungen) und verschiedene Aluminide, die wegen ihrer Beständigkeit gegen hohe Temperaturen und Korrosion eingesetzt werden.

Diese Werkstoffe werden mit Techniken wie der Elektronenstrahlverdampfung und der Ionenplattierung aufgebracht, die eine genaue Kontrolle des Abscheidungsprozesses ermöglichen und gleichmäßige und konsistente Beschichtungen gewährleisten. Die Wahl des Materials und des Beschichtungsverfahrens hängt von den spezifischen Anforderungen der Anwendung ab, wie z. B. Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit, elektrische Leitfähigkeit und ästhetische Qualitäten.

Entdecken Sie die überlegenen Oberflächen- und Leistungsvorteile der PVD-Beschichtung mit KINTEK SOLUTION. Unsere hochmodernen Materialien wie langlebiges Titan, hitzebeständiges Zirkonium und reibungsmindernder diamantähnlicher Kohlenstoff werden präzise aufgetragen, um Ihre Substrate zu veredeln. Vertrauen Sie auf KINTEK SOLUTION und wählen Sie aus einer breiten Palette von Werkstoffen und Beschichtungstechniken, um Ihre anspruchsvollsten Beschichtungsanforderungen zu erfüllen und die Lebensdauer Ihrer Produkte zu verlängern. Entdecken Sie unsere PVD-Lösungen und erleben Sie den Unterschied in Qualität und Haltbarkeit noch heute!

Ähnliche Produkte

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Beschichtungsanlage mit plasmaunterstützter Verdampfung (PECVD)

Verbessern Sie Ihr Beschichtungsverfahren mit PECVD-Beschichtungsanlagen. Ideal für LED, Leistungshalbleiter, MEMS und mehr. Beschichtet hochwertige feste Schichten bei niedrigen Temperaturen.

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD-System Hochfrequenz-Plasma-unterstützte chemische Gasphasenabscheidung

RF-PECVD ist eine Abkürzung für "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Damit werden DLC-Schichten (diamantähnliche Kohlenstoffschichten) auf Germanium- und Siliziumsubstrate aufgebracht. Es wird im Infrarot-Wellenlängenbereich von 3-12 um eingesetzt.

Poliermaterial für Elektroden

Poliermaterial für Elektroden

Suchen Sie nach einer Möglichkeit, Ihre Elektroden für elektrochemische Experimente zu polieren? Unsere Poliermaterialien helfen Ihnen weiter! Befolgen Sie unsere einfachen Anweisungen für beste Ergebnisse.

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Ziehdüse mit Nano-Diamantbeschichtung, HFCVD-Ausrüstung

Das Ziehwerkzeug für die Nano-Diamant-Verbundbeschichtung verwendet Sinterkarbid (WC-Co) als Substrat und nutzt die chemische Gasphasenmethode (kurz CVD-Methode), um die herkömmliche Diamant- und Nano-Diamant-Verbundbeschichtung auf die Oberfläche des Innenlochs der Form aufzubringen.

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Zylindrischer Resonator MPCVD-Diamant-Maschine für Labor-Diamant Wachstum

Informieren Sie sich über die MPCVD-Maschine mit zylindrischem Resonator, das Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma, das für die Herstellung von Diamantsteinen und -filmen in der Schmuck- und Halbleiterindustrie verwendet wird. Entdecken Sie die kosteneffektiven Vorteile gegenüber den traditionellen HPHT-Methoden.

Platin-Scheibenelektrode

Platin-Scheibenelektrode

Werten Sie Ihre elektrochemischen Experimente mit unserer Platin-Scheibenelektrode auf. Hochwertig und zuverlässig für genaue Ergebnisse.

Schräge Rotationsrohrofenmaschine für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD).

Schräge Rotationsrohrofenmaschine für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD).

Wir stellen unseren geneigten rotierenden PECVD-Ofen für die präzise Dünnschichtabscheidung vor. Profitieren Sie von der automatischen Anpassung der Quelle, der programmierbaren PID-Temperaturregelung und der hochpräzisen MFC-Massendurchflussmesser-Steuerung. Integrierte Sicherheitsfunktionen sorgen für Sicherheit.

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung

CVD-Diamantbeschichtung: Überlegene Wärmeleitfähigkeit, Kristallqualität und Haftung für Schneidwerkzeuge, Reibung und akustische Anwendungen

Schneidwerkzeugrohlinge

Schneidwerkzeugrohlinge

CVD-Diamantschneidwerkzeuge: Hervorragende Verschleißfestigkeit, geringe Reibung, hohe Wärmeleitfähigkeit für die Bearbeitung von Nichteisenmaterialien, Keramik und Verbundwerkstoffen

915MHz MPCVD Diamant-Maschine

915MHz MPCVD Diamant-Maschine

915MHz MPCVD-Diamant-Maschine und seine Multi-Kristall effektives Wachstum, die maximale Fläche kann 8 Zoll erreichen, die maximale effektive Wachstumsfläche von Einkristall kann 5 Zoll erreichen. Diese Ausrüstung wird hauptsächlich für die Produktion von großformatigen polykristallinen Diamantfilmen, das Wachstum von langen Einkristalldiamanten, das Niedertemperaturwachstum von hochwertigem Graphen und anderen Materialien verwendet, die Energie benötigen, die durch Mikrowellenplasma für das Wachstum bereitgestellt wird.

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Erhalten Sie hochwertige Diamantfilme mit unserer Bell-jar-Resonator-MPCVD-Maschine, die für Labor- und Diamantwachstum konzipiert ist. Entdecken Sie, wie die chemische Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma beim Züchten von Diamanten mithilfe von Kohlenstoffgas und Plasma funktioniert.

CVD-bordotierter Diamant

CVD-bordotierter Diamant

CVD-bordotierter Diamant: Ein vielseitiges Material, das maßgeschneiderte elektrische Leitfähigkeit, optische Transparenz und außergewöhnliche thermische Eigenschaften für Anwendungen in der Elektronik, Optik, Sensorik und Quantentechnologie ermöglicht.

Rohlinge für CVD-Diamantdrahtziehmatrizen

Rohlinge für CVD-Diamantdrahtziehmatrizen

CVD-Diamant-Drahtziehmatrizenrohlinge: überlegene Härte, Abriebfestigkeit und Anwendbarkeit beim Drahtziehen verschiedener Materialien. Ideal für abrasive Verschleißbearbeitungsanwendungen wie die Graphitverarbeitung.

CVD-Diamant für das Wärmemanagement

CVD-Diamant für das Wärmemanagement

CVD-Diamant für das Wärmemanagement: Hochwertiger Diamant mit einer Wärmeleitfähigkeit von bis zu 2000 W/mK, ideal für Wärmeverteiler, Laserdioden und GaN on Diamond (GOD)-Anwendungen.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titannitrid (TiN).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titannitrid (TiN).

Suchen Sie nach erschwinglichen Titannitrid (TiN)-Materialien für Ihr Labor? Unsere Expertise liegt in der Herstellung maßgeschneiderter Materialien in verschiedenen Formen und Größen, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden. Wir bieten eine breite Palette an Spezifikationen und Größen für Sputtertargets, Beschichtungen und mehr.

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Kupfer-Zirkonium-Legierung (CuZr).

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Kupfer-Zirkonium-Legierung (CuZr).

Entdecken Sie unser Angebot an Kupfer-Zirkonium-Legierungsmaterialien zu erschwinglichen Preisen, maßgeschneidert auf Ihre individuellen Anforderungen. Stöbern Sie in unserer Auswahl an Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr.

Hochreines Vanadium (V)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Hochreines Vanadium (V)-Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat

Suchen Sie nach hochwertigen Vanadium (V)-Materialien für Ihr Labor? Wir bieten eine breite Palette anpassbarer Optionen an, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden, darunter Sputtertargets, Pulver und mehr. Kontaktieren Sie uns noch heute für wettbewerbsfähige Preise.

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Chrom-Nickel-Legierung (CrNi).

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Chrom-Nickel-Legierung (CrNi).

Suchen Sie nach hochwertigen Materialien aus Chrom-Nickel-Legierung (CrNi) für Ihr Labor? Suchen Sie nicht weiter als nach unseren fachmännisch gefertigten und maßgeschneiderten Optionen. Entdecken Sie unsere große Auswahl an Größen und Spezifikationen, einschließlich Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr. Jetzt einkaufen!

Kundenspezifische Teile aus Bornitrid (BN)-Keramik

Kundenspezifische Teile aus Bornitrid (BN)-Keramik

Bornitrid (BN)-Keramiken können unterschiedliche Formen haben, sodass sie so hergestellt werden können, dass sie hohe Temperaturen, hohen Druck, Isolierung und Wärmeableitung erzeugen, um Neutronenstrahlung zu vermeiden.

Sonderformteile aus Aluminiumoxid-Zirkonoxid, die maßgeschneiderte Keramikplatten verarbeiten

Sonderformteile aus Aluminiumoxid-Zirkonoxid, die maßgeschneiderte Keramikplatten verarbeiten

Aluminiumoxidkeramik weist eine gute elektrische Leitfähigkeit, mechanische Festigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit auf, während Zirkonoxidkeramik für ihre hohe Festigkeit und hohe Zähigkeit bekannt ist und weit verbreitet ist.

Zirkonoxid-Keramikkugel – Präzisionsbearbeitung

Zirkonoxid-Keramikkugel – Präzisionsbearbeitung

Zirkonoxidkeramikkugeln zeichnen sich durch hohe Festigkeit, hohe Härte, PPM-Verschleiß, hohe Bruchzähigkeit, gute Verschleißfestigkeit und hohes spezifisches Gewicht aus.

Siliziumnitrid (SiC) Keramikplatte Präzisionsbearbeitungskeramik

Siliziumnitrid (SiC) Keramikplatte Präzisionsbearbeitungskeramik

Siliziumnitridplatten sind aufgrund ihrer gleichmäßigen Leistung bei hohen Temperaturen ein häufig verwendetes Keramikmaterial in der metallurgischen Industrie.

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titankarbid (TiC).

Sputtertarget/Pulver/Draht/Block/Granulat aus Titankarbid (TiC).

Erhalten Sie hochwertige Titancarbid (TiC)-Materialien zu erschwinglichen Preisen für Ihr Labor. Wir bieten eine große Auswahl an Formen und Größen, darunter Sputtertargets, Pulver und mehr. Auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten.

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Chrom-Legierung (NiCr).

Sputtertarget / Pulver / Draht / Block / Granulat aus Nickel-Chrom-Legierung (NiCr).

Erhalten Sie hochwertige Materialien aus Nickel-Chrom-Legierung (NiCr) für Ihren Laborbedarf zu erschwinglichen Preisen. Wählen Sie aus einer breiten Palette an Formen und Größen, einschließlich Sputtertargets, Beschichtungen, Pulvern und mehr. Maßgeschneidert für Ihre individuellen Anforderungen.

Graphit-Verdampfungstiegel

Graphit-Verdampfungstiegel

Gefäße für Hochtemperaturanwendungen, bei denen Materialien zum Verdampfen bei extrem hohen Temperaturen gehalten werden, wodurch dünne Filme auf Substraten abgeschieden werden können.

Verdampferschiffchen aus aluminisierter Keramik

Verdampferschiffchen aus aluminisierter Keramik

Gefäß zum Aufbringen dünner Schichten; verfügt über einen aluminiumbeschichteten Keramikkörper für verbesserte thermische Effizienz und chemische Beständigkeit. wodurch es für verschiedene Anwendungen geeignet ist.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht