Wissen Was ist die Spotgröße bei XRF?Hauptmerkmale und Anwendungen erklärt
Autor-Avatar

Technisches Team · Kintek Solution

Aktualisiert vor 2 Monaten

Was ist die Spotgröße bei XRF?Hauptmerkmale und Anwendungen erklärt

Die Spotgröße der RFA (Röntgenfluoreszenz) liegt bei herkömmlichen Systemen typischerweise zwischen 20 mm und 60 mm.Diese große Spotgröße ermöglicht die Verwendung eines großen Winkels der Röhrenstrahlung zur Anregung, und das analysierte Probenvolumen wird über die gesamte Spotfläche gemittelt.Die RFA ist eine zerstörungsfreie Technik für die Element- und Materialanalyse, die schnelle und genaue Ergebnisse bei minimaler Probenvorbereitung liefert.Sie wird in der Industrie häufig zur Überprüfung der Materialzusammensetzung und der Schichtdicke eingesetzt und ist damit ein vielseitiges Werkzeug für die Qualitätskontrolle und für Forschungsanwendungen.

Die wichtigsten Punkte werden erklärt:

Was ist die Spotgröße bei XRF?Hauptmerkmale und Anwendungen erklärt
  1. Spotgröße von XRF:

    • Die Spotgröße herkömmlicher XRF-Systeme liegt typischerweise zwischen 20 mm bis 60 mm .
    • Diese große Spotgröße ist vorteilhaft, weil sie die Verwendung eines breiten Winkel der Röhrenstrahlung für die Anregung, was ein größeres analysiertes Probenvolumen gewährleistet.
    • Die durch die RFA berechnete Zusammensetzung wird über das gesamte analysierte Volumen gemittelt und liefert eine repräsentative Analyse der Probe.
  2. Die zerstörungsfreie Natur der XRF:

    • XRF ist ein zerstörungsfreie Technik, d. h. die Probe wird während der Analyse nicht beschädigt.
    • Diese Eigenschaft ist besonders vorteilhaft für die Analyse wertvoller oder unersetzlicher Proben, da diese nach dem Test wiederverwendet werden können.
  3. Schnelle und exakte Analyse:

    • XRF liefert schnelle Ergebnisse mit Analysezeiten zwischen 10 Sekunden bis zu einigen Minuten .
    • Die Technik ist sehr genau, mit einer Nachweisgrenze von 0,0005 mg g-1 und einer Analysegenauigkeit von 0,02% bis 2,0% .
  4. Breites Spektrum der Elementaranalyse:

    • XRF kann Elemente analysieren von Beryllium (Be) bis Uran (U) wobei leichtere Elemente (unterhalb von Natrium) schwieriger zu erkennen sind.
    • Es bietet einen breiten linearen Bereich des analysierten Elementgehalts, von Spurenwerten ( 0.0001% ) bis zu hohen Konzentrationen ( 99.999% ).
  5. Minimale Probenvorbereitung:

    • XRF erfordert wenig bis gar keine Probenvorbereitung und ermöglicht die direkte Analyse von festen, flüssigen oder pulverförmigen Proben.
    • Dies reduziert den mit der Probenvorbereitung verbundenen Zeit- und Kostenaufwand und macht die RFA zu einer praktischen Wahl für viele Anwendungen.
  6. Anwendungen von XRF:

    • XRF wird in der Industrie häufig eingesetzt für Qualitätskontrolle , Materialprüfung und Messung der Schichtdicke .
    • Es wird auch in der Forschung und Entwicklung verwendet für Elementaranalyse und Materialcharakterisierung .
  7. Erkennungstiefe:

    • Die Detektionstiefe von XRF reicht von 0,03 mm bis 3 mm abhängig von der Probe und den zu analysierenden Elementen.
    • Dadurch eignet sich die RFA sowohl für die Analyse von Oberflächenschichten als auch von Schüttgut.
  8. Merkmale des Instruments:

    • Moderne XRF-Geräte sind ausgestattet mit fortschrittlicher Elektronik und modernste Algorithmen die innerhalb von Sekunden hochwertige Messungen liefern.
    • Viele XRF-Systeme verfügen über Touchscreen-Displays für eine einfache Bedienung, die eine minimale Schulung der Benutzer erfordert.

Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die Spotgröße der RFA ein kritischer Parameter ist, der das Analysevolumen und die Genauigkeit der Ergebnisse beeinflusst.Mit ihrer großen Messfleckgröße, ihrer zerstörungsfreien Natur und ihren schnellen Analysemöglichkeiten ist die RFA ein leistungsstarkes Werkzeug für die Element- und Materialanalyse in verschiedenen Branchen.

Zusammenfassende Tabelle:

Merkmal Einzelheiten
Spot Größe 20 mm bis 60 mm
Analysezeit 10 Sekunden bis ein paar Minuten
Nachweisgrenze 0,0005 mg g-1
Genauigkeit 0,02% bis 2,0%
Elementarer Bereich Beryllium (Be) bis Uran (U)
Vorbereitung der Probe Minimal oder keine
Anwendungen Qualitätskontrolle, Materialprüfung, Schichtdickenmessung
Detektionstiefe 0,03 mm bis 3 mm
Merkmale des Geräts Fortschrittliche Elektronik, Touchscreen-Displays, modernste Algorithmen

Entdecken Sie, wie XRF Ihre Materialanalyse revolutionieren kann. Kontaktieren Sie unsere Experten noch heute !

Ähnliche Produkte

Kontinuierlicher Graphitierungsofen

Kontinuierlicher Graphitierungsofen

Der Hochtemperatur-Graphitisierungsofen ist eine professionelle Ausrüstung zur Graphitisierungsbehandlung von Kohlenstoffmaterialien. Es handelt sich um eine Schlüsselausrüstung für die Herstellung hochwertiger Graphitprodukte. Es verfügt über eine hohe Temperatur, einen hohen Wirkungsgrad und eine gleichmäßige Erwärmung. Es eignet sich für verschiedene Hochtemperaturbehandlungen und Graphitierungsbehandlungen. Es wird häufig in der Metallurgie-, Elektronik-, Luft- und Raumfahrtindustrie usw. eingesetzt.

5L Kurzwegdestillation

5L Kurzwegdestillation

Erleben Sie eine effiziente und hochwertige 5-Liter-Kurzwegdestillation mit unserem langlebigen Borosilikatglas, dem schnell aufheizenden Mantel und der feinen Montagevorrichtung. Extrahieren und reinigen Sie Ihre gemischten Zielflüssigkeiten problemlos unter Hochvakuumbedingungen. Erfahren Sie jetzt mehr über seine Vorteile!

10L Kurzwegdestillation

10L Kurzwegdestillation

Extrahieren und reinigen Sie gemischte Flüssigkeiten ganz einfach mit unserem 10-Liter-Kurzwegdestillationssystem. Hochvakuum und Niedertemperaturheizung für optimale Ergebnisse.

Graphitierungsofen mit Bodenentleerung für Kohlenstoffmaterialien

Graphitierungsofen mit Bodenentleerung für Kohlenstoffmaterialien

Bottom-out-Graphitisierungsofen für Kohlenstoffmaterialien, Ultrahochtemperaturofen bis 3100 °C, geeignet zum Graphitisieren und Sintern von Kohlenstoffstäben und Kohlenstoffblöcken. Vertikales Design, Bodenentleerung, bequemes Zuführen und Entladen, hohe Temperaturgleichmäßigkeit, geringer Energieverbrauch, gute Stabilität, hydraulisches Hebesystem, bequemes Be- und Entladen.

Vertikaler Hochtemperatur-Graphitisierungsofen

Vertikaler Hochtemperatur-Graphitisierungsofen

Vertikaler Hochtemperatur-Graphitisierungsofen zur Karbonisierung und Graphitisierung von Kohlenstoffmaterialien bis zu 3100 °C. Geeignet für die geformte Graphitisierung von Kohlenstofffaserfilamenten und anderen in einer Kohlenstoffumgebung gesinterten Materialien. Anwendungen in der Metallurgie, Elektronik und Luft- und Raumfahrt zur Herstellung hochwertiger Graphitprodukte wie Elektroden und Tiegel.

Vakuuminduktionsschmelzspinnsystem Lichtbogenschmelzofen

Vakuuminduktionsschmelzspinnsystem Lichtbogenschmelzofen

Entwickeln Sie mühelos metastabile Materialien mit unserem Vakuum-Schmelzspinnsystem. Ideal für Forschung und experimentelle Arbeiten mit amorphen und mikrokristallinen Materialien. Bestellen Sie jetzt für effektive Ergebnisse.

Vakuumrohr-Heißpressofen

Vakuumrohr-Heißpressofen

Reduzieren Sie den Formdruck und verkürzen Sie die Sinterzeit mit dem Vakuumrohr-Heißpressofen für hochdichte, feinkörnige Materialien. Ideal für refraktäre Metalle.

Negativmaterial-Graphitisierungsofen

Negativmaterial-Graphitisierungsofen

Der Graphitisierungsofen für die Batterieproduktion hat eine gleichmäßige Temperatur und einen geringen Energieverbrauch. Graphitisierungsofen für negative Elektrodenmaterialien: eine effiziente Graphitisierungslösung für die Batterieproduktion und erweiterte Funktionen zur Verbesserung der Batterieleistung.

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen

IGBT-Experimentalgraphitierungsofen, eine maßgeschneiderte Lösung für Universitäten und Forschungseinrichtungen mit hoher Heizeffizienz, Benutzerfreundlichkeit und präziser Temperaturregelung.

Hochtemperaturbeständige optische Quarzglasscheibe

Hochtemperaturbeständige optische Quarzglasscheibe

Entdecken Sie die Leistungsfähigkeit optischer Glasscheiben für die präzise Lichtmanipulation in der Telekommunikation, Astronomie und darüber hinaus. Erschließen Sie Fortschritte in der optischen Technologie mit außergewöhnlicher Klarheit und maßgeschneiderten Brechungseigenschaften.

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Glockenglas-Resonator-MPCVD-Maschine für Labor- und Diamantwachstum

Erhalten Sie hochwertige Diamantfilme mit unserer Bell-jar-Resonator-MPCVD-Maschine, die für Labor- und Diamantwachstum konzipiert ist. Entdecken Sie, wie die chemische Gasphasenabscheidung mit Mikrowellenplasma beim Züchten von Diamanten mithilfe von Kohlenstoffgas und Plasma funktioniert.

1700℃ Ofen mit kontrollierter Atmosphäre

1700℃ Ofen mit kontrollierter Atmosphäre

KT-17A Ofen mit kontrollierter Atmosphäre: 1700℃ Heizung, Vakuumversiegelungstechnologie, PID-Temperaturregelung und vielseitiger TFT-Smart-Touchscreen-Controller für Labor- und Industrieanwendungen.

Vakuum-Lichtbogenofen. Induktionsschmelzofen

Vakuum-Lichtbogenofen. Induktionsschmelzofen

Entdecken Sie die Leistungsfähigkeit des Vakuum-Lichtbogenofens zum Schmelzen von aktiven und hochschmelzenden Metallen. Hohe Geschwindigkeit, bemerkenswerter Entgasungseffekt und frei von Verunreinigungen. Jetzt mehr erfahren!

Vakuumschwebe-Induktionsschmelzofen Lichtbogenschmelzofen

Vakuumschwebe-Induktionsschmelzofen Lichtbogenschmelzofen

Erleben Sie präzises Schmelzen mit unserem Vakuumschwebeschmelzofen. Ideal für Metalle oder Legierungen mit hohem Schmelzpunkt, mit fortschrittlicher Technologie für effektives Schmelzen. Bestellen Sie jetzt für hochwertige Ergebnisse.

20L Kurzwegdestillation

20L Kurzwegdestillation

Extrahieren und reinigen Sie gemischte Flüssigkeiten effizient mit unserem 20-Liter-Kurzwegdestillationssystem. Hochvakuum und Niedertemperaturheizung für optimale Ergebnisse.

10-50L Einzelglasreaktor

10-50L Einzelglasreaktor

Suchen Sie ein zuverlässiges Einzelglasreaktorsystem für Ihr Labor? Unser 10–50-Liter-Reaktor bietet präzise Temperatur- und Rührkontrolle, dauerhafte Unterstützung und Sicherheitsfunktionen für synthetische Reaktionen, Destillation und mehr. Die anpassbaren Optionen und maßgeschneiderten Dienstleistungen von KinTek erfüllen Ihre Anforderungen.

Ofenrohr aus Aluminiumoxid (Al2O3) – hohe Temperatur

Ofenrohr aus Aluminiumoxid (Al2O3) – hohe Temperatur

Hochtemperatur-Aluminiumoxid-Ofenrohre vereinen die Vorteile einer hohen Härte von Aluminiumoxid, einer guten chemischen Inertheit und von Stahl und weisen eine ausgezeichnete Verschleißfestigkeit, Temperaturwechselbeständigkeit und mechanische Schockbeständigkeit auf.

80-150L Mantelglasreaktor

80-150L Mantelglasreaktor

Suchen Sie ein vielseitiges Mantelglasreaktorsystem für Ihr Labor? Unser 80–150-Liter-Reaktor bietet kontrollierte Temperatur, Geschwindigkeit und mechanische Funktionen für synthetische Reaktionen, Destillation und mehr. Mit anpassbaren Optionen und maßgeschneiderten Services ist KinTek genau das Richtige für Sie.


Hinterlassen Sie Ihre Nachricht