Vakuumofen
Vakuum-Lichtbogenofen. Induktionsschmelzofen
Artikelnummer : KT-VA
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Kapazität
- 1-200 kg
- Betriebsspannung
- 20-40 V
- Vakuumdruck
- 1,3-1,3x10-2
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Vakuumlichtbogenöfen werden hauptsächlich zum Schmelzen aktiver Metalle wie Titan, Niob, Zirkonium und hochschmelzender Metalle wie Wolfram und Molybdän verwendet. Darüber hinaus wird es auch zum Schmelzen von Eisenbasis, Nickelbasis, Kobaltbasis und anderen Legierungsmaterialien verwendet.
Der Vakuumlichtbogenofen zeichnet sich durch hohe Temperaturen, schnelles Schmelzen, einen bemerkenswerten Entgasungseffekt, keine feuerfeste Verunreinigung des geschmolzenen Metalls aus und ist in der Lage, nichtmetallische Einschlüsse im Metall zu reduzieren.
Vakuumlichtbogenöfen werden häufig beim Schmelzen und Reinigen von Ultrahochtemperatur-Metallmaterialien, Legierungsmaterialien mit hoher Entropie, Ausgangslegierungsmaterialien, hochschmelzenden Metallmaterialien sowie seltenen und Edelmetallmaterialien in Schulen, Forschungsinstituten und Institutionen eingesetzt. Es kann Sauerstoff und Verunreinigungen effektiv entfernen.
Technische Spezifikationen
Modell | KT-VA1 | KT-VA5 | KT-VA25 | KT-VA200 |
Kapazität (kg) | 1 | 5-15 | 25 | 200 |
Arbeitsspannung (V) | 20-40 | |||
Arbeitsstrom (A) | 1000A | 3000A | 6000A | 12000A |
Vakuumdruck (Pa) | 1,3-1,3x10-2 | |||
Elektrodengröße (mm) | Φ25-40 x 400 | Φ10-45x1200 | Φ30-60x1350 | Φ56-150x1745 |
Barrengröße (mm) | Φ60x100 | Φ80x135 | Φ100x400mm | Φ200x670mm |
Abmessungen (m) | 0,8x0,35x1,8 | 3,81 x 3,0 x 5,21 | 4,43 x 3,33 x 4,93 | 7,4x3,4x6,72 |
Warnungen
Die Sicherheit des Bedieners steht an erster Stelle! Bitte bedienen Sie das Gerät mit Vorsicht. Das Arbeiten mit brennbaren, explosiven oder giftigen Gasen ist sehr gefährlich. Der Bediener muss alle erforderlichen Vorsichtsmaßnahmen treffen, bevor er das Gerät in Betrieb nimmt. Das Arbeiten mit Überdruck in den Reaktoren oder Kammern ist gefährlich. Der Bediener muss die Sicherheitsvorschriften strikt einhalten. Besondere Vorsicht ist auch beim Umgang mit luftreaktiven Materialien geboten, insbesondere unter Vakuum. Durch ein Leck kann Luft in das Gerät eindringen und eine heftige Reaktion hervorrufen.
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FAQ
Was Ist Ein Vakuum-Induktionsofen Und Wie Funktioniert Er?
Wozu Dient Ein Vakuumofen?
Was Ist Ein CVD-Ofen?
Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) handelt es sich um eine Technologie, die verschiedene Energiequellen wie Erhitzen, Plasmaanregung oder Lichtstrahlung nutzt, um gasförmige oder dampfförmige chemische Substanzen an der Gasphase oder Gas-Feststoff-Grenzfläche chemisch zu reagieren und so feste Ablagerungen im Reaktor zu bilden chemische Reaktion. Vereinfacht ausgedrückt werden zwei oder mehr gasförmige Rohstoffe in eine Reaktionskammer eingeleitet, reagieren dann miteinander, bilden ein neues Material und scheiden es auf der Substratoberfläche ab.
Der CVD-Ofen ist ein kombiniertes Ofensystem mit einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer Gassteuereinheit und einer Vakuumeinheit. Er wird häufig für Experimente und die Produktion von Verbundwerkstoffvorbereitungen, mikroelektronischen Prozessen, Halbleiter-Optoelektronik, Solarenergienutzung, Glasfaserkommunikation und Supraleitern verwendet Technologie, Schutzbeschichtungsbereich.
Was Sind Die Wichtigsten Anwendungen Von Vakuum-Induktionsöfen?
Wie Funktioniert Ein Vakuum-Induktionsschmelzofen?
Was Ist Ein Vakuumlichtbogenschmelzverfahren?
Wie Läuft Ein Vakuumofen Ab?
Wie Funktioniert Ein CVD-Ofen?
Das CVD-Ofensystem besteht aus einer Hochtemperatur-Röhrenofeneinheit, einer präzisen Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle, einer Vakuumpumpstation und entsprechenden Montageteilen.
Die Vakuumpumpe dient dazu, die Luft aus dem Reaktionsrohr zu entfernen und sicherzustellen, dass sich keine unerwünschten Gase im Reaktionsrohr befinden. Anschließend heizt der Rohrofen das Reaktionsrohr auf eine Zieltemperatur auf. Anschließend kann die präzise Steuereinheit für die Reaktionsgasquelle eine andere einleiten Gase werden in einem festgelegten Verhältnis in das Ofenrohr für die chemische Reaktion eingeleitet, die chemische Gasphasenabscheidung erfolgt im CVD-Ofen.
Welche Vorteile Hat Der Einsatz Eines Vakuum-Induktionsofens?
Welche Vorteile Bietet Das Vakuum-Induktionsschmelzen?
Was Ist Ein VAR-Vakuumlichtbogen-Umschmelzofen (VAR)?
Welches Gas Wird In Einem Vakuumofen Verwendet?
Welches Gas Wird Im CVD-Prozess Verwendet?
Es gibt enorme Gasquellen, die im CVD-Prozess verwendet werden können. Zu den üblichen chemischen Reaktionen von CVD gehören Pyrolyse, Photolyse, Reduktion, Oxidation und Redox, sodass die an diesen chemischen Reaktionen beteiligten Gase im CVD-Prozess verwendet werden können.
Nehmen wir als Beispiel das CVD-Graphenwachstum. Die im CVD-Prozess verwendeten Gase sind CH4, H2, O2 und N2.
Welche Arten Von Materialien Können In Einem Vakuum-Induktionsofen Verarbeitet Werden?
Wie Hilft Vakuum Im Induktionsschmelzofen?
Wie Funktioniert Ein Vakuum-Lichtbogenschmelzofen?
Welches Heizelement Wird In Einem Vakuumofen Verwendet?
Was Ist Der Vorteil Des CVD-Systems?
- Es kann eine große Auswahl an Folien hergestellt werden, je nach Bedarf Metallfolien, Nichtmetallfolien und Mehrkomponenten-Legierungsfolien. Gleichzeitig können damit hochwertige Kristalle hergestellt werden, die mit anderen Methoden wie GaN, BP usw. nur schwer zu erhalten sind.
- Die Filmbildungsgeschwindigkeit ist hoch und beträgt normalerweise mehrere Mikrometer pro Minute oder sogar Hunderte Mikrometer pro Minute. Es ist möglich, große Mengen an Beschichtungen mit gleichmäßiger Zusammensetzung gleichzeitig abzuscheiden, was mit anderen Filmvorbereitungsmethoden wie Flüssigphasenepitaxie (LPE) und Molekularstrahlepitaxie (MBE) nicht zu vergleichen ist.
- Die Arbeitsbedingungen werden unter Normaldruck- oder Niedrigvakuumbedingungen durchgeführt, sodass die Beschichtung eine gute Beugung aufweist und Werkstücke mit komplexen Formen gleichmäßig beschichtet werden können, was PVD deutlich überlegen ist.
- Durch die gegenseitige Diffusion von Reaktionsgas, Reaktionsprodukt und Substrat kann eine Beschichtung mit guter Haftfestigkeit erhalten werden, die für die Herstellung oberflächenverstärkter Filme wie verschleißfester und korrosionsbeständiger Filme von entscheidender Bedeutung ist.
- Manche Filme wachsen bei einer Temperatur, die weit unter dem Schmelzpunkt des Filmmaterials liegt. Unter der Bedingung des Wachstums bei niedriger Temperatur reagieren das Reaktionsgas und die Reaktorwand sowie die darin enthaltenen Verunreinigungen nahezu nicht, sodass ein Film mit hoher Reinheit und guter Kristallinität erhalten werden kann.
- Durch chemische Gasphasenabscheidung kann eine glatte Abscheidungsoberfläche erzielt werden. Dies liegt daran, dass die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) im Vergleich zu LPE bei hoher Sättigung, mit hoher Keimbildungsrate, hoher Keimbildungsdichte und gleichmäßiger Verteilung auf der gesamten Ebene durchgeführt wird, was zu einer makroskopisch glatten Oberfläche führt. Gleichzeitig ist bei der chemischen Gasphasenabscheidung die durchschnittliche freie Weglänge von Molekülen (Atomen) viel größer als bei LPE, sodass die räumliche Verteilung der Moleküle gleichmäßiger ist, was der Bildung einer glatten Abscheidungsoberfläche förderlich ist.
- Geringe Strahlungsschäden, eine notwendige Voraussetzung für die Herstellung von Metalloxidhalbleitern (MOS) und anderen Geräten
Wie Verbessert Die Vakuumumgebung In Einem Vakuum-Induktionsofen Die Materialeigenschaften?
Was Ist Ein Vakuum-Induktionsschmelzofen?
Wofür Steht PECVD?
PECVD ist eine Technologie, die Plasma verwendet, um Reaktionsgas zu aktivieren, chemische Reaktionen auf der Oberfläche des Substrats oder im oberflächennahen Raum zu fördern und einen festen Film zu erzeugen. Das Grundprinzip der plasmachemischen Gasphasenabscheidungstechnologie besteht darin, dass unter der Einwirkung eines elektrischen HF- oder Gleichstromfeldes das Quellgas ionisiert wird, um ein Plasma zu bilden, das Niedertemperaturplasma als Energiequelle verwendet wird und eine geeignete Menge Reaktionsgas vorhanden ist eingeführt, und die Plasmaentladung wird verwendet, um das Reaktionsgas zu aktivieren und eine chemische Gasphasenabscheidung zu realisieren.
Je nach Methode zur Plasmaerzeugung kann es in HF-Plasma, Gleichstromplasma und Mikrowellenplasma-CVD usw. unterteilt werden.
Was Ist Der Unterschied Zwischen CVD Und PECVD?
Der Unterschied zwischen PECVD und der herkömmlichen CVD-Technologie besteht darin, dass das Plasma eine große Anzahl hochenergetischer Elektronen enthält, die die im chemischen Gasphasenabscheidungsprozess erforderliche Aktivierungsenergie bereitstellen und so den Energieversorgungsmodus des Reaktionssystems ändern können. Da die Elektronentemperatur im Plasma bis zu 10.000 K beträgt, kann die Kollision zwischen Elektronen und Gasmolekülen das Aufbrechen chemischer Bindungen und die Rekombination der Reaktionsgasmoleküle fördern, um aktivere chemische Gruppen zu erzeugen, während das gesamte Reaktionssystem eine niedrigere Temperatur aufrechterhält.
Im Vergleich zum CVD-Verfahren kann PECVD also den gleichen chemischen Gasphasenabscheidungsprozess bei einer niedrigeren Temperatur durchführen.
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Vacuum arc furnace is a great tool for melting active metals and preparing bulk amorphous materials by vacuum suction casting.
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The vacuum induction furnace allows for the smelting of refractory metals and the production of special corrosion-resistant and heat-resistant alloys.
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Vacuum induction melting furnace has the advantages of no air and vacuum induction furnace slag pollution, pure alloy, and low gas content.
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The vacuum induction furnace is widely used in the smelting and purification of various metal materials in schools, research institutes, and institutions.
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Vacuum arc furnace is characterized by high temperature, high speed melting, remarkable degassing effect, and free of refractory contamination of molten metal.
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The vacuum induction melting furnace is mainly composed of a furnace shell, inductor, crucible, furnace tilting mechanism, mold mechanism, power supply device, and a water cooling system.
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The vacuum arc furnace is mainly used to melt active metals such as titanium, niobium, zirconium and refractory metals such as tungsten and molybdenum.
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Vacuum induction melting technology and induction smelting technology have been applied in different occasions.
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The development and progress of vacuum induction furnace are mainly reflected in the gradual improvement of the overall structure of the equipment, the increasingly obvious trend of modularization and the more intelligent control system.
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Vacuum arc furnace is suitable for scientific research and small batch preparation of new vacuum metallurgy materials in universities and scientific research institutes.
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The vacuum induction furnace is widely used in the smelting and purification of ultra-high temperature metal materials, high entropy alloy materials, parent alloy materials, refractory metal materials, rare and precious metal materials.
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The vacuum arc furnace can effectively remove oxygen and impurities.
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The vacuum induction furnace is mainly used to melt active metals, such as titanium alloy, etc.
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The vacuum induction furnace can prevent melting of metals and alloys, and react with non-metallic inclusions.
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The vacuum induction furnace can remove the harmful dissolved gases and pollutants in molten metals.
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The vacuum induction furnace has the advantages of no air and vacuum induction furnace slag pollution, pure alloy, and low gas content.
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The vacuum arc furnace is widely used in the smelting and purification of various metal materials in schools, research institutes, and institutions.
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The vacuum induction melting furnace is mainly composed of a furnace shell, inductor, crucible, furnace tilting mechanism, mold mechanism, power supply device, and a water cooling system.
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